直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜的制作方法
【專利摘要】直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,包括塑料薄膜和金屬鍍層構(gòu)成的金屬化膜,所述的金屬鍍層為階梯式方阻鍍層,包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層,第一方阻鍍層的高度H1為90nm,第二方阻鍍層的高度H2為30nm,第三方阻鍍層的高度H3為3—4nm。本方案將金屬鍍層設(shè)計成階梯式方阻鍍層,包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層,由于產(chǎn)品對電流要求不高,在對稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面,只要出現(xiàn)薄弱點,就能夠?qū)⒏叻阶璨糠值慕饘馘儗訉友杆贇饣舭l(fā),薄膜自愈。由于薄弱點的面積甚小,對產(chǎn)品的電容量損失幾乎為零,所以這種階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。
【專利說明】
直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,屬于電氣元件領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]金屬化電力電容器的金屬化膜,其常規(guī)的結(jié)構(gòu)形式為一個1mm左右的加厚區(qū)域,其方塊區(qū)域的電阻是2.5Ω,其余部分電阻為7.5Ω。這樣一種結(jié)構(gòu)形式對于電壓要求較高而電流要求不高的產(chǎn)品來說,只要把金屬化膜的厚度加大就行了。金屬化膜的抗電壓強度是由材料本身的性質(zhì)所決定的,其一般的耐壓都比較高,但是,在生產(chǎn)工藝和設(shè)備方面的欠缺,往往會在其成品后產(chǎn)生不少的薄弱點,從而導(dǎo)致材料電壓擊穿。所以,在電容器產(chǎn)品設(shè)計的時候會選擇大大小于其耐壓強度的值,為了產(chǎn)品質(zhì)量安全,設(shè)計的電壓強度一般小于材料本身的1/3以下,這就會浪費不少的材料。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的是為了克服已有技術(shù)的缺點,提供一種階梯式方阻鍍層結(jié)構(gòu),鍍層能迅速氣化補償,薄膜自愈,避免電容量損失的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜。
[0004]本實用新型直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜的技術(shù)方案是:包括塑料薄膜和金屬鍍層構(gòu)成的金屬化膜,其特征在于所述的金屬鍍層為階梯式方阻鍍層,包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層,第一方阻鍍層的高度Hl為90nm,第二方阻鍍層的高度H2為30nm,第三方阻鍍層的高度H3為3—4nm。
[0005]本實用新型的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,將金屬鍍層設(shè)計成階梯式方阻鍍層,包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層,由于產(chǎn)品對電流要求不高,在對稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面,只要出現(xiàn)薄弱點,就能夠?qū)⒏叻阶璨糠值慕饘馘儗訉友杆贇饣舭l(fā),薄膜自愈。由于薄弱點的面積甚小,對產(chǎn)品的電容量損失幾乎為零,所以這種階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。
[0006]本實用新型的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,所述第一方阻鍍層的電阻為2.5Ω,第二方阻鍍層的電阻為7.5Ω,第三方阻鍍層的電阻為50—60Ω。所述的塑料薄膜為聚丙烯薄膜。所述的金屬鍍層為鋅鋁鍍層。能有效提高電容器金屬化膜的機械應(yīng)力和耐壓等電氣性能。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0008]本實用新型涉及一種直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,如圖1所示,包括塑料薄膜I和金屬鍍層2構(gòu)成的金屬化膜3,所述的金屬鍍層2為階梯式方阻鍍層,包括第一方阻鍍層4、第二方阻鍍層5和第三方阻鍍層6,第一方阻鍍層4的高度Hl為90nm,第二方阻鍍層5的高度H2為30nm,第三方阻鍍層6的高度H3為3—4nm。本方案將金屬鍍層設(shè)計成階梯式方阻鍍層,包括第一方阻鍍層4、第二方阻鍍層5和第三方阻鍍層6,由于產(chǎn)品對電流要求不高,在對稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面,只要出現(xiàn)薄弱點,就能夠?qū)⒏叻阶璨糠值慕饘馘儗訉友杆贇饣舭l(fā),薄膜自愈。由于薄弱點的面積甚小,對產(chǎn)品的電容量損失幾乎為零,所以這種階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。所述第一方阻鍍層4的電阻為2.5Ω,第二方阻鍍層5的電阻為7.5Ω,第三方阻鍍層6的電阻為50—60 Ω。所述的塑料薄膜I為聚丙烯薄膜。所述的金屬鍍層2為鋅鋁鍍層。能有效提1?電容器金屬化I旲的機械應(yīng)力和耐壓等電氣性能D
【主權(quán)項】
1.直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,包括塑料薄膜(I)和金屬鍍層(2)構(gòu)成的金屬化膜(3),其特征在于所述的金屬鍍層(2)為階梯式方阻鍍層,包括第一方阻鍍層(4)、第二方阻鍍層(5)和第三方阻鍍層(6),第一方阻鍍層(4)的高度Hl為90nm,第二方阻鍍層(5)的高度H2為30nm,第三方阻鍍層(6)的高度H3為3—4nm。2.如權(quán)利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,其特征在于所述第一方阻鍍層(4)的電阻為2.5Ω,第二方阻鍍層(5)的電阻為7.5Ω,第三方阻鍍層(6)的電阻為50—60 Ω。3.如權(quán)利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,其特征在于所述的塑料薄膜(I)為聚丙烯薄膜。4.如權(quán)利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜,其特征在于所述的金屬鍍層(2)為鋅鋁鍍層。
【文檔編號】H01G4/015GK205428701SQ201620168718
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年3月7日
【發(fā)明人】陳家驊
【申請人】浙江臺州特總電容器有限公司