一種基板處理系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種基板處理系統(tǒng)，屬于顯示面板制備技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的基板處理裝置中因風(fēng)扇無(wú)法將基板完全吹干及導(dǎo)致顯影液分布不均勻?qū)е碌娘@影失敗的問(wèn)題。本實(shí)用新型的基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置、沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置；傳送裝置位于基板處理裝置和顯影裝置下方，傳送裝置用于承載并運(yùn)送基板；基板處理裝置包括沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，風(fēng)干單元設(shè)置有多個(gè)出氣口，出氣口面向傳送裝置；風(fēng)干單元用于通過(guò)多個(gè)出氣口向傳送裝置提供氣體，以使基板干燥；顯影裝置包括顯影噴嘴，顯影噴嘴用于向風(fēng)干單元干燥后的基板噴射顯影液。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種基板處理系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于顯示面板制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基板處理系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在當(dāng)代面板制造行業(yè)中，人們對(duì)工藝精度的要求越來(lái)越高，尤其對(duì)在曝光階段產(chǎn)生的缺陷管控提出了更高的要求，其中，顯示面板在顯影過(guò)程中產(chǎn)生的缺陷一直是研發(fā)人員重點(diǎn)關(guān)注的對(duì)象。
[0003]目前，顯影過(guò)程主要包括以下步驟:(I)對(duì)基板進(jìn)行清洗，主要是為了去除基板表面的雜質(zhì)；(2)利用風(fēng)扇將清洗后殘留在基板表面的水分吹干；(3)顯影噴嘴向基板噴灑顯影液；(4)顯影液靜置一段時(shí)間后進(jìn)行顯影。
[0004]但現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題:(I)由于現(xiàn)有技術(shù)中利用風(fēng)扇對(duì)基板進(jìn)行吹干，風(fēng)扇的扇葉轉(zhuǎn)動(dòng)形成的吹干氣流是漩渦狀的，其吹在基板上會(huì)導(dǎo)致基板上部分區(qū)域受到的風(fēng)力大，吹干較充分，基本上沒(méi)有水分殘留，在基板上噴灑顯影液后，該部分的顯影液濃度不發(fā)生變化，但同時(shí)，也會(huì)導(dǎo)致基板上部分區(qū)域受到的風(fēng)力小，吹干不充分，基板上有水分殘留，而這部分殘留的水分會(huì)導(dǎo)致在基板上噴灑顯影液后，該部分的顯影液被稀釋?zhuān)达@影液濃度低，由此，顯影液濃度相對(duì)高的部分的圖案會(huì)形成破口，使其下層的圖案暴露出來(lái)，造成圖案成型失敗，顯影液濃度相對(duì)低的部分會(huì)發(fā)生顯影不完全的現(xiàn)象，也就是說(shuō)，清洗后的基板上的水分未吹干會(huì)導(dǎo)致顯影失敗；(2)由于基板在進(jìn)過(guò)風(fēng)扇吹干后直接被顯影噴嘴噴灑顯影液，風(fēng)扇形成的漩渦狀氣流會(huì)導(dǎo)致噴灑的顯影液分布不均勻(即有的地方顯影液多，有的地方顯影液少)，從而導(dǎo)致顯影失敗。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有的基板處理裝置中因風(fēng)扇無(wú)法將基板完全吹干及導(dǎo)致顯影液分布不均勻?qū)е碌娘@影失敗的問(wèn)題，提供一種能夠?qū)⒒逋耆蹈汕也挥绊戯@影液分布的基板處理系統(tǒng)。
[0006]解決本實(shí)用新型技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置、沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置;所述傳送裝置位于所述基板處理裝置和所述顯影裝置下方，所述傳送裝置用于承載并運(yùn)送基板；
[0007]所述基板處理裝置包括沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，所述風(fēng)干單元設(shè)置有多個(gè)出氣口，所述出氣口面向所述傳送裝置；
[0008]所述風(fēng)干單元用于通過(guò)多個(gè)所述出氣口向所述傳送裝置提供氣體；
[0009]所述顯影裝置包括顯影噴嘴，所述顯影噴嘴用于向所述風(fēng)干單元干燥后的基板噴射顯影液。
[0010]其中，所述出風(fēng)口提供的氣體的風(fēng)向與所述傳送裝置的運(yùn)送方向之間呈設(shè)定夾角。
[0011 ]其中，所述設(shè)定夾角大于O度且小于90度。
[0012]其中，所述基板處理裝置還包括:排風(fēng)單元，所述排風(fēng)單元位于所述傳送裝置下方，所述排風(fēng)單元用于將從所述基板上吹落的水汽排出。
[0013]其中，所述基板處理裝置還包括:供氣單元，所述供氣單元與所述風(fēng)干單元連接；所述供氣單元用于向所述風(fēng)干單元提供氣體。
[0014]其中，所述供氣單元為氣栗，所述供氣單元通過(guò)導(dǎo)通管道與所述風(fēng)干單元連接。
[0015]其中，所述基板處理裝置還包括:感應(yīng)單元，所述感應(yīng)單元位于所述清洗單元前方;所述感應(yīng)單元用于感應(yīng)基板的位置。
[0016]其中，所述感應(yīng)單元為傳感器。
[0017]本實(shí)用新型的基板處理系統(tǒng)中，包括傳送裝置、沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置，基板處理裝置包括沿傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，風(fēng)干單元設(shè)置有多個(gè)出氣口，出氣口面向傳送裝置，風(fēng)干單元用于通過(guò)多個(gè)出氣口向傳送裝置提供氣體，以使基板干燥，通過(guò)將現(xiàn)有技術(shù)中的風(fēng)扇改為設(shè)置有多個(gè)朝向傳送裝置提供氣體的出氣口，使氣體朝向同一個(gè)方向進(jìn)行吹干，可以使吹在基板上各部分的氣體量一致，將清洗后的基板上的水分吹干，當(dāng)基板上噴灑顯影液后不會(huì)造成基板上不同位置的顯影液濃度不同的現(xiàn)象，從而避免了因顯影液濃度不同導(dǎo)致的顯影失敗;而且，由于出氣口面向傳送裝置，因此，不會(huì)對(duì)噴灑在基板上的顯影液造成影響，即不影響顯影液的噴灑均勻性，從而避免了顯影失敗。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本實(shí)用新型的實(shí)施例1的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為本實(shí)用新型的實(shí)施例1中的風(fēng)干單元的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖3為本實(shí)用新型的實(shí)施例1中的顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]其中，附圖標(biāo)記為:10、傳送裝置；11、輥輪；12、驅(qū)動(dòng)器；21、清洗單元；22、風(fēng)干單元;221、出氣口； 23、排風(fēng)單元;24、供氣單元;25、感應(yīng)單元;30、顯影裝置;31、顯影噴嘴;40、基板。
【具體實(shí)施方式】
[0022]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0023]實(shí)施例1:
[0024]請(qǐng)參照?qǐng)D1至3，本實(shí)施例提供一種基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置10、沿傳送裝置10的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置30;傳送裝置10位于基板處理裝置和顯影裝置30下方，傳送裝置10用于承載并運(yùn)送基板40。
[0025]由上述內(nèi)容可知，基板40放置在傳送裝置10上，由傳送裝置10承載并運(yùn)送基板40完成后，通過(guò)基板處理裝置和顯影裝置30對(duì)基板40進(jìn)行處理。優(yōu)選地，傳送裝置10可以為傳送帶等利用驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)的傳送裝置。例如，傳送裝置10可以包括多個(gè)輥輪11和驅(qū)動(dòng)器12等部件;其中，驅(qū)動(dòng)器12帶動(dòng)多個(gè)輥輪11轉(zhuǎn)動(dòng)，輥輪11上覆蓋有傳送帶，驅(qū)動(dòng)器12帶動(dòng)傳送帶移動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)基板40的運(yùn)送。當(dāng)然，傳送裝置10只要能起到承載并運(yùn)送基板40的作用即可，在此不再贅述。
[0026]請(qǐng)參照?qǐng)D1和圖2，基板處理裝置包括沿傳送裝置10的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元21和風(fēng)干單元22，風(fēng)干單元22設(shè)置有多個(gè)出氣口221，出氣口221面向傳送裝置10;風(fēng)干單元22用于通過(guò)多個(gè)出氣口 221向傳送裝置10提供氣體，以使基板40干燥。
[0027]從圖2中可以看出，風(fēng)干單元22設(shè)置有多個(gè)出氣口221，在對(duì)基板40進(jìn)行吹干時(shí)，多個(gè)出氣口 221同時(shí)向基板40進(jìn)行噴出氣體，優(yōu)選地，多個(gè)出氣口 221均勻的分布在風(fēng)干單元22中，從而使基板40在吹干過(guò)程中，利用基板40上各位置受到的相同的氣體量，將清洗后的基板40上的水分吹干，從而在基板40上噴灑顯影液后不會(huì)造成基板40上不同位置的顯影液濃度不同，進(jìn)而避免了因顯影液濃度不同導(dǎo)致的顯影失敗。
[0028]其中，出風(fēng)口221提供的氣體的風(fēng)向與傳送裝置10的運(yùn)送方向之間呈設(shè)定夾角。
[0029]也就是說(shuō)，多個(gè)出風(fēng)口221是沿迎向基板40的方向進(jìn)行吹干的，之所以如此設(shè)置，是由于迎向基板40進(jìn)行吹干，可以增加風(fēng)干的長(zhǎng)度。具體地，由于氣流的方向與基板40的運(yùn)送方向相反，因此，在基板40向前運(yùn)送時(shí)，氣流可以將殘留在基板40上的水分向與基板40運(yùn)送方向相反的方向吹，從而延長(zhǎng)了水分在基板40上的吹干距離，更有利于基板40上殘留水分的吹干。
[0030]其中，設(shè)定夾角大于O度且小于90度。
[0031]進(jìn)一步優(yōu)選地，該設(shè)定夾角大于15度且小于60度。當(dāng)然，也可以根據(jù)具體請(qǐng)具體設(shè)定。
[0032]其中，基板處理裝置還包括:排風(fēng)單元23，排風(fēng)單元23位于傳送裝置10下方，排風(fēng)單元23用于將從基板40上吹落的水汽排出。
[0033]之所以設(shè)置排風(fēng)單元23，是由于在吹干過(guò)程中，氣體會(huì)將殘留在基板40上的液滴吹成水汽或很小的液滴被氣體帶走，設(shè)置排風(fēng)單元23，可以將這些帶有水汽或小液滴的氣體排出，從而避免這些帶有水汽的氣體再次吹在基板40上，影響吹干效果，提高風(fēng)干效率；而之所以將排風(fēng)單元23設(shè)置在傳送裝置10的下方，是由于若將排風(fēng)單元23設(shè)置在傳送裝置10的上方，會(huì)直接將未對(duì)基板40進(jìn)行吹干的從出氣口221中噴出的干燥氣體直接排出，影響吹干效果，而將排風(fēng)單元23設(shè)置在傳送裝置10的下方，可以將已經(jīng)吹過(guò)基板40并帶有水汽的氣體排出，提高吹干效果。
[0034]其中，基板處理裝置還包括:供氣單元24，供氣單元24與風(fēng)干單元22連接;供氣單元24用于向風(fēng)干單元22提供氣體。
[0035]相較于現(xiàn)有技術(shù)的風(fēng)扇而言，本實(shí)施例的供氣單元24在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下可以自行旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生氣流，而本實(shí)施例的風(fēng)干單元22無(wú)法如現(xiàn)有技術(shù)般產(chǎn)生氣流，因此需要設(shè)置為風(fēng)干單元22提供氣體的供氣單元24，供氣單元24與風(fēng)干單元22連接，其可以設(shè)置在基板處理裝置內(nèi)部，也可以設(shè)置在基板處理裝置外部，或者，供氣單元24不作為基板處理裝置的一部分，而是單獨(dú)作為一個(gè)獨(dú)立的裝置與基板處理裝置的風(fēng)干單元22連接(在此不具體畫(huà)出)，只要能夠?yàn)轱L(fēng)干單元22提供氣體即可，在此不對(duì)其位置進(jìn)行贅述。
[0036]其中，供氣單元24為氣栗，供氣單元24通過(guò)導(dǎo)通管道與風(fēng)干單元22連接。
[0037]當(dāng)然，供氣單元24還可以為其它類(lèi)型的供氣裝置，在此不再贅述。另外，在基板處理裝置中還可以設(shè)置調(diào)節(jié)閥，通過(guò)調(diào)節(jié)閥控制供氣單元24向風(fēng)干單元22提供的氣流大小，以便將清洗后的基板40上的水分完全吹干。
[0038]其中，基板處理裝置還包括:感應(yīng)單元25，感應(yīng)單元25位于清洗單元21前方;感應(yīng)單元25用于感應(yīng)基板40的位置。
[0039]也就是說(shuō)，基板40進(jìn)入清洗單元21進(jìn)行清洗前，需要先受到感應(yīng)單元25的感應(yīng)，感應(yīng)單元25用于感應(yīng)基板40的位置，包括感應(yīng)基板40是否進(jìn)入基板處理裝置以及基板40在傳送裝置10上的位置是否準(zhǔn)確等，一方面，可以避免因基板40在傳送裝置10上的位置不準(zhǔn)確導(dǎo)致的位置偏移和工藝處理不充分，另一方面，也可以在沒(méi)有基板40待處理的情況下，暫停清洗單元21和風(fēng)干單元22，從而節(jié)約資源和能耗。
[0040]其中，感應(yīng)單元25為傳感器。當(dāng)然，感應(yīng)單元25的類(lèi)型并不局限于此，還可以是其他種類(lèi)的傳感單元，在此不再贅述。
[0041]請(qǐng)參照?qǐng)D3，顯影裝置30包括顯影噴嘴31，顯影噴嘴31用于向風(fēng)干單元22干燥后的基板40噴射顯影液。
[0042]在風(fēng)干單元22將殘留在基板40上的水分吹干后，基板40被傳送裝置10運(yùn)送至顯影裝置30內(nèi)，并通過(guò)顯影噴嘴31向基板40上噴灑顯影液。優(yōu)選地，顯影噴嘴31均勻的分布在顯影裝置30中，因此，可以確?；?0上各部分被噴灑的顯影液的量相同，從而避免了因基板40上的顯影液分布不均勻?qū)е碌娘@影失敗。
[0043]本實(shí)施例的基板處理系統(tǒng)，包括傳送裝置10、依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置30，基板處理裝置包括依次設(shè)置的清洗單元21和風(fēng)干單元22，風(fēng)干單元22設(shè)置有多個(gè)出氣口221，出氣口221面向傳送裝置10，風(fēng)干單元22用于通過(guò)多個(gè)出氣口221向傳送裝置10提供氣體，以使基板40干燥，通過(guò)將現(xiàn)有技術(shù)中的風(fēng)扇改為設(shè)置有多個(gè)朝向傳送裝置提供氣體的出氣口，使氣體朝向同一個(gè)方向進(jìn)行吹干，可以使吹在基板上各部分的氣體量一致，將清洗后的基板上的水分吹干，當(dāng)基板上噴灑顯影液后不會(huì)造成基板上不同位置的顯影液濃度不同的現(xiàn)象，從而避免了因顯影液濃度不同導(dǎo)致的顯影失敗;而且，由于出氣口面向傳送裝置，因此，不會(huì)對(duì)噴灑在基板上的顯影液造成影響，即不影響顯影液的噴灑均勻性，從而避免了顯影失敗。
[0044]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本實(shí)用新型的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本實(shí)用新型并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于，包括傳送裝置、沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的基板處理裝置和顯影裝置;所述傳送裝置位于所述基板處理裝置和所述顯影裝置下方，所述傳送裝置用于承載并運(yùn)送基板； 所述基板處理裝置包括沿所述傳送裝置的傳送方向依次設(shè)置的清洗單元和風(fēng)干單元，所述風(fēng)干單元設(shè)置有多個(gè)出氣口，所述出氣口面向所述傳送裝置； 所述風(fēng)干單元用于通過(guò)多個(gè)所述出氣口向所述傳送裝置提供氣體； 所述顯影裝置包括顯影噴嘴，所述顯影噴嘴用于向所述風(fēng)干單元干燥后的基板噴射顯影液。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述出氣口提供的氣體的風(fēng)向與所述傳送裝置的運(yùn)送方向之間呈設(shè)定夾角。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述設(shè)定夾角大于O度且小于90度。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括:排風(fēng)單元，所述排風(fēng)單元位于所述傳送裝置下方，所述排風(fēng)單元用于將從所述基板上吹落的水汽排出。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括:供氣單元，所述供氣單元與所述風(fēng)干單元連接;所述供氣單元用于向所述風(fēng)干單元提供氣體。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述供氣單元為氣栗，所述供氣單元通過(guò)導(dǎo)通管道與所述風(fēng)干單元連接。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括:感應(yīng)單元，所述感應(yīng)單元位于所述清洗單元前方;所述感應(yīng)單元用于感應(yīng)基板的位置。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述感應(yīng)單元為傳感器。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK205488061SQ201620207378
【公開(kāi)日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年3月17日
【發(fā)明人】王峰超
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司