離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，包含殼體、三塊帶圓孔的極板、探測(cè)器、飛行管和兩組平行極板，三塊帶圓孔的極板、探測(cè)器、飛行管和兩組平行極板設(shè)置在殼體內(nèi)，三塊帶圓孔的極板均豎直設(shè)置在殼體內(nèi)一端并且相互平行，探測(cè)器豎直固定在殼體內(nèi)另一端，飛行管水平固定在殼體內(nèi)，兩組平行極板設(shè)置在飛行管內(nèi)側(cè)，每組平行極板分別由接地極板和帶電極板構(gòu)成，接地極板接地，帶電極板與直流電源連接。本實(shí)用新型可以把外場(chǎng)對(duì)離子軌跡造成的偏移影響給予糾正，實(shí)現(xiàn)具備更高質(zhì)量效果的離子速度成像。
【專利說(shuō)明】
離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種糾正裝置，特別是一種離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前通行的離子速度成像儀是荷蘭科學(xué)家Eppink和Parker在1997年設(shè)計(jì)，他們通過(guò)設(shè)計(jì)三塊帶圓孔的極板，在一定的電壓配置下，形成離子透鏡，實(shí)現(xiàn)對(duì)具有相同速度但是不同位置的帶電粒子進(jìn)行聚焦，然后被探測(cè)器收集。在離子透鏡作用下，不同位置的帶電粒子聚焦在探測(cè)器的一個(gè)點(diǎn)上，這大大提高了離子速度成像的分辨率。
[0003]然而，在目前通行的離子速度成像裝置上，測(cè)得的離子速度影像通常很難正好在探測(cè)器中央。這是由于外場(chǎng)影響造成的，外場(chǎng)影響包括外電場(chǎng)、外磁場(chǎng)，這些來(lái)源具體到離子速度成像儀附近的電子類設(shè)備，甚至包括微弱的地磁場(chǎng)。離子速度成像儀成像容易受到外場(chǎng)影響，如外部電場(chǎng)、外部磁場(chǎng)，造成離子飛行軌跡偏移，成像不在探測(cè)器的正中間，嚴(yán)重影響離子的成像質(zhì)量和采集效果。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，從而保證離子成像在探測(cè)器正中間。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:
[0006]—種離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，其特征在于:包含殼體、三塊帶圓孔的極板、探測(cè)器、飛行管和兩組平行極板，三塊帶圓孔的極板、探測(cè)器、飛行管和兩組平行極板設(shè)置在殼體內(nèi)，三塊帶圓孔的極板均豎直設(shè)置在殼體內(nèi)一端并且相互平行，探測(cè)器豎直固定在殼體內(nèi)另一端，飛行管水平固定在殼體內(nèi)，兩組平行極板設(shè)置在飛行管內(nèi)側(cè)，每組平行極板分別由接地極板和帶電極板構(gòu)成，接地極板接地，帶電極板與直流電源連接。
[0007]進(jìn)一步地，所述兩組平行極板，一組水平設(shè)置，另一組豎直設(shè)置構(gòu)成兩端開(kāi)口的方形容腔，帶電離子從方形容腔內(nèi)通過(guò)。
[0008]進(jìn)一步地，所述兩組平行極板的每組平行極板的接地極板相鄰設(shè)置，帶電極板相鄰設(shè)置。
[0009]進(jìn)一步地，所述兩組平行極板的每組平行極板厚度為10mm，間距為200mm，極板長(zhǎng)度為150mm。
[0010]進(jìn)一步地，所述直流電源為可調(diào)直流電源。
[0011]進(jìn)一步地，所述可調(diào)直流電源的調(diào)諧范圍為-300V到300V。
[0012]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)和效果:本實(shí)用新型的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置可以把外場(chǎng)對(duì)離子軌跡造成的偏移影響給予糾正，實(shí)現(xiàn)具備更高質(zhì)量效果的離子速度成像。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置的示意圖。
[0014]圖2是本實(shí)用新型的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置的側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖并通過(guò)實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以下實(shí)施例是對(duì)本實(shí)用新型的解釋而本實(shí)用新型并不局限于以下實(shí)施例。
[0016]實(shí)施例1:
[0017]如圖所示，一種離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，包含殼體1、三塊帶圓孔的極板2、探測(cè)器3、飛行管4和兩組平行極板5，三塊帶圓孔的極板2、探測(cè)器3、飛行管4和兩組平行極板5設(shè)置在殼體I內(nèi)，三塊帶圓孔的極板2均豎直設(shè)置在殼體I內(nèi)一端并且相互平行，探測(cè)器3豎直固定在殼體I內(nèi)另一端，飛行管4水平固定在殼體I內(nèi)，兩組平行極板5設(shè)置在飛行管4內(nèi)側(cè)，每組平行極板5分別由接地極板和帶電極板構(gòu)成，接地極板接地，帶電極板與直流電源6連接。
[0018]兩組平行極板5，一組水平設(shè)置，另一組豎直設(shè)置構(gòu)成兩端開(kāi)口的方形容腔，帶電離子從方形容腔內(nèi)通過(guò)。兩組平行極板5的每組平行極板的接地極板相鄰設(shè)置，帶電極板相鄰設(shè)置。兩組平行極板5的每組平行極板厚度為10mm，間距為200mm，極板長(zhǎng)度為150mm。
[0019]實(shí)施例2:
[0020]一種離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，包含殼體1、三塊帶圓孔的極板2、探測(cè)器3、飛行管4和兩組平行極板5，三塊帶圓孔的極板2、探測(cè)器3、飛行管4和兩組平行極板5設(shè)置在殼體I內(nèi)，三塊帶圓孔的極板2均豎直設(shè)置在殼體I內(nèi)一端并且相互平行，探測(cè)器3豎直固定在殼體I內(nèi)另一端，飛行管4水平固定在殼體I內(nèi)，兩組平行極板5設(shè)置在飛行管4內(nèi)側(cè)，每組平行極板5分別由接地極板和帶電極板構(gòu)成，接地極板接地，帶電極板與直流電源6連接。
[0021 ]兩組平行極板5，一組水平設(shè)置，另一組豎直設(shè)置構(gòu)成兩端開(kāi)口的方形容腔，帶電離子從方形容腔內(nèi)通過(guò)。兩組平行極板5的每組平行極板的接地極板相鄰設(shè)置，帶電極板相鄰設(shè)置。兩組平行極板5的每組平行極板厚度為1mm，間距為200mm，極板長(zhǎng)度為150mm。直流電源6為可調(diào)直流電源，可調(diào)直流電源的調(diào)諧范圍為-300V到300V。
[0022]本實(shí)用新型的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置的工作原理:調(diào)整可調(diào)直流電源以調(diào)整離子飛行軌跡的整體上下移動(dòng)，在探測(cè)器觀察未糾正的影像偏移情況，然后調(diào)整可調(diào)直流電源行上下糾正，直到影像上下中心在探測(cè)器心。通過(guò)調(diào)整可調(diào)直流電源可以調(diào)整離子飛行軌跡的整體左右移動(dòng)，在探測(cè)器上觀察未糾正的影像偏移情況，然后調(diào)整可調(diào)直流電源進(jìn)行左右糾正，直到影像左右中心在探測(cè)器中心。
[0023]本說(shuō)明書中所描述的以上內(nèi)容僅僅是對(duì)本實(shí)用新型所作的舉例說(shuō)明。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實(shí)用新型說(shuō)明書的內(nèi)容或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，其特征在于:包含殼體、三塊帶圓孔的極板、探測(cè)器、飛行管和兩組平行極板，三塊帶圓孔的極板、探測(cè)器、飛行管和兩組平行極板設(shè)置在殼體內(nèi)，三塊帶圓孔的極板均豎直設(shè)置在殼體內(nèi)一端并且相互平行，探測(cè)器豎直固定在殼體內(nèi)另一端，飛行管水平固定在殼體內(nèi)，兩組平行極板設(shè)置在飛行管內(nèi)側(cè)，每組平行極板分別由接地極板和帶電極板構(gòu)成，接地極板接地，帶電極板與直流電源連接。2.按照權(quán)利要求1所述的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，其特征在于:所述兩組平行極板，一組水平設(shè)置，另一組豎直設(shè)置構(gòu)成兩端開(kāi)口的方形容腔，帶電離子從方形容腔內(nèi)通過(guò)。3.按照權(quán)利要求1或2所述的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，其特征在于:所述兩組平行極板的每組平行極板的接地極板相鄰設(shè)置，帶電極板相鄰設(shè)置。4.按照權(quán)利要求1或2所述的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，其特征在于:所述兩組平行極板的每組平行極板厚度為10mm，間距為200mm，極板長(zhǎng)度為150mm。5.按照權(quán)利要求1所述的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，其特征在于:所述直流電源為可調(diào)直流電源。6.按照權(quán)利要求5所述的離子速度成像儀外場(chǎng)偏移影響糾正裝置，其特征在于:所述可調(diào)直流電源的調(diào)諧范圍為-300V到300V。
【文檔編號(hào)】H01J49/40GK205542704SQ201620133687
【公開(kāi)日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年2月23日
【發(fā)明人】劉玉柱, 敖曠, 曹兆樓, 陳云云, 鄭改革
【申請(qǐng)人】南京信息工程大學(xué)