一種樣品等離子處理專用電極外置裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，包括：真空艙體、陽極、連接裝置、絕緣柱和陰極。所述真空艙體采用石英玻璃，真空艙體為圓柱形，內含樣品材料和處理氣體；所述陽極和陰極緊貼于真空艙體外表面，所述陽極和陰極的兩側端部，分別通過連接裝置連接在所述絕緣柱上，安裝在絕緣柱上的陽極和陰極組成一個和真空艙體同心的圓柱，使得電極更接近待處理的樣品材料。當進行等離子處理時，真空艙體內部潔凈度很高，因此能夠對要求真空艙體高度潔凈的樣品材料進行等離子處理，同時，那些對金屬有腐蝕性的樣品材料也不會對真空艙體、陽極和陰極造成腐蝕。
【專利說明】
一種樣品等離子處理專用電極外置裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及電極外置裝置，特別是涉及一種樣品等離子處理專用電極外置裝置。
【背景技術】
[0002]等離子表面處理是一種新興的高科技表面處理方法，通過處理可以使材料表面實現(xiàn)親水、疏水等特殊功能，以便大幅度增強表面的粘合、焊接、涂鍍或者是防水防腐蝕等能力。這一處理手段目前被廣泛地應用于電子、芯片、航空航天、兵器、汽車等領域，而且隨著科技的發(fā)展此技術的應用也越來越廣泛。
[0003]現(xiàn)有通常的等離子表面處理技術是，在真空艙體內，導入射頻或高頻電源，連接到并聯(lián)的、水平布置(或垂直)的一個或者數(shù)個電極板上。電極板之間有一定的間隙，可以在間隙處放入水平托盤，需要處理的樣品就放置在托盤上。進行處理時，樣品放入托盤并把托盤置入艙體，用真空栗把艙體內的真空度抽到0.1-0.6mbar左右，通入處理氣體并接通射頻電源。因為接入的射頻電源一般電壓在1000V至1600V之間，艙體內的電極板被接通射頻電源后會擊穿艙體內通入的處理氣體，將氣體分子電離產(chǎn)生等離子，電極板和艙體之間存在電位差，等離子在電位差的作用下從電極板向艙體或者接地的陰極運動，并轟擊放置在托盤上的樣品，從而使樣品得到處理。
[0004]但是這種常用的等離子處理設備結構對于要求真空艙體極端潔凈或對金屬有腐蝕性的樣品材料處理是非常困難的，主要存在的問題是:1、對金屬有腐蝕性的樣品材料，會對真空艙體和電極產(chǎn)生腐蝕;2、等離子會對電極濺射，從而產(chǎn)生一些污染物。

【發(fā)明內容】

[0005]為了解決以上問題，本實用新型采用的是石英玻璃材質真空艙體(I)及電極外置技術，用于對艙室要求極端潔凈或對金屬有腐蝕性樣品進行等離子處理，以及用于處理氣體對金屬有腐蝕性的工藝。
[0006]為了達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是:一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，包括:真空艙體、陽極、連接裝置、絕緣柱和陰極。
[0007]可選地，所述真空艙體采用石英玻璃，真空艙體為圓柱形，內含樣品材料及處理氣體。
[0008]可選地，所述陽極和陰極緊貼于真空艙體外表面，所述陽極接射頻電源，陰極接地。
[0009]可選地，所述陽極和陰極為弧形電極，上面均布圓孔，圓孔直徑為3-20mm。
[0010]可選地，所述陽極和陰極的兩側端部，分別通過連接裝置連接在所述絕緣柱上，安裝在絕緣柱上的陽極和陰極組成一個和真空艙體同心的圓柱，使得電極更接近待處理的樣品材料。
[0011 ]可選地，所述連接裝置為螺栓。
[0012]可選地，所述絕緣柱采用聚四氟乙烯或陶瓷，絕緣柱高度為5-50mm。
[0013]本實用新型具體具體操作時，將樣品材料放進真空艙體內，啟動真空栗，當真空艙體內部真空至0.1-0.6mbar以達到等離子發(fā)生時所需要的真空度時，啟動處理氣體輸入，并維持真空度保持穩(wěn)定。啟動設定好了功率的射頻電源，這時與射頻電源連接的電極帶電，并電離處理氣體，產(chǎn)生等離子，等離子充滿整個真空艙體內部，從而對樣品材料進行等離子處理，處理完后，關閉電機和射頻電源，通入空氣以使真空艙體內的真空與大氣連通，使真空艙體內恢復常壓，打開艙門，將樣品材料拿出，完成處理。
[0014]本實用新型的有益效果是:當進行等離子處理時，真空艙體內部潔凈度很高，因此能夠用于對真空艙體要求極端潔凈的樣品材料進行等離子處理，同時，那些對金屬有腐蝕性的樣品材料及處理氣體也不會對真空艙體、陽極和陰極造成腐蝕;此布局方式同樣適用于其它真空設備，如真空鍍膜設備、真空干燥機、真空沉積設備、真空清洗機等;該裝置使用的零件均結構簡單，易于實現(xiàn)，成本低。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實用新型的樣品等離子處理專用電極外置裝置連接示意圖；
[0016]圖中:1、真空艙體，2、陽極，3、連接裝置，4、絕緣柱，5、陰極。
【具體實施方式】
[0017]下面結合附圖對本實用新型進一步說明。
[0018]如圖1所示，本實用新型的一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，包括:真空艙體1、陽極2、連接裝置3、絕緣柱4和陰極5。
[0019]所述真空艙體I采用石英玻璃，真空艙體I為圓柱形，內含樣品材料及處理氣體。
[0020]所述陽極2和陰極5緊貼于所述真空艙體I外表面，所述陽極接射頻電源，陰極接地。
[0021 ] 具體地，所述陽極2和陰極5為弧形電極，上面均布圓孔，圓孔直徑為3-20_。
[0022]所述陽極2和陰極5的兩側端部分別通過連接裝置3連接在絕緣柱4上，安裝在絕緣柱上的陽極2和陰極5組成一個和真空艙體I同心的圓柱，使得電極更接近待處理的樣品材料。
[0023]具體地，所述連接裝置3選用螺栓，但其他能夠將陽極2和陰極5連接在絕緣柱4上的裝置均可使用，在此對連接裝置不做限定。
[0024]所述絕緣柱4采用聚四氟乙烯或陶瓷，絕緣柱4高度為5-50mm。
[0025]本實用新型具體具體操作時，將樣品材料放進真空艙體I內，啟動真空栗，當真空艙體I內部真空至0.1-0.6mbar以達到等離子發(fā)生時所需要的真空度時，啟動處理氣體輸入，并維持真空度保持穩(wěn)定。啟動設定好了功率的射頻電源，這時與射頻電源連接的電極帶電，并電離處理氣體，產(chǎn)生等離子，等離子充滿整個真空艙體I內部，從而對樣品材料進行等離子處理，處理完后，關閉電機和射頻電源，通入空氣以使真空艙體I內的真空與大氣連通，使真空艙體(I)內恢復常壓，打開艙門，將樣品材料拿出，完成處理。
[0026]本實用新型的有益效果是:當進行等離子處理時，真空艙體內部潔凈度很高，因此能夠用于對真空艙體要求極端潔凈的樣品材料進行等離子處理，同時，那些對金屬有腐蝕性的樣品材料及處理氣體也不會對真空艙體、陽極和陰極造成腐蝕;此布局方式同樣適用于其它真空設備，如真空鍍膜設備、真空干燥機、真空沉積設備、真空清洗機等;該裝置使用的零件均結構簡單，易于實現(xiàn)，成本低。
[0027]以上結合附圖對本實用新型的實施方式進行了詳細說明，但是本實用新型不限于上述實施方式，凡依據(jù)本實用新型申請專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應屬本實用新型的涵蓋范圍。
【主權項】
1.一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，其特征是:包括:真空艙體(I)、陽極(2)、連接裝置(3)、絕緣柱(4)和陰極(5); 所述真空艙體(I)采用石英玻璃材質，真空艙體(I)為圓柱形，內含樣品材料及處理氣體;所述陽極(2)和陰極(5)緊貼于真空艙體(I)外表面，所述陽極(2)和陰極(5)的兩側末端相連后組成一個和真空艙體(I)同心的圓柱。2.根據(jù)權利要求1所述的一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，其特征是，所述陽極(2)接射頻電源，所述陰極(5)接地。3.根據(jù)權利要求1或2所述的一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，其特征是，所述陽極(2)和陰極(5)為弧形電極，上面均布圓孔，所述圓孔直徑為3-20_。4.根據(jù)權利要求1或2所述的一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，其特征是，所述陽極(2)和陰極(5)的兩側端部，分別通過連接裝置(3)連接在所述絕緣柱(4)上。5.根據(jù)權利要求4所述的一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，其特征是，所述連接裝置(3)為螺栓。6.根據(jù)權利要求4所述的一種樣品等離子處理專用電極外置裝置，所述絕緣柱(4)采用聚四氟乙烯或陶瓷，絕緣柱(4)高度為5-50mm。
【文檔編號】H01J37/32GK205582880SQ201620340323
【公開日】2016年9月14日
【申請日】2016年4月21日
【發(fā)明人】鄭亮
【申請人】鄭亮