一種發(fā)光二極管的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種發(fā)光二極管,包括組裝的一外延結(jié)構(gòu)和一支架,外延結(jié)構(gòu)的底部具有一通孔,支架具有一凸起,外延結(jié)構(gòu)通過(guò)凸起插入通孔內(nèi),使支架與外延結(jié)構(gòu)快速組裝,并且當(dāng)注入一定電流后,外延結(jié)構(gòu)發(fā)射一定波長(zhǎng)的光線。本實(shí)用新型無(wú)需電極蒸鍍制程制作電極,從而簡(jiǎn)化了發(fā)光二極管的制程,降低了其生產(chǎn)成本;并且在后續(xù)的封裝制程中,無(wú)需傳統(tǒng)的打線,直接通過(guò)支架接入外接電源,即可完成封裝,從而大大簡(jiǎn)化了封裝流程,降低了封裝成本。另外,無(wú)電極的發(fā)光二極管,減少了電極pad的遮光面積,可進(jìn)一步提升發(fā)光二極管亮度。
【專利說(shuō)明】
一種發(fā)光二極管
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體領(lǐng)域,尤其涉及一種發(fā)光二極管。
【背景技術(shù)】
[0002]目前發(fā)光二極管的結(jié)構(gòu)包括水平結(jié)構(gòu)、垂直結(jié)構(gòu)和倒裝結(jié)構(gòu),三種結(jié)構(gòu)的發(fā)光二極管各具優(yōu)勢(shì)和不足,就制作工序而言,水平結(jié)構(gòu)的發(fā)光二極管制作工序較垂直結(jié)構(gòu)和倒裝結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;而就封裝工序而言,水平結(jié)構(gòu)需P、N電極打線封裝,而垂直結(jié)構(gòu)和倒裝結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化了打線或無(wú)需打線操作。
[0003]另外,水平結(jié)構(gòu)的發(fā)光二極管在制作工序中,為滿足打線,通常需采用鍍膜工藝蒸鍍P、N電極,具體地還包括光刻、清洗、蒸鍍、剝離(剝?nèi)ザ嘤嗟慕饘?、去膠等復(fù)雜工序。
[0004]因此,若簡(jiǎn)化設(shè)置省略電極制作工序和打線工序,可大大縮減發(fā)光二極管的生產(chǎn)成本以及封裝成本。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種發(fā)光二極管,包括一外延結(jié)構(gòu)和一支架,所述外延結(jié)構(gòu)包括依次層疊的絕緣襯底、N型層、發(fā)光層、P型層、電流擴(kuò)展層、以及位于所述N型層、發(fā)光層和P型層側(cè)面的絕緣層,所述支架包括金屬豎直結(jié)構(gòu)和金屬水平結(jié)構(gòu),其特征在于:所述發(fā)光二極管由所述外延結(jié)構(gòu)和支架組裝而成,所述絕緣襯底具有一通孔,所述金屬水平結(jié)構(gòu)具有一凸起,所述凸起插入通孔內(nèi)與N型層接觸,所述金屬豎直結(jié)構(gòu)上端與所述電流擴(kuò)展層接觸,下端通過(guò)絕緣的鉸鏈與所述金屬水平結(jié)構(gòu)連接,當(dāng)所述支架注入電流后,所述外延結(jié)構(gòu)發(fā)光。
[0006]優(yōu)選的,所述通孔的深度為D,絕緣襯底的厚度為L(zhǎng)1,N型層的厚度為L(zhǎng)2,D、L1和L2的關(guān)系符合:L1<D<L1+L2。
[0007]優(yōu)選的,所述凸起的高度為H,所述通孔的深度為D,H和D的關(guān)系符合:H=D。
[0008]優(yōu)選的,所述金屬豎直結(jié)構(gòu)上端具有一方形接觸部,所述金屬豎直結(jié)構(gòu)通過(guò)接觸部與電流擴(kuò)展層接觸。
[0009]優(yōu)選的,所述方形接觸部寬度等于絕緣層厚度,高度小于等于電流擴(kuò)展層厚度。
[0010]優(yōu)選的,所述金屬豎直結(jié)構(gòu)上端具有一指狀接觸部,所述指狀接觸部具有復(fù)數(shù)個(gè)接觸凸起,所述電流擴(kuò)展層側(cè)面具有復(fù)數(shù)個(gè)凹陷區(qū),所述接觸凸起插入所述凹陷區(qū)內(nèi),使所述金屬豎直結(jié)構(gòu)通過(guò)接觸部與電流擴(kuò)展層接觸。
[0011 ]優(yōu)選的,所述接觸凸起和凹陷區(qū)數(shù)目相同。
[0012]本實(shí)用新型的有益效果包括:通過(guò)支架和外延結(jié)構(gòu)快速組裝成發(fā)光二極管,無(wú)需電極蒸鍍制程制作電極,從而簡(jiǎn)化了發(fā)光二極管的制程,降低了其生產(chǎn)成本;并且在后續(xù)的封裝制程中,無(wú)需傳統(tǒng)的打線,直接通過(guò)支架接入外接電源,即可完成封裝,從而大大簡(jiǎn)化了封裝流程,降低了封裝成本。另外,無(wú)電極的發(fā)光二極管,減少了電極pad的遮光面積,可進(jìn)一步提升發(fā)光二極管亮度。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1之發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例1之外延結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例1之支架結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例2之指狀接觸部俯視示意圖。
[0017]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例2之電流擴(kuò)展層俯視示意圖。
[0018]圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例2之指狀接觸部和電流擴(kuò)展層接觸俯視示意圖。
[0019]附圖標(biāo)注:
[0020]100.外延結(jié)構(gòu);110.絕緣襯底;111.通孔;120.N型層;130.發(fā)光層;140.P型層;150.電流擴(kuò)展層;151.凹陷區(qū);160.絕緣層;200.支架;210.金屬水平結(jié)構(gòu);211.凸起;220.金屬豎直結(jié)構(gòu);221.方形接觸部;221’.指狀接觸部;2211.接觸凸起;230.絕緣鉸鏈。
【具體實(shí)施方式】
[0021]以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。需說(shuō)明的是,本發(fā)明的附圖均采用非常簡(jiǎn)化的非精準(zhǔn)比例,僅用以方便、明晰的輔助說(shuō)明本發(fā)明。
[0022]實(shí)施例1
[0023]本實(shí)用新型公開(kāi)了一種發(fā)光二極管,大大簡(jiǎn)化了電極的制程,降低發(fā)光二極管的生產(chǎn)成本,參看附圖1,其包括一外延結(jié)構(gòu)100和一支架200,支架200呈“00型,所述發(fā)光二極管由所述外延結(jié)構(gòu)和支架組裝而成。外延結(jié)構(gòu)100和支架200組裝成發(fā)光二極管,該發(fā)光二極管無(wú)需電極蒸鍍制程制作電極,從而簡(jiǎn)化了發(fā)光二極管的制程,降低了其生產(chǎn)成本;并且在后續(xù)的封裝制程中,無(wú)需傳統(tǒng)的打線,直接通過(guò)支架200接入外接電源,即可完成封裝,從而大大簡(jiǎn)化了封裝流程,降低了封裝成本。另外,無(wú)電極的發(fā)光二極管,減少了電極pad的遮光面積,可進(jìn)一步提升發(fā)光二極管亮度。圖1中所示外延結(jié)構(gòu)100位于支架200的右側(cè)為本實(shí)施例的優(yōu)選方案,兩者的位置關(guān)系并不限于此,例如支架200也可位于外延結(jié)構(gòu)的右側(cè),此時(shí)支架呈反“可位型。
[0024]參看附圖2,其中,外延結(jié)構(gòu)100包括依次層疊的絕緣襯底110、N型層120、發(fā)光層130、P型層140、電流擴(kuò)展層150、以及位于N型層120、發(fā)光層130和P型層140側(cè)面的絕緣層160,絕緣襯底110具有一通孔111。如圖2所示,通孔111的深度為D,絕緣襯底110厚度為L(zhǎng)I,N型層的厚度為L(zhǎng)2,D、L1和L2的關(guān)系符合:L1<D<L1+L2。絕緣襯底110優(yōu)選藍(lán)寶石材料,可為平片襯底也可為圖形化襯底。電流擴(kuò)展層150優(yōu)選氧化銦錫材料。絕緣層160優(yōu)選Si02、SiNx等材料。
[0025]參看附圖1和3,支架200包括金屬水平結(jié)構(gòu)210和金屬豎直結(jié)構(gòu)220,金屬水平結(jié)構(gòu)220具有一凸起211,凸起211插入通孔111內(nèi)與N型層120接觸,金屬豎直結(jié)構(gòu)220上端具有一方形接觸部221,其通過(guò)方形接觸部221與電流擴(kuò)展層150接觸,下端通過(guò)絕緣鉸鏈230與金屬水平結(jié)構(gòu)210連接,當(dāng)支架200注入電流后,外延結(jié)構(gòu)100發(fā)射一定波長(zhǎng)的光線。凸起211和方形接觸部221均為金屬材質(zhì);凸起211的高度為H,H和D之間的關(guān)系符合:H=D,以保證凸起211和N型層120緊密接觸。方形接觸部221的寬度等于外延結(jié)構(gòu)100側(cè)面絕緣層160的厚度,其高度小于等于透明導(dǎo)電層150的厚度,以保證金屬豎直結(jié)構(gòu)220與透明導(dǎo)電層160緊密接觸。金屬水平結(jié)構(gòu)210和金屬豎直結(jié)構(gòu)220通過(guò)絕緣鉸鏈230連接,鉸鏈230采用絕緣材料,是為使金屬水平結(jié)構(gòu)210和金屬豎直結(jié)構(gòu)220電性隔離,保證注入電流時(shí),電流流經(jīng)外延結(jié)構(gòu)100使其發(fā)光,而不是電流選擇最短路徑,支架導(dǎo)通,無(wú)法使外延結(jié)構(gòu)100發(fā)光。采用鉸鏈230連接金屬水平結(jié)構(gòu)210和金屬豎直結(jié)構(gòu)220,是因?yàn)?,在組裝支架200和外延結(jié)構(gòu)100時(shí),需將金屬豎直結(jié)構(gòu)220遠(yuǎn)離外延結(jié)構(gòu)100擺動(dòng)一定角度,然后將外延結(jié)構(gòu)100插入凸起211上,最后再將金屬豎直結(jié)構(gòu)220復(fù)位,以實(shí)現(xiàn)支架200和外延結(jié)構(gòu)100的快速組裝。
[0026]實(shí)施例2
[0027]本實(shí)施例與實(shí)施例1的區(qū)別在于:為了提高支架200與外延結(jié)構(gòu)100的電性接觸性,參看附圖4,本實(shí)施例中金屬豎直結(jié)構(gòu)221上端具有一指狀接觸部221’其具有復(fù)數(shù)個(gè)接觸凸起2211,與復(fù)數(shù)個(gè)接觸凸起2211對(duì)應(yīng),參看附圖5,電流擴(kuò)展層150具有復(fù)數(shù)個(gè)凹陷區(qū)151,接觸凸起2211與凹陷區(qū)151數(shù)目相同,并且接觸凸起2211的下表面涂覆或蒸鍍接觸性能較好的Cr或Ti等金屬材料,同樣地,凸起211的上表面也涂覆或蒸鍍接觸性能較好的Cr或Ti等金屬材料。為避免支架200吸收外延結(jié)構(gòu)100發(fā)射的光線,支架200與外延結(jié)構(gòu)100接觸的側(cè)面均涂覆或蒸鍍反射性金屬或支架200采用反射性金屬制備而成。
[0028]應(yīng)當(dāng)理解的是,上述具體實(shí)施方案為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例,本實(shí)用新型的范圍不限于該實(shí)施例,凡依本實(shí)用新型所做的任何變更,皆屬本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種發(fā)光二極管,包括一外延結(jié)構(gòu)和一支架,所述外延結(jié)構(gòu)包括依次層疊的絕緣襯底、N型層、發(fā)光層、P型層、電流擴(kuò)展層、以及位于所述N型層、發(fā)光層和P型層側(cè)面的絕緣層,所述支架包括金屬豎直結(jié)構(gòu)和金屬水平結(jié)構(gòu),所述絕緣襯底具有一通孔,所述金屬水平結(jié)構(gòu)具有一凸起,所述凸起插入通孔內(nèi)與N型層接觸,所述金屬豎直結(jié)構(gòu)上端與所述電流擴(kuò)展層接觸,下端通過(guò)絕緣的鉸鏈與所述金屬水平結(jié)構(gòu)連接,當(dāng)所述支架注入電流后,所述外延結(jié)構(gòu)發(fā)光。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管,其特征在于:所述通孔的深度為D,絕緣襯底的厚度為L(zhǎng)1,N型層的厚度為L(zhǎng)2,D、L1和L2的關(guān)系符合:L1<D<L1+L2。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管,其特征在于:所述凸起的高度為H,所述通孔的深度為D,H和D的關(guān)系符合:H=D。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管,其特征在于:所述金屬豎直結(jié)構(gòu)上端具有一方形接觸部,所述金屬豎直結(jié)構(gòu)通過(guò)接觸部與電流擴(kuò)展層接觸。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種發(fā)光二極管,其特征在于:所述方形接觸部寬度等于絕緣層厚度,高度小于等于電流擴(kuò)展層厚度。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管,其特征在于:所述金屬豎直結(jié)構(gòu)上端具有一指狀接觸部,所述指狀接觸部具有復(fù)數(shù)個(gè)接觸凸起,所述電流擴(kuò)展層側(cè)面具有復(fù)數(shù)個(gè)凹陷區(qū),所述接觸凸起插入所述凹陷區(qū)內(nèi),使所述金屬豎直結(jié)構(gòu)通過(guò)接觸部與電流擴(kuò)展層接觸。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種發(fā)光二極管,其特征在于:所述接觸凸起和凹陷區(qū)數(shù)目相同。
【文檔編號(hào)】H01L33/38GK205657087SQ201620489291
【公開(kāi)日】2016年10月19日
【申請(qǐng)日】2016年5月26日 公開(kāi)號(hào)201620489291.X, CN 201620489291, CN 205657087 U, CN 205657087U, CN-U-205657087, CN201620489291, CN201620489291.X, CN205657087 U, CN205657087U
【發(fā)明人】蔡家豪, 古靜, 陳文志, 鐘丹丹, 王宜麗, 劉晶, 邱智中, 張家宏
【申請(qǐng)人】安徽三安光電有限公司