專利名稱：光學光闌裝置、投影機、修正參數(shù)校正裝置及方法
技術領域：
本發(fā)明涉及光學光闌裝置、投影機、修正參數(shù)校正裝置及修正參數(shù)校正方法。
背景技術：
以往，下述投影機已為眾所周知，該投影機具備光源裝置；光調制裝置，將從光源裝置所射出的光束按照圖像信息進行調制并形成光學像；和投影光學裝置，放大投影光學像。
在這種投影機中，以投影圖像的對比度提高等為目的，人們提出了一種具備開閉遮光部件(光學光闌裝置)的投影機，該開閉遮光部件為了調整從光源裝置射出且向光調制裝置入射的光束的光量，對從光源裝置所射出的光束進行部分遮蔽(例如，參見文獻特開2004-264819號公報)。
該文獻所述的光學光闌裝置具有一對矩形板狀的遮光板(遮光葉片)，其轉動自如地構成。而且，光學光闌裝置通過由脈沖電動機等的驅動裝置使遮光葉片以高準確度移動到預期的位置，來分級地對從光源裝置所射出的光束進行遮蔽。
但是，就上述文獻所述的光學光闌裝置來說，由于作為驅動裝置使用了脈沖電動機等，因而按驅動裝置本身的大小就會妨礙光學光闌裝置的小型化。另外，還由于驅動裝置驅動時的振動而無法實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動。
因此，人們迫切期望一種使光學光闌裝置的結構簡單化并能夠使遮光葉片以高準確度進行移動、實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動之技術。

發(fā)明內容
本發(fā)明的主要目的涉及能謀求結構的簡單化并且可以使遮光葉片以高準確度進行移動、實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動之光學光闌裝置、投影機、修正參數(shù)校正裝置及修正參數(shù)校正方法。
本發(fā)明的光學光闌裝置用來調整所入射光束的光量，其特征為，具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件和輸出特性修正部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性。
在本發(fā)明中，光學光闌裝置作為使遮光葉片進行移動的驅動裝置，具備電磁致動器。而且，作為電磁致動器，具有下面的特征。
也就是說，可以進行低電壓驅動，能謀求光學光闌裝置的低消耗電力化。
另外，可以在較小尺寸的區(qū)域產生較大的力，使遮光葉片平滑移動。
再者，即便在高濕度等的惡劣環(huán)境下也可以使用，能謀求光學光闌裝置的長壽命化。
再者還有，驅動響應特性良好，可以使遮光葉片進行高速響應令其平滑轉動。
因而，通過作為驅動裝置使用電磁致動器，與像以往那樣作為驅動裝置使用脈沖電動機等的結構相比較，可以采用永久磁性體及線圈等的簡單結構來構成驅動裝置，能夠使光學光闌裝置的結構簡單化及小型化。另外，與以往的結構相比較，還可以使驅動時的振動得到減低，能夠實現(xiàn)光學光闌裝置穩(wěn)定的驅動。
此外，作為對上述光學光闌裝置進行驅動控制的控制裝置，通過采用下面所示的處理結構，就可以構成使處理負荷得到減輕的控制裝置。
也就是說，控制裝置根據來自位置檢測部(磁元件)的輸出值(電壓值)，對電磁致動器進行驅動控制。更為具體而言，控制裝置根據存儲器等中所存儲的、使開口面積和設計上的設計電壓值相關聯(lián)的開口面積-電壓值關聯(lián)信息，在使遮光葉片位于成為預定開口面積的位置時，識別與上述預定開口面積相關聯(lián)的設計電壓值。然后，控制裝置使得所識別出的設計電壓值與來自位置檢測部的輸出值大致相同地，對電磁致動器進行驅動控制，使永久磁性體位于預定位置。也就是說，通過使永久磁性體位于上述預定位置，而使遮光葉片進行移動，使其位于成為上述預定開口面積的位置。
但是，在光學光闌裝置中產生了制造誤差如永久磁性體安裝位置的制造誤差、永久磁性體磁化位置的制造誤差及位置檢測部安裝位置的制造誤差等時，存在下面的問題。
也就是說，即便在使永久磁性體位于與預定開口面積對應的位置時，也從位置檢測部輸出下述輸出值，該輸出值和與上述預定開口面積對應的設計電壓值不同。因此，如上所述，在控制裝置使得來自位置檢測部的輸出值大致相同于與預定開口面積對應的設計電壓值地，對電磁致動器進行了驅動控制時，不能使永久磁性體位于與上述預定開口面積對應的位置。也就是說，無法使遮光葉片位于成為上述預定開口面積的位置。
在本實施方式中，位置檢測部具備磁元件及輸出特性修正部。據此，只要將修正參數(shù)校正為最佳的修正參數(shù)，輸出特性修正部就根據校正后的修正參數(shù)來修正磁元件的輸出特性，因此即便在光學光闌裝置中產生了上述制造誤差的情況下，也可以在使永久磁性體位于與預定開口面積對應的位置時，使得從位置檢測部(磁元件)輸出與上述預定開口面積對應的設計電壓值。因此，如上所述，在控制裝置使得來自位置檢測部的輸出值大致相同于與預定開口面積對應的設計電壓值地、對電磁致動器進行了驅動控制時，可以使永久磁性體位于與上述預定開口面積對應的位置，能夠使遮光葉片以高準確度位于成為上述預定開口面積的位置。因而，使對光學光闌裝置進行驅動控制的控制裝置的處理負荷得到減低，同時可以使用上述控制裝置，以高準確度使遮光葉片進行移動，實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動。
在本發(fā)明的光學光闌裝置中，優(yōu)選的是，上述修正參數(shù)是偏移(offset)修正參數(shù)，用來使對規(guī)定電壓值的上述永久磁性體的位置產生偏移，來修正輸出特性，以便在上述永久磁性體位于上述開口面積為預定開口面積的規(guī)定位置的狀態(tài)下，上述磁元件輸出上述預定的規(guī)定電壓值。
根據本發(fā)明，由于修正參數(shù)是偏移修正參數(shù)，因而輸出特性修正部使用偏移修正參數(shù)來實施磁元件輸出特性的修正(偏移修正)，借此可以使對規(guī)定電壓值(例如，偏移電壓值)的永久磁性體位置產生偏移，在永久磁性體位于成為預定開口面積的規(guī)定位置的狀態(tài)下，使磁元件輸出規(guī)定電壓值。因而，這樣構成為，能進行使用偏移修正參數(shù)的偏移修正，因此可以采用簡單的電路結構來實現(xiàn)磁元件輸出特性的修正。
在本發(fā)明的光學光闌裝置中，優(yōu)選的是，上述修正參數(shù)是增益修正參數(shù)，用來修正輸出特性，以便在使上述永久磁性體位于下述范圍時，上述磁元件對應于上述永久磁性體的上述范圍內的各位置，輸出設計上的各設計電壓值，該范圍為從上述開口面積為最小開口面積的第1位置到上述開口面積為最大開口面積的第2位置。
根據本發(fā)明，由于修正參數(shù)是增益修正參數(shù)，因而輸出特性修正部使用增益修正參數(shù)來實施磁元件輸出特性的修正(增益修正)，借此可以在使永久磁性體位于從開口面積為最小開口面積的第1位置到開口面積為最大開口面積的第2位置的范圍的狀態(tài)下，對應于永久磁性體的范圍內的各位置，使磁元件輸出設計上的各設計電壓值。因而，這樣構成為，能進行使用增益修正參數(shù)的增益修正，因此可以采用簡單的電路結構來實現(xiàn)磁元件輸出特性的修正。
另外，由于可以通過增益修正，將磁元件輸出的電壓值在所有的范圍(第1位置到第2位置)內修正為各設計電壓值，因而能夠以更高準確度使遮光葉片進行移動，實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動。
在本發(fā)明的光學光闌裝置中，優(yōu)選的是，上述位置檢測部具備修正參數(shù)存儲部，該修正參數(shù)存儲部可以重寫地存儲上述修正參數(shù)；上述輸出特性修正部讀取上述修正參數(shù)存儲部中所存儲的上述修正參數(shù)，根據所讀取的上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性。
根據本發(fā)明，由于位置檢測部中所設置的修正參數(shù)存儲部可以重寫地存儲修正參數(shù)，因而可以對修正參數(shù)進行適當校正將其更新為最佳的修正參數(shù)。因而，通過輸出特性修正部使用更新后的最佳修正參數(shù)來修正磁元件的輸出特性，就可以在使永久磁性體位于與預定開口面積對應的位置時，使磁元件輸出與上述預定開口面積對應的設計電壓值。
本發(fā)明的投影機，具備光源裝置；光調制裝置，對從上述光源裝置所射出的光束進行調制；和投影光學裝置，放大投影由上述光調制裝置調制后的光束；其特征為，具備上述光學光闌裝置，配設于從上述光源裝置射出、到上述光調制裝置的光束的光路中，調整從上述光源裝置向上述光調制裝置照射的光束的光量；和控制裝置，根據來自上述位置檢測部的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制。
這里，作為控制裝置，可以采用上述使處理負荷得到減輕的控制裝置的結構。
根據本發(fā)明，由于投影機具備上述的光學光闌裝置，因而可以達到和上述光學光闌裝置相同的作用、效果。
另外，由于可以通過光學光闌裝置調整從光源向光調制裝置照射的光束的光量，因而例如控制裝置按照圖像的亮度對光學光闌裝置進行控制，在整體較暗的場面的情況時減低光量，在整體較明亮的場面的情況時增加光量，借此可以實現(xiàn)高對比度比的投影圖像。
再者，由于具備能實現(xiàn)結構簡單化及小型化的光學光闌裝置，因而可以在投影機內部，在臨近配置的光學部件間容易配設光學光闌裝置，能夠使投影機設計的自由度得到提高。
再者還有，由于具備可以在驅動時抑制振動而實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動的光學光闌裝置，因而能夠抑制因振動而給投影圖像帶來的影響，良好維持投影圖像。
另外，由于使控制裝置的處理負荷得到減低，并且可以使用控制裝置使遮光葉片以高準確度進行移動，因而能夠以高準確度調整從光源裝置向光調制裝置照射的光束的光量，能使投影圖像的圖像質量得到提高。
在本發(fā)明的投影機中，優(yōu)選的是，上述控制裝置具備修正參數(shù)存儲部，該修正參數(shù)存儲部可以重寫地存儲上述修正參數(shù)，上述輸出特性修正部讀取上述修正參數(shù)存儲部中所存儲的上述修正參數(shù)，并根據所讀取的上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性。
根據本發(fā)明，由于控制裝置中所設置的修正參數(shù)存儲部可以重寫地存儲修正參數(shù)，因而可以對修正參數(shù)進行適當校正將其更新為最佳的修正參數(shù)。因而，通過輸出特性修正部使用更新后的最佳修正參數(shù)來修正磁元件的輸出特性，就可以在使永久磁性體位于與預定開口面積對應的位置時，使磁元件輸出與上述預定開口面積對應的設計電壓值。
本發(fā)明的修正參數(shù)校正裝置使用于下述投影機中，用來校正修正參數(shù)，該投影機具備光源裝置；光調制裝置，對從上述光源裝置所射出的光束進行調制；投影光學裝置，放大投影由上述光調制裝置調制后的光束；光學光闌裝置，配設于從上述光源裝置射出、到上述光調制裝置的光束的光路中，調整從上述光源裝置向上述光調制裝置照射的光束的光量；以及投影機側控制裝置，對上述光源裝置、上述光調制裝置及上述光學光闌裝置進行驅動控制；該修正參數(shù)校正裝置的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；上述投影機側控制裝置基于來自上述位置檢測部的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制；該修正參數(shù)校正裝置具備校正側控制裝置，其對上述投影機側控制裝置輸出預定的控制指令，對上述投影機進行驅動控制；和光束檢測裝置，其檢測從上述投影機所放大投影的光學像的光量，輸出與上述光量有關的檢測光量信息；上述校正側控制裝置，具備光量信息存儲部，其存儲與作為基準的基準光量有關的基準光量信息；輸出值信息存儲部，其存儲與作為基準的基準輸出值有關的基準輸出值信息；光源驅動控制部，其使上述投影機側控制裝置對上述光源裝置進行驅動控制，使得從上述光源裝置射出光束；光闌驅動控制部，其使上述投影機側控制裝置對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于下述位置，該位置為從上述位置檢測部輸出基于上述基準輸出值信息的基準輸出值的基準位置；以及參數(shù)更新部，其使得基于從上述光束檢測裝置輸出的檢測光量信息的檢測光量與基于上述基準光量信息的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
由于本發(fā)明的修正參數(shù)校正裝置使用于上述投影機中，因而可以達到和上述投影機相同的作用、效果。
另外，由于修正參數(shù)校正裝置具備校正側控制裝置和光束檢測裝置，因而在將投影機組裝起來的狀態(tài)下，例如如下面所示，可以對修正參數(shù)進行校正。
首先，校正側控制裝置的光源驅動控制部使投影機側控制裝置對光源裝置進行驅動控制，使得從光源裝置射出光束(光束射出步驟)。
接著，校正側控制裝置的光闌驅動控制部使投影機側控制裝置對電磁致動器進行驅動控制，使永久磁性體位于從位置檢測部(磁元件)輸出基于輸出值信息存儲部中所存儲的基準輸出值信息的基準輸出值之基準位置(永久磁性體定位步驟)。
接著，校正側控制裝置使光束檢測裝置檢測從投影機放大投影的光學像的光量(光束檢測步驟)。
接著，校正側控制裝置的參數(shù)更新部，使得由光束檢測裝置所檢測到的檢測光量與基于光量信息存儲部中所存儲的基準光量信息的基準光量大致相同地，更新修正參數(shù)存儲部中所存儲的修正參數(shù)(參數(shù)更新步驟)。
例如，如上所述在光學光闌裝置中產生了制造誤差的情況下，即使通過永久磁性體定位步驟由投影機側控制裝置使永久磁性體位于從位置檢測部輸出與預定開口面積對應的基準輸出值(設計電壓值)之基準位置時，遮光葉片也不位于成為上述預定開口面積的位置。也就是說，由光束檢測步驟所檢測到的檢測光量并不和與上述預定開口面積對應的基準光量相同。因此，通過由參數(shù)更新步驟更新修正參數(shù)，而利用輸出特性修正部修正磁元件的輸出特性，變更從磁元件輸出的輸出值。另外，投影機側控制裝置通過控制，使得永久磁性體位于從位置檢測部輸出與上述預定開口面積對應的基準輸出值之基準位置，來變更永久磁性體的位置，變更由遮光葉片得到的開口面積。然后，通過由參數(shù)更新步驟更新修正參數(shù)，使得檢測光量和與上述預定開口面積對應的基準光量相同，而可以在使永久磁性體位于與上述預定開口面積對應的位置時，使位置檢測部輸出與上述預定開口面積對應的基準輸出值。
如上所述，由于修正參數(shù)校正裝置在將投影機組裝起來的狀態(tài)下，根據從光源裝置射出且經過光學光闌裝置及光調制裝置后并由投影光學裝置放大投影的光學像的光量，也就是實際由光學光闌裝置進行光量調整的光束，來更新修正參數(shù)，因而能夠以更高準確度調整從光源裝置向光調制裝置照射的光束的光量，可以使投影圖像的圖像質量得到進一步提高。
本發(fā)明的修正參數(shù)校正裝置使用于調整入射光束光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，其特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正裝置具備修正用光源裝置，其朝向上述光學光闌裝置射出光束；光束檢測裝置，其檢測從上述修正用光源裝置射出、經過上述光學光闌裝置后的光束的光量；和校正側控制裝置，其對上述修正用光源裝置及上述電磁致動器進行驅動控制；上述校正側控制裝置，具備光量信息存儲部，其存儲與作為基準的基準光量有關的基準光量信息；輸出值信息存儲部，其存儲與作為基準的基準輸出值有關的基準輸出值信息；光源驅動控制部，其使上述修正用光源裝置射出光束；光闌驅動控制部，其基于從上述位置檢測部輸出的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于下述位置，該位置為從上述位置檢測部輸出基于上述基準輸出值信息的基準輸出值的基準位置；以及參數(shù)更新部，其使得基于從上述光束檢測裝置所輸出的檢測光量信息的檢測光量與基于上述基準光量信息的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
由于本發(fā)明的修正參數(shù)校正裝置使用于上述光學光闌裝置，因而可以達到和上述光學光闌裝置相同的作用、效果。
另外，由于修正參數(shù)校正裝置具備修正用光源裝置、光束檢測裝置及校正側控制裝置，因而在將光學光闌裝置組裝起來的狀態(tài)下，例如如下面所示，可以對修正參數(shù)進行校正。
首先，校正側控制裝置的光源驅動控制部使修正用光源裝置朝向光學光闌裝置射出光束(光束射出步驟)。
接著，校正側控制裝置的光闌驅動控制部對電磁致動器進行驅動控制，使永久磁性體位于從位置檢測部(磁元件)輸出基于輸出值信息存儲部中所存儲的基準輸出值信息的基準輸出值之基準位置(永久磁性體定位步驟)。
接著，校正側控制裝置使光束檢測裝置檢測從修正用光源裝置射出且經過光學光闌裝置后的光束的光量(光束檢測步驟)。
接著，校正側控制裝置的參數(shù)更新部更新修正參數(shù)存儲部中所存儲的修正參數(shù)，使得由光束檢測裝置所檢測到的檢測光量與基于光量信息存儲部中所存儲的基準光量信息的基準光量大致相同(參數(shù)更新步驟)。
例如，如上所述在光學光闌裝置中產生了制造誤差的情況下，即使通過永久磁性體定位步驟，由光闌驅動控制部使永久磁性體位于從位置檢測部輸出與預定開口面積對應的基準輸出值(設計電壓值)之基準位置時，遮光葉片也不會位于成為上述預定開口面積的位置。也就是說，由光束檢測步驟所檢測到的檢測光量并不和與上述預定開口面積對應的基準光量相同。因此，通過由參數(shù)更新步驟更新修正參數(shù)，而利用輸出特性修正部修正磁元件的輸出特性，變更從磁元件輸出的輸出值。另外，光闌驅動控制部通過控制，使得永久磁性體位于從位置檢測部輸出與上述預定開口面積對應的基準輸出值之基準位置，來變更永久磁性體的位置，變更由遮光葉片得到的開口面積。而且，通過由參數(shù)更新步驟來更新修正參數(shù)，使得檢測光量和與上述預定開口面積對應的基準光量相同，而可以在使永久磁性體位于與上述預定開口面積對應的位置時，使位置檢測部輸出與上述預定開口面積對應的基準輸出值。
如上所述，由于修正參數(shù)校正裝置在將光學光闌裝置組裝起來的狀態(tài)下，根據從修正用光源裝置射出且經過光學光闌裝置后的光束的光量，來更新修正參數(shù)，因而不需要在對投影機等光學設備裝載了光學光闌裝置的狀態(tài)下更新修正參數(shù)，而可以使用光學光闌裝置單體和修正參數(shù)校正裝置來更新修正參數(shù)，可謀求更新修正參數(shù)時作業(yè)空間的高效化。
在本發(fā)明的修正參數(shù)校正裝置中，優(yōu)選的是，上述修正用光源裝置由固體發(fā)光元件構成。
根據本發(fā)明，由于修正用光源裝置由固體發(fā)光元件來構成，因而例如與作為修正用光源裝置采用放電發(fā)光型光源燈的結構相比較，能謀求修正參數(shù)校正裝置的小型、輕質化。另外，由于可以使修正用光源裝置射出亮度穩(wěn)定的光束，因而通過根據亮度穩(wěn)定的光束光量來更新修正參數(shù)，就能夠以高準確度校正修正參數(shù)。
本發(fā)明的修正參數(shù)校正裝置使用于調整入射光束光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，其特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正裝置具備機械式光闌驅動裝置，其與上述光學光闌裝置進行機械連接，通過進行驅動使上述遮光葉片位于預定位置；和校正側控制裝置，其對上述機械式光闌驅動裝置進行驅動控制；上述校正側控制裝置，具備輸出值信息存儲部，其存儲與作為基準的基準輸出值有關的基準輸出值信息；機械式光闌驅動控制部，其使上述機械式光闌驅動裝置進行驅動，使上述遮光葉片位于預定的基準位置；以及參數(shù)更新部，其使得從上述位置檢測部所輸出的輸出值與基于上述基準輸出值信息的基準輸出值大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
由于本發(fā)明的修正參數(shù)校正裝置使用于上述光學光闌裝置，因而可以達到和上述光學光闌裝置相同的作用、效果。
另外，由于修正參數(shù)校正裝置具備機械式光闌驅動裝置和校正側控制裝置，因而在將光學光闌裝置組裝起來的狀態(tài)下，例如如下面所示，可以對修正參數(shù)進行校正。
首先，校正側控制裝置的機械式光闌驅動控制部使機械光闌驅動裝置驅動，使遮光葉片位于預定的基準位置(遮光葉片定位步驟)。
接著，校正側控制裝置的參數(shù)更新部更新修正參數(shù)存儲部中所存儲的修正參數(shù)，使得從位置檢測部輸出的輸出值與基于輸出值信息存儲部中所存儲的基準輸出值信息的基準輸出值大致相同(參數(shù)更新步驟)。
例如，如上所述在光學光闌裝置中產生了制造誤差的情況下，即使通過遮光葉片定位步驟，由機械式光闌驅動控制部使遮光葉片位于與預定開口面積對應的基準位置時，仍從位置檢測部輸出下述輸出值，該輸出值和與上述預定開口面積對應的基準輸出值(設計電壓值)不同。因此，在參數(shù)更新步驟中，將其更新成用來修正輸出特性的修正參數(shù)，以便從磁元件輸出基準輸出值。
如上所述，由于修正參數(shù)校正裝置在將光學光闌裝置組裝起來的狀態(tài)下，使用機械式光闌驅動裝置使遮光葉片位于預定的基準位置，并根據從位置檢測部輸出的輸出值，來更新修正參數(shù)，因而不需要在對投影機等光學設備裝載了光學光闌裝置的狀態(tài)下更新修正參數(shù)，而可以使用光學光闌裝置單體和修正參數(shù)校正裝置來更新修正參數(shù)，能謀求更新修正參數(shù)時作業(yè)空間的高效化。另外，和向光學光闌裝置射出光束且根據經過光學光闌裝置后的光束來更新修正參數(shù)的結構相比較，不依賴于作業(yè)環(huán)境，就可以良好校正修正參數(shù)。
本發(fā)明的修正參數(shù)校正方法利用修正參數(shù)校正裝置，該修正參數(shù)校正裝置使用于下述投影機，用來校正上述修正參數(shù)，該投影機具備光源裝置；光調制裝置，對從上述光源裝置所射出的光束進行調制；投影光學裝置，放大投影由上述光調制裝置調制后的光束；光學光闌裝置，設置于從上述光源裝置射出且到上述光調制裝置的光束的光路中，調整從上述光源裝置向上述光調制裝置照射的光束的光量；以及投影機側控制裝置，對上述光源裝置、上述光調制裝置及上述光學光闌裝置進行驅動控制；該修正參數(shù)校正方法的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；上述投影機側控制裝置基于來自上述位置檢測部的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制；該修正參數(shù)校正方法，包括光束射出步驟，其中，使上述投影機側控制裝置對上述光源裝置進行驅動控制，使得從上述光源裝置射出光束；永久磁性體定位步驟，其中，使上述投影機側控制裝置對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于從上述位置檢測部輸出作為基準的基準輸出值的基準位置；光束檢測步驟，其中，檢測從上述投影機放大投影的光學像的光量；以及參數(shù)更新步驟，其中，使得通過上述光束檢測步驟所檢測到的檢測光量與作為基準的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
由于本發(fā)明的修正參數(shù)校正方法是由上述修正參數(shù)校正裝置實施的，因而可以達到和上述修正參數(shù)校正裝置相同的作用、效果。
本發(fā)明的修正參數(shù)校正方法利用修正參數(shù)校正裝置，該修正參數(shù)校正裝置使用于調整入射光束光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，該修正參數(shù)校正方法的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正方法，包括光束射出步驟，其中，朝向上述光學光闌裝置射出光束；永久磁性體定位步驟，其中，對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于從上述位置檢測部輸出作為基準的基準輸出值的基準位置；光束檢測步驟，其中，檢測經過上述光學光闌裝置后的光束的光量；以及參數(shù)更新步驟，其中，使得通過上述光束檢測步驟所檢測到的檢測光量與作為基準的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
由于本發(fā)明的修正參數(shù)校正方法是由上述修正參數(shù)校正裝置實施的，因而可以達到和上述修正參數(shù)校正裝置相同的作用、效果。
本發(fā)明的修正參數(shù)校正方法利用修正參數(shù)校正裝置，該修正參數(shù)校正裝置使用于調整入射光束光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，該修正參數(shù)校正方法的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正方法，包括遮光葉片定位步驟，其中，使上述遮光葉片位于預定的基準位置；和參數(shù)更新步驟，其中，使得從上述位置檢測部輸出的輸出值與作為基準的基準輸出值大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
由于本發(fā)明的修正參數(shù)校正方法是由上述修正參數(shù)校正裝置實施的，因而可以達到和上述修正參數(shù)校正裝置相同的作用、效果。


圖1是模式表示本發(fā)明第1實施方式中的投影機概略結構的附圖。
圖2是表示上述第1實施方式中的光學光闌裝置概略結構一例的附圖。
圖3是表示上述第1實施方式中的光學光闌裝置概略結構一例的附圖。
圖4是從光束入射側看到上述第1實施方式中的基體(base)板主體的立體圖。
圖5A～圖5C分別是模式表示上述第1實施方式中的電磁致動器及位置傳感器結構的附圖。
圖6A及圖6B分別是表示上述第1實施方式中的輸出特性修正部處理功能一例的附圖。
圖7是模式表示上述第1實施方式中的投影機及修正參數(shù)校正裝置控制結構的框圖。
圖8A～圖8C分別是模式表示上述第1實施方式中的光學光闌裝置制造誤差的附圖。
圖9是說明上述第1實施方式中利用修正參數(shù)校正裝置的修正參數(shù)校正方法的流程圖。
圖10是說明上述第1實施方式中的偏移修正參數(shù)校正方法的流程圖。
圖11是說明上述第1實施方式中的增益修正參數(shù)校正方法的流程圖。
圖12是模式表示本發(fā)明第2實施方式中的修正參數(shù)校正裝置控制結構的框圖。
圖13是說明上述第2實施方式中利用修正參數(shù)校正裝置的修正參數(shù)校正方法的流程圖。
圖14是模式表示本發(fā)明第3實施方式中的修正參數(shù)校正裝置控制結構的框圖。
圖15是說明上述第3實施方式中利用修正參數(shù)校正裝置的修正參數(shù)校正方法的流程圖。
圖16是說明上述第3實施方式中的偏移修正參數(shù)校正方法的流程圖。
圖17是說明上述第3實施方式中的增益修正參數(shù)校正方法的流程圖。
具體實施例方式下面，根據附圖，來說明本發(fā)明的第1實施方式。
〔投影機的結構〕
圖1是模式表示投影機1概略結構的附圖。
投影機1用來將從光源射出的光束按照圖像信息進行調制并形成光學像，將所形成的光學像放大投影到屏幕(未圖示)上。該投影機1如圖1所示，具備外裝殼體2、作為投影光學裝置的投影透鏡3、光學組件4及控制裝置6(參見圖7)等。
還有，在圖1中雖然省略了圖示，但是在外裝殼體2內，在投影透鏡3及光學組件4之外的空間里，配置冷卻組件，由用來對投影機1內部進行冷卻的冷卻風扇等構成；電源組件，用來給投影機1內的各構成部件供給電力；以及控制裝置6；等。
外裝殼體2由合成樹脂等構成，并且如圖1所示，形成為將投影透鏡3及光學組件4收置于內部進行配置的整體大致長方體狀。該外裝殼體2雖然省略了圖示，但是包括上部殼體，分別構成投影機1的頂面、前面、背面及側面；和下部殼體，分別構成投影機1的底面、前面及背面；并且上述上部殼體及上述下部殼體相互用螺紋件等來固定。
還有，外裝殼體2不限于合成樹脂制等，也可以采用其他材料來形成，例如也可以采用金屬等來構成。
光學組件4用來在由控制裝置6做出的控制之下，對從光源所射出的光束進行光學處理并形成與圖像信息相對應的光學像(彩色圖像)。該光學組件4如圖1所示，具有沿著外裝殼體2背面延伸并且沿著外裝殼體2側面延伸的平面看大致L形狀。還有，對于該光學組件4的詳細結構，將在下面進行說明。
投影透鏡3將由光學組件4所形成的光學像(彩色圖像)放大投影到未圖示的屏幕上。該投影透鏡3作為在筒狀的鏡筒內收置了多個透鏡的透鏡組，來構成。
〔光學組件的詳細結構〕光學組件4如圖1所示，具備照明光學裝置41、色分離光學裝置42、中繼光學裝置43、光學裝置44、光學光闌裝置5以及光學部件用殼體45，該光學部件用殼體將這些裝置41～44、5收置于內部進行配置，并且把投影透鏡3支持并固定在預定位置。
照明光學裝置41是用來對構成光學裝置44的下述液晶面板的圖像形成區(qū)域大致均勻地進行照明的光學系統(tǒng)。該照明光學裝置41如圖1所示，具備光源裝置411、第1透鏡陣列412、第2透鏡陣列413、偏振轉換元件414及重疊透鏡415。
光源裝置411如圖1所示，具備光源燈416，射出放射狀的光線；反射器417，反射從該光源燈416所射出的放射光并使之會聚于預定位置；平行化凹透鏡418，使由反射器417會聚的光束相對照明光軸A平行化；以及燈驅動器416A(參見圖7)，對光源燈416進行驅動。作為光源燈416，大多使用鹵素燈或金屬鹵化物燈、高壓水銀燈。另外，作為反射器417，雖然由具有旋轉橢圓面的橢圓面反射器來構成，但是也可以采用具有旋轉拋物面的拋物面反射器來構成。這種情況下，其結構省略了平行化凹透鏡418。
第1透鏡陣列412具有下述小透鏡排列成矩陣狀的結構，該小透鏡從光軸方向看上去具有大致矩形狀的輪廓。各小透鏡將從光源裝置411射出的光束分割成多個部分光束。
第2透鏡陣列413具有和第1透鏡陣列412大致相同的結構，具有小透鏡排列成矩陣狀的結構。該第2透鏡陣列413同重疊透鏡415一起，具有使第1透鏡陣列412各小透鏡的像在光學裝置44下述的液晶面板圖像形成區(qū)域成像的功能。
偏振轉換元件414配置于第2透鏡陣列413和重疊透鏡415之間，用來將來自第2透鏡陣列413的光轉換為大致1種偏振光。
具體而言，由偏振轉換元件414轉換成大致1種偏振光后的各部分光通過重疊透鏡415最后基本都重疊于光學裝置44下述的液晶面板圖像形成區(qū)域。對于使用調制偏振光類型的液晶面板之投影機來說，因為只能利用1種偏振光，所以不能利用來自發(fā)出任意偏振光的光源裝置411的光的大致一半。因此，通過使用偏振轉換元件414，將來自光源裝置411的射出光轉換成大致1種偏振光，提高了光學裝置44中光的利用效率。
色分離光學裝置42如圖1所示，具備2片分色鏡421、422和反射鏡423，具有由分色鏡421、422將從照明光學裝置41所射出的多個部分光束分離成紅、綠、藍3色色光的功能。
中繼光學裝置43具備入射側透鏡431、中繼透鏡433及反射鏡432、434，具有將由色分離光學裝置42所分離出的色光引導到紅色光用液晶面板的功能。
此時，通過色分離光學裝置42的分色鏡421，透射從照明光學裝置41所射出的光束的紅色光分量和綠色光分量，并反射藍色光分量。由分色鏡421所反射的藍色光通過反射鏡423進行反射，并經過場透鏡419到達藍色光用液晶面板。該場透鏡419將從第2透鏡陣列413所射出的各部分光束轉換成對其中心軸(主光線)平行的光束。其他綠色光及紅色光用液晶面板的光入射側所設置的場透鏡419也相同。
在透射分色鏡421后的紅色光和綠色光之中，綠色光由分色鏡422進行反射，并經過場透鏡419到達綠色光用液晶面板。另一方面，紅色光透射分色鏡422，經過中繼光學裝置43，進而經過場透鏡419到達紅色光用液晶面板。還有，對紅色光使用中繼光學裝置43的原因是，因為紅色光的光路長度比其他色光的光路長度長，所以要防止因光的散射等而引起的光利用效率下降。也就是說，是為了將入射到入射側透鏡431的部分光束，按原狀傳導給場透鏡419。還有，雖然對中繼光學裝置43，設為通過3種色光之中的紅色光的結構，但是并不限于此，例如也可以通過藍色光。
光學裝置44具備作為光調制裝置的3個液晶面板441(將紅色光用的液晶面板設為441R、將綠色光用的液晶面板設為441G、將藍色光用的液晶面板設為441B)、3個入射側偏振板442、3個射出側偏振板443及十字分色棱鏡444。
3個入射側偏振板442如圖1所示，分別配置于各場透鏡419的光路后級。這些入射側偏振板442用來入射由偏振轉換元件414使偏振方向一致為大致一個方向后的各色光，并且只使所入射的光束之中的、和通過偏振轉換元件414而一致后的光束偏振方向大致相同方向的偏振光透射，吸收其他的光束。這些入射側偏振板442雖然省略了圖示，但是具有在藍寶石或水晶等透光性基板上粘貼了偏振膜的結構。
3個液晶面板441如圖1所示，分別配置于各入射側偏振板442的光路后級。這些液晶面板441雖然省略了圖示，但是具有在一對透明的玻璃基板內密封封入了作為電光物質的液晶之結構，并且按照從控制裝置6輸出的驅動信號，來控制預定像素位置的上述液晶取向狀態(tài)，分別調制從各入射側偏振板442所射出的偏振光束的偏振方向。
3個射出側偏振板443如圖1所示，分別配置于各液晶面板441的光路后級。這些射出側偏振板443具有和入射側偏振板442大致相同的結構，并且雖然省略了圖示，但是具有在透光性基板上粘貼了偏振膜的結構。還有，構成射出側偏振板443的上述偏振膜其配置為，透射光束的透射軸與由入射側偏振板442透射光束的透射軸大致正交。
十字分色棱鏡444是一種光學元件，配置于射出側偏振板443的光路后級，用來合成為從各射出側偏振板443所射出的按每種色光調制后的光學像，并形成彩色圖像。該十字分色棱鏡444呈粘貼了4個直角棱鏡的平面看正方形狀，并且在粘貼直角棱鏡之間的界面，形成2個多層電介質膜。這些多層電介質膜反射從液晶面板441R、441G、441B射出且經過各射出側偏振板443后的各色光，并透射從液晶面板441G射出且經過射出側偏振板443后的色光。這樣一來，就能合成由各液晶面板441調制后的各色光，形成彩色圖像。
光學光闌裝置5如圖1所示，配設于第1透鏡陣列412和第2透鏡陣列413之間，用來在由控制裝置6做出的控制之下，通過移動下述的遮光葉片來變更可透射光束的開口面積，調整從光源裝置411射出且經過第1透鏡陣列412后的光束的光量。
還有，對于光學光闌裝置5的具體結構，將在下面進行說明。
圖2及圖3是表示光學光闌裝置5概略結構一例的附圖。具體而言，圖2是從光束射出側(第2透鏡陣列413側)看到光學光闌裝置5的立體圖。圖3是從光束射出側(第2透鏡陣列413側)看到光學光闌裝置5的分解立體圖。
光學光闌裝置5如圖2或圖3所示，具備基體板51、4個遮光葉片52、4個轉動軸53(圖3)、葉片按壓部件54、4個螺旋彈簧55(圖3)、光闌環(huán)56(圖3)、環(huán)按壓部件57(圖3)、電磁致動器58(圖3)及作為位置檢測裝置的位置傳感器59。
基體板51是支持光學光闌裝置5整體并固定于光學部件用殼體45內部的部分。該基體板51如圖3所示，具備基體板主體511和定子連接部512。
圖4是從光束入射側(第1透鏡陣列412側)看到基體板主體511的立體圖。
基體板主體511如圖2至圖4所示，由具有平面看大致矩形形狀的金屬制板體構成，該板體沿著與入射的光束光軸正交的平面延展。
在該基體板主體511，在平面看大致中央部分如圖3或圖4所示，形成可通過從第1透鏡陣列412所射出光束的平面看圓形狀開口部5111。
另外，在該基體板主體511，在光束射出側端面如圖3所示，于該基體板51的四角位置附近分別形成平面看圓形狀的凹部5112(從光束射出側看上去，由右上方側的凹部開始按順時針設為5112A、5112B、5112C、5112D)。而且，這些凹部5112分別固定4個轉動軸53的一方端部側，并且按間隙接合狀態(tài)分別配置4個遮光葉片52下述的軸承部。
在下面，為了說明的方便，如圖3或圖4所示，在基體板主體511，將開口部5111周邊的區(qū)域，設為包括凹部5112A在內的上側的第1區(qū)域RA、包括凹部5112B在內且從光束射出側看上去右側的第2區(qū)域RB、包括凹部5112C在內的下側的第3區(qū)域RC以及包括凹部5112D在內且從光束射出側看上去左側的第4區(qū)域RD。
再者，在該基體板主體511，在光束射出側端面的各區(qū)域RA～RD如圖3所示，于接近各凹部5112的位置，分別形成具有以各凹部5112(各轉動軸53)為中心的平面看圓弧形狀的第1突條部5113A，使之包圍各凹部5112。這些第1突條部5113A在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，分別觸接于構成各遮光葉片52的下述各葉片板板面。
這里，雖然省略了具體的圖示，但是各第1突條部5113A之中，在處于對角位置的各區(qū)域RA、RC所形成的各第1突條部5113A各高度尺寸設定為相同。同樣，在處于對角位置的各區(qū)域RB、RD所形成的各第1突條部5113A各高度尺寸設定為相同。而且，其設定為，對于各區(qū)域RA、RC所形成的第1突條部5113A的各高度尺寸，比在各區(qū)域RB、RD所形成的第1突條部5113A的各高度尺寸增大預定尺寸。
再者還有，在該基體板主體511，在光束射出側端面的各區(qū)域RA～RD如圖3所示，于離開各凹部5112的位置分別形成具有以各凹部5112(各轉動軸53)為中心的平面看圓弧形狀的第2突條部5113B。這些第2突條部5113B在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，和上述第1突條部5113A相同，分別觸接于構成各遮光葉片52的下述各葉片板板面。還有，各第2突條部5113B的高度尺寸設定得和上述的各第1突條部5113A相同。
另外，在該基體板主體511，在各區(qū)域RA～RD如圖3或圖4所示，于接近各凹部5112的位置分別形成軌道孔5114，該軌道孔貫通光束射出側端面及光束入射側端面，并且具有以各凹部5112(各轉動軸53)為中心的平面看圓弧形狀。這些軌道孔5114是一種避開孔，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下分別插通各遮光葉片52下述的銷狀部，其形成為在各銷狀部的移動時不和各銷狀部產生機械干涉。
再者，在該基體板主體511，在光束射出側端面的各區(qū)域RA～RD如圖3所示，分別形成用來安裝葉片按壓部件54的安裝用孔5115A。這些安裝用孔5115A分別形成于下述位置，該位置即使在基體板主體511設置各遮光葉片52且各遮光葉片52進行了轉動時，該安裝用孔5115A也不和各遮光葉片52產生機械干涉。
再者還有，在該基體板主體511，在上方端部側如圖3或圖4所示，形成以開口部5111的中心軸(入射光束的光軸)為中心的平面看圓弧形狀的圓弧狀孔5116。
該圓弧狀孔5116是一種避開孔，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，可插通電磁致動器58下述的動子以及光闌環(huán)56下述的動子連接部一部分，并且即使在光闌環(huán)56進行了轉動時，也不和上述動子及上述動子連接部的一部分產生機械干涉。
另外，在該圓弧狀孔5116周邊部分的光束射出側端面如圖3所示，形成用來安裝定子連接部512的2個定位突起5115B及2個安裝用孔5115C。
另外，在該基體板主體511，在光束入射側端面如圖4所示，形成從開口部5111周緣朝向光束入射側突出的平面看圓形框狀的環(huán)支持部5117。該環(huán)支持部5117是按間隙接合狀態(tài)嵌合于光闌環(huán)56下述的圓孔的部分。
在該環(huán)支持部5117的周緣部分如圖4所示，形成平面看圓形狀的凹部5118。另外，該凹部5118形成為，上方側一直延伸到基體板主體511的上端邊緣。而且，該凹部5118是設置光闌環(huán)56且以開口部5111的大致中心軸(入射光束的光軸)為中心地支持光闌環(huán)56使之可以轉動的部分，并且具有與光闌環(huán)56的外形形狀相應的形狀。
再者，在該基體板主體511，在光束入射側端面的各區(qū)域RA～RD如圖4所示，于凹部5118的周緣部分分別形成用來安裝環(huán)按壓部件57的安裝用孔5115D。這些安裝用孔5115D分別形成于下述位置，該位置即使在對基體板主體511通過光闌環(huán)56安裝環(huán)按壓部件57并且光闌環(huán)56進行了轉動時，該安裝用孔也不和光闌環(huán)56產生機械干涉。
再者還有，在該基體板主體511，在光束射出側端面的下方側及光束入射側端面的上方側分別形成固定部5110，該固定部向該基體板主體511的面外方向突出，用來將其固定于光學部件用殼體45內部。也就是說，通過利用這些固定部5110將基體板主體511固定于光學部件用殼體45內部，使光學光闌裝置5整體被固定于光學部件用殼體45內部。
定子連接部512是將電磁致動器58下述的定子連接于基體板主體511的部件。該定子連接部512如圖3所示，由平面看大致矩形狀的板體構成，安裝于基體板主體511的光束射出側端面，覆蓋圓弧狀孔5116。
在該定子連接部512，在光束射出側端面雖然省略了具體圖示，但是與電磁致動器58下述作為定子的電磁線圈的形狀相對應，形成平面看大致圓形狀的凹部。該凹部是收置并配置上述電磁線圈的部分。
另外，在該定子連接部512如圖3所示，形成平面看矩形狀的貫通孔5121，該貫通孔位于上述凹部的大致中心，貫通光束射出側端面及光束入射側端面。
再者，在該定子連接部512，在四個角部分如圖3所示，與基體板主體511的2個定位突起5115B及2個安裝用孔5115C相對應，分別形成2個定位用孔5122A及2個安裝用孔5122B。而且，定子連接部512在將上述電磁線圈收置并配置到上述凹部的狀態(tài)下，通過使基體板主體511的2個定位突起5115B嵌合于2個定位用孔5122A進行定位，并通過將固定螺紋件5A插通于2個安裝用孔5122B、螺紋接合于基體板主體511的2個安裝用孔5115C，將其固定于基體板主體511。
在這樣將定子連接部512固定到基體板主體511的狀態(tài)下，在定子連接部512的上述凹部所收置并配置的上述電磁線圈就配置于從基體板主體511偏移到光束射出側(離開光闌環(huán)56的一側)的位置。
再者還有，在該定子連接部512，在貫通孔5121的周緣部分如圖3所示，形成用來定位位置傳感器59的2個定位用突起5123和用來固定位置傳感器59的2個固定用孔5124。
4個遮光葉片52由金屬制部件構成，并且如圖3所示，在基體板主體511的光束射出側端面的各區(qū)域RA～RD，通過4個轉動軸53分別被軸支承于各凹部5112，使之可沿著與入射的光束光軸正交的平面進行轉動，并且通過轉動來變更可透射光束的開口面積，調整從第1透鏡陣列412射出的光束的光量。還有，在下面將配置于各區(qū)域RA～RD的遮光葉片52分別設為52A～52D。
這些遮光葉片52具有相同的形狀，并且如圖3所示，由葉片板521、軸承部522及銷狀部523分別構成。
葉片板521如圖3所示，具有端緣形成為曲線狀的平面看大致L形狀，由對入射光束進行遮光的金屬制板體來構成。而且，各葉片板521在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，各葉片板521的各L形狀的內側部分朝向開口部5111內側進行配置，使之包圍開口部5111。另外，各葉片板521在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下其配置為，各板面與入射的光束光軸正交。
軸承部522是在葉片板521的L形狀的一端側整體設置并且可轉動葉片板521的轉動軸53的軸承。
該軸承部522雖然省略了具體的圖示，但是具有從葉片板521的光束入射側端面向光束入射側突出且可插通轉動軸53的大致圓筒形狀。也就是說，軸承部522的光束的光軸方向厚度尺寸形成得比葉片板521的光束的光軸方向厚度尺寸大。而且，軸承部522可以在插通了轉動軸53的狀態(tài)下相對轉動軸53進行轉動，并且通過相對轉動軸53進行轉動，使葉片板521進行轉動。通過這樣使各葉片板521進行轉動，來變更以各葉片板521的各L形狀的內側端緣形成的、可通過光束的開口的開口面積。
而且，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，在軸承部522中插通轉動軸53，并且軸承部522的光束入射側端面觸接于基體板主體511的凹部5112基底部分。
另外，葉片板521構成為，相對軸承部522大致垂直，并且在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，相對插通于軸承部522中的轉動軸53大致垂直。也就是說，各葉片板521在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，成為與基體板主體511的板面大致平行的狀態(tài)。
還有，各葉片板521不限于相對軸承部522大致垂直的結構，只要在各遮光葉片52的轉動時各葉片板521之間不進行接觸，也可以采用具有相對軸承部522為大致垂直之外的角度的結構。也就是說，只要在各遮光葉片52的轉動時各葉片板521之間不進行接觸，也可以采用各葉片板521相對與基體板主體511的板面平行的平面傾斜了預定角度的結構。
這里，軸承部522觸接的基體板主體511的各凹部5112的基底部分高度尺寸雖然省略了具體的圖示，但是其設定為，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，也就是在各遮光葉片52的各軸承部522的光束入射側端面觸接到各凹部5112基底部分的狀態(tài)下，在相鄰的各葉片板521間形成預定尺寸的間隙。
具體而言，各凹部5112A～5112D之中，處于對角位置的凹部5112A、5112C的基底部分高度尺寸以相同的尺寸來形成。處于對角位置的凹部5112B、5112D的基底部分高度尺寸也同樣以相同的尺寸來形成。而且，各凹部5112A、5112C的基底部分高度尺寸設定得比各凹部5112B、5112D的基底部分高度尺寸大預定尺寸。按照這種結構，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，也就是在各遮光葉片52的各軸承部522的光束入射側端面觸接到各凹部5112基底部分的狀態(tài)下，在各遮光葉片52A～52D，從基體板主體511開始的各葉片板521的高度位置有所不同。
也就是說，處于對角位置的各遮光葉片52的各葉片板521位于從基體板主體511開始相同高度的位置，相鄰的各遮光葉片52的各葉片板521位于從基體板主體511開始不同高度的位置。由于按上述方法來設定，因而在相鄰的各葉片板521間形成預定尺寸的間隙，當使各葉片板521進行轉動時，避免了各葉片板521之間產生機械干涉。
銷狀部523在軸承部522的旁邊，并且相對于軸承部522設置在葉片板521的另一端側，是和光闌環(huán)56接合并承受來自光闌環(huán)56的按壓力的部分。
該銷狀部523如圖3所示，從葉片板521的光束入射側端面向光束入射側突出。而且，銷狀部523在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下如圖3所示，插通于基體板主體511的軌道孔5114中，通過軌道孔5114從基體板主體511的光束入射側端面突出，和光闌環(huán)56下述的長孔接合。
4個轉動軸53由具有大致圓柱形狀的金屬制部件構成，固定于基體板主體511及葉片按壓部件54間，是對各遮光葉片52進行軸支承使之可以轉動的部分。
葉片按壓部件54如圖3所示，通過和定子連接部512進行組合而成為和基體板主體511大致相同的外形形狀，具有平面看大致矩形形狀，并且由合成樹脂制的板體構成，是將各遮光葉片52相對基體板51可以轉動地按壓的部分。
在該葉片按壓部件54，在平面看大致中央部分如圖2或圖3所示，形成和基體板主體511的開口部5111相同的、可透射從第1透鏡陣列412所射出的光束的平面看圓形狀開口部541。
另外，在該葉片按壓部件54如圖2或圖3所示，在與基體板主體511的各凹部5112對應的位置分別形成軸固定孔542，該軸固定孔貫通光束射出側端面及光束入射側端面，嵌合并固定轉動軸53的另一方端部。
再者，在該葉片按壓部件54如圖2或圖3所示，在與基體板主體511的各安裝用孔5115A對應的位置分別形成貫穿了光束射出側端面及光束入射側端面的安裝用孔543。而且，通過各安裝用孔543插通固定螺紋件5B、將固定螺紋件5B螺紋接合于各安裝用孔5115A，由此而在相對基體板主體511按壓各遮光葉片52的狀態(tài)下，固定葉片按壓部件54。
4個螺旋彈簧55如圖3所示，可插通各轉動軸53，并且在插通了各轉動軸53另一方端部側的狀態(tài)下，配設于各遮光葉片52和葉片按壓部件54之間，一端側觸接于各遮光葉片52的光束射出側(軸承部522旁邊)，另一端側觸接于葉片按壓部件54的光束入射側端面(軸固定孔542周緣部分)。而且，各螺旋彈簧55在對基體板主體511安裝了葉片按壓部件54時，把各遮光葉片52朝向基體板主體511加力，使各遮光葉片52的各軸承部522觸接于基體板主體511的凹部5112基底部分。
光闌環(huán)56可以轉動地設置于基體板主體511的凹部5118內，并且在設置到凹部5118的狀態(tài)下和各遮光葉片52的各銷狀部523接合，通過進行轉動來推壓各銷狀部523，使各遮光葉片52的各葉片板521以各轉動軸53為中心進行轉動。該光闌環(huán)56由合成樹脂構成，并且如圖3所示，環(huán)主體561和動子連接部562整體形成。
環(huán)主體561具有可插通基體板主體511的環(huán)支持部5117的圓孔5611，并且由平面看圓形框狀的板體構成。
在該環(huán)主體561如圖3所示，在與基體板主體511的各軌道孔5114對應的位置分別形成長孔5612，該長孔可插通從各軌道孔5114突出的各銷狀部523，并且按下述方向延伸成大致直線狀，該方向和以開口部5111的大致中心軸為中心的圓周方向交叉。
動子連接部562如圖3所示，是從環(huán)主體561的外圍邊緣沿著環(huán)主體561的板面向外側延伸，將電磁致動器58下述的動子與環(huán)主體561連接的部分。而且，動子連接部562在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下如圖3所示，其配置為與基體板主體511的上方端部側對向。
該動子連接部562如圖3所示，形成有與基體板主體511的圓弧狀孔5116形狀對應且朝向光束射出側突出的平面看大致矩形框形狀的突出部5621。該突出部5621是在其內部收置并配置電磁致動器58下述的作為動子的永久磁性體的部分。而且，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，突出部5621內部所收置并配置的上述永久磁性體及突出部5621的一部分插通于基體板主體511的圓弧狀孔5116。
這里，突出部5621的光闌環(huán)56轉動方向(以入射光束的光軸為中心的轉動方向)的長度尺寸設定得比基體板主體511的圓弧狀孔5116的光闌環(huán)56轉動方向的長度尺寸小。因此，其構成為，即使在使光闌環(huán)56進行了轉動時，圓弧狀孔5116和突出部5621也不產生機械干涉。
而且，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，通過光闌環(huán)56進行轉動，因為環(huán)主體561的各長孔5612其形成為按下述方向延伸成大致直線狀，該方向和以開口部5111的大致中心軸為中心的圓周方向交叉，所以利用各長孔5612的端緣來推壓各遮光葉片52的各銷狀部523，各銷狀部523沿著各長孔5612進行移動。另外，各銷狀部523在沿著各長孔5612進行移動時，不與基體板51的各軌道孔5114產生機械干涉，其移動為以基體板51的各凹部5112(各轉動軸53)為中心進行轉動。而且，通過各銷狀部523的移動，各遮光葉片52的各葉片板521以各轉動軸53為中心進行轉動。
環(huán)按壓部件57如圖3所示，按和基體板主體511大致相同的外形形狀具有平面看大致矩形形狀，由金屬制的板體構成，是將光闌環(huán)56對基體板51可以轉動地按壓的部分。
在該環(huán)按壓部件57，在平面看大致中央部分如圖3所示，形成和基體板主體511的開口部5111相同的、可透射從第1透鏡陣列412所射出的光束的平面看圓形狀開口部571。
另外，在該環(huán)按壓部件57如圖3所示，在與基體板主體511的各軌道孔5114對應的位置形成和各軌道孔5114相同的軌道孔572。這些軌道孔572和各軌道孔5114相同，是一種避開孔，其形成為，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，插通各遮光葉片52的各銷狀部523，在各銷狀部523的移動時不和各銷狀部523產生機械干涉。
再者，在該環(huán)按壓部件57如圖3所示，在與基體板主體511的安裝用孔5115D對應的位置形成貫通了光束射出側端面及光束入射側端面的安裝用孔573。而且，通過各安裝用孔573插通固定螺紋件5C，將固定螺紋件5C螺紋接合于各安裝用孔5115D中，由此而在對基體板主體511按壓光闌環(huán)56的狀態(tài)下，固定環(huán)按壓部件57。
圖5A～圖5C是分別模式表示電磁致動器58及位置傳感器59結構的附圖。
電磁致動器58如圖3或圖5A～圖5C所示，具備作為定子的電磁線圈581和作為動子的永久磁性體582，用來在由控制裝置6做出的控制之下，通過將電能量轉換成機械能量，相對電磁線圈581使永久磁性體582進行移動，來使光闌環(huán)56進行轉動。
電磁線圈581如圖3所示，具有環(huán)形狀，使線圈軸與入射光束的光軸大致平行地，收置并配置于定子連接部512的上述凹部。
永久磁性體582如圖3或圖5A～圖5C所示，具有第1磁性體部5821(圖5A～圖5C)和第2磁性體部5822(圖5 A～圖5C)被一體化后的結構，并固定于光闌環(huán)56的動子連接部562的突出部5621內側。
第1磁性體部5821如圖5A～圖5C所示，使動子連接部562側為N極、使和動子連接部562側離開的一側(和電磁線圈581對向的一側)為S極地，嵌合固定于突出部5621內側。
第2磁性體部5822如圖5A～圖5C所示，和第1磁性體部5821相反，使動子連接部562側為S極、使離開動子連接部562的一側(和電磁線圈581對向的一側)為N極地，嵌合固定于突出部5621內側。
而且，控制裝置6和電磁線圈581進行電連接，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，來變更電磁力的方向，該電磁力是由來自永久磁性體582的磁通和在與該磁通大致正交的電磁線圈581流通的電流(圖3中，是在電磁線圈581中按上下方向延伸的部分流通的電流)之間的相互作用而產生的。而且，利用電磁力，使永久磁性體582移動到圖5A、圖5C所示的終端位置或圖5B所示的中立位置。相應于永久磁性體582的移動，光闌環(huán)56進行轉動，并且與該光闌環(huán)56的轉動產生聯(lián)動，各遮光葉片52進行轉動，來調整從第1透鏡陣列412所射出的光束的光量。還有，在本實施方式中，在永久磁性體582位于圖5A所示的終端位置的狀態(tài)下，由各遮光葉片52得到的開口面積為最小開口面積Smin，在永久磁性體582位于圖5C所示的終端位置的狀態(tài)下，由各遮光葉片52得到的開口面積為最大開口面積Smax，在永久磁性體582位于圖5B所示的中立位置的狀態(tài)下，由各遮光葉片52得到的開口面積為中間開口面積Smid，該中間開口面積是最大開口面積Smax及最小開口面積Smin的中間。
位置傳感器59安裝于定子連接部512，檢測相對電磁線圈581的永久磁性體582的位置。而且，位置傳感器59將與所檢測到的位置相應的信號輸出給控制裝置6?？刂蒲b置6根據從位置傳感器59輸出的信號，如上所述對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582(各遮光葉片52)位于預定位置。
該位置傳感器59如圖3或圖5A～圖5C所示，具備位置傳感器主體591(圖5A～圖5C)和安裝位置傳感器主體591的電路基板592(圖3)。
位置傳感器主體591如圖5A～圖5C所示，在位置傳感器59安裝到定子連接部512的狀態(tài)下，配置于電磁線圈581的內部且與線圈軸大致一致的位置。也就是說，在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，位置傳感器主體591如圖5A～圖5C所示，配設于與永久磁性體582對向的位置。而且，該位置傳感器主體591具備作為磁元件的霍爾元件5911、輸出特性修正部5912及修正參數(shù)存儲部5913(參見圖7)。由這些霍爾元件5911、輸出特性修正部5912及修正參數(shù)存儲部5913構成的位置傳感器主體591采用1個芯片的IC(Integrated Circuit，集成電路)來構成。
霍爾元件5911是一種利用霍爾效應的磁元件，相應于來自永久磁性體582的磁場強度輸出預定的電壓。
輸出特性修正部5912根據修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的修正參數(shù)(偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù))，來修正霍爾元件5911的輸出特性。
圖6A及圖6B分別是表示輸出特性修正部5912處理功能一例的附圖。具體而言，在圖6A及圖6B中，縱向軸表示從霍爾元件5911輸出的輸出值(電壓值)，橫向軸表示永久磁性體582的位置(由各遮光葉片52得到的開口面積)。另外，在圖6A及圖6B中，實線表示由輸出特性修正部5912做出的輸出特性修正前的霍爾元件5911的輸出特性，虛線表示由輸出特性修正部5912做出的輸出特性修正后的霍爾元件5911的輸出特性。
在由輸出特性修正部5912做出的基于偏移修正參數(shù)的霍爾元件5911輸出特性修正(下面，記述為偏移修正)中，例如如圖6A所示地，修正霍爾元件5911的輸出特性。
更為具體而言，在偏移修正中，使相對偏移電壓值Vof的永久磁性體582的位置產生偏移來修正輸出特性，以便在永久磁性體582位于由各遮光葉片52得到的開口面積為中間開口面積Smid的規(guī)定位置P1的狀態(tài)下，霍爾元件5911輸出偏移電壓值Vof(為最大輸出電壓值Vdd一半的電壓值Vdd/2)。例如如圖6A所示，雖然在偏移修正前在永久磁性體582位于預定位置P2的狀態(tài)下，從霍爾元件5911輸出了偏移電壓值Vof，但是通過偏移修正，來修正輸出特性以便在永久磁性體582位于規(guī)定位置P1的狀態(tài)下，霍爾元件5911輸出偏移電壓值Vof。也就是說，在偏移修正中，如圖6A所示，在相對于永久磁性體582位置的霍爾元件5911的輸出值的斜度為一定的狀態(tài)，使永久磁性體582的位置產生偏移。
而且，在本實施方式中，由下述的修正參數(shù)校正裝置100將其更新為最佳的偏移修正參數(shù)，通過使用該偏移修正參數(shù)的偏移修正，進行修正以在由各遮光葉片52得到的開口面積為中間開口面積Smid的狀態(tài)下、霍爾元件5911輸出偏移電壓值Vof(為最大輸出電壓值Vdd一半的電壓值Vdd/2)。
另外，在由輸出特性修正部5912做出的基于增益修正參數(shù)的霍爾元件5911輸出特性的修正(下面，記述為增益修正)中，例如如圖6B所示地，修正霍爾元件5911的輸出特性。
更為具體而言，在增益修正中，霍爾元件5911的輸出特性如圖6B所示，以在由各遮光葉片52得到的開口面積為中間開口面積Smid的狀態(tài)下、霍爾元件5911輸出的偏移電壓值Vof為基準，來修正斜度。
而且，在本實施方式中，由下述的修正參數(shù)校正裝置100將其更新為最佳的增益修正參數(shù)，通過使用該增益修正參數(shù)的增益修正，進行修正，以便在永久磁性體582位于由各遮光葉片52得到的開口面積為最小開口面積Smin的規(guī)定位置P3(第1位置)的狀態(tài)下、霍爾元件5911輸出最小輸出電壓值0，在永久磁性體582位于由各遮光葉片52得到的開口面積為最大開口面積Smax的規(guī)定位置P4(第2位置)的狀態(tài)下、霍爾元件5911輸出最大輸出電壓值Vdd。
也就是說，輸出特性修正部5912雖然省略了圖示，但是由實施偏移修正的偏移電路部和實施增益修正的增益電路部來構成。
修正參數(shù)存儲部5913能重寫地存儲偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)。更為具體而言，修正參數(shù)存儲部5913由下述的修正參數(shù)校正裝置100，來適當重寫偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)。
也就是說，修正參數(shù)存儲部5913雖然省略了圖示，但是由存儲偏移修正參數(shù)的偏移存儲部和存儲增益修正參數(shù)的增益存儲部來構成。作為這些偏移存儲部及增益存儲部，例如可以采用EEPROM(Electrically ErasableProgrammable Read Only Memory，電可擦可編程只讀存儲器)等。
而且，作為上面所說明的位置傳感器主體591，例如可以采用旭化成電子有限公司制的CM8201。
〔投影機的控制結構〕
圖7是模式表示投影機1及修正參數(shù)校正裝置100控制結構的框圖。
控制裝置6對投影機1整體進行控制。該控制裝置6如圖7所示，具備接口部61、控制部主體62、幀存儲器63及存儲器64等。
接口部61對從外部經由信號線輸入的信號執(zhí)行預先所設定的輸入接口處理，將其轉換成可由控制部主體62處理的信號，并加以輸出。例如，接口部61輸入從各種外部設備輸出的圖像信號等，將其轉換成可由控制部主體62處理的圖像信號，加以輸出。而且，從接口部61所輸出的圖像信號(數(shù)字圖像信號)暫時記錄于幀存儲器63。另外，例如接口部61與修正參數(shù)校正裝置100經由信號線Si1進行連接，輸入從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制信號，將其轉換成可由控制部主體62處理的信號并加以輸出。
控制部主體62例如由CPU(Central Processing Unit，中央處理單元)等構成，如圖7所示，對各液晶面板441、光源裝置411及光學光闌裝置5等進行控制。該控制部主體62如圖7所示，具備液晶面板驅動控制部621、燈驅動控制部622及光闌驅動控制部623等。
液晶面板驅動控制部621按照預定的程序、從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，對各液晶面板441進行驅動控制。例如，液晶面板驅動控制部621按照預定的程序，適當讀取從接口部61輸出、依次存儲于幀存儲器63中的數(shù)字圖像信號，對所讀取的數(shù)字圖像信號實施預定的處理，將與實施過處理的圖像對應的、作為圖像信息的驅動信號輸出給各液晶面板441，使之形成預定的光學像。作為該液晶面板驅動控制部621中上述預定的處理，例如有放大/縮小等的圖像尺寸調整處理、梯形失真修正處理、畫面質量調整處理及灰度系數(shù)修正處理等。這些各處理由于是眾所周知的技術，因而詳細的說明予以省略。另外，液晶面板驅動控制部621按照從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，和上面相同地使各液晶面板441形成預定的光學像。
燈驅動控制部622按照預定的程序、從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，將表示以預定的驅動頻率使光源燈416驅動的內容的控制指令輸出給燈驅動器416A，讓燈驅動器416A生成與預定的驅動頻率相應的驅動信號，使之驅動光源燈416。
光闌驅動控制部623按照預定的程序、從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，根據從位置傳感器59(霍爾元件5911)輸出的輸出值(電壓值)，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使各遮光葉片52位于預定位置。
更為具體而言，光闌驅動控制部623按照預定的程序，對所輸入的圖像信息進行分析，生成與圖像信息對應的圖像明亮度信息。作為該明亮度信息，例如可以在與圖像信息對應的、對應于圖像的各像素的各亮度值中，采用與最大亮度值、最小亮度值及平均亮度值等有關的信息。另外，光闌驅動控制部623根據存儲器64中所存儲的、使明亮度信息和由各遮光葉片52得到的開口面積相關聯(lián)的明亮度-開口面積關聯(lián)信息，來確定與所生成的明亮度信息對應的開口面積。進而，光闌驅動控制部623根據存儲器64中所存儲的、使開口面積和從霍爾元件5911輸出的設計上的設計電壓值相關聯(lián)的開口面積-電壓值關聯(lián)信息，來確定與所確定出的開口面積相關聯(lián)的設計電壓值。然后，光闌驅動控制部623直到從位置傳感器59輸出上述確定出的設計電壓值為止，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使各遮光葉片52位于與上述明亮度信息及上述開口面積相應的預定位置。
另外，光闌驅動控制部623按照從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，直到從位置傳感器59輸出上述控制指令中所包括的指令電壓值為止，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使各遮光葉片52位于預定位置。
存儲器64存儲由光闌驅動控制部623使用的上述明亮度-開口面積關聯(lián)信息及開口面積-電壓值關聯(lián)信息。作為這些明亮度-開口面積關聯(lián)信息及開口面積-電壓值關聯(lián)信息，例如可以采用由LUT(Look-Up-Table，查找表)等構成的數(shù)據結構。作為開口面積-電壓值關聯(lián)信息，例如關于上述最小開口面積Smin、中間開口面積Smid及最大開口面積Smax，對于最小開口面積Smin要使最小輸出電壓值0相關聯(lián)，對于中間開口面積Smid要使偏移電壓值Vdd/2相關聯(lián)，對于最大開口面積Smax要使最大輸出電壓值Vdd相關聯(lián)。
可是，當制造光學光闌裝置5時，在產生了永久磁性體582的磁化位置制造誤差、永久磁性體582的安裝位置制造誤差或位置傳感器59的安裝位置制造誤差等時，卻無法按照由光闌驅動控制部623做出的控制，使各遮光葉片52位于與預期的開口面積相應的位置。
圖8A～圖8C分別是模式表示光學光闌裝置5制造誤差的附圖。具體而言，圖8A是表示在光學光闌裝置5中沒有產生制造誤差時的附圖。圖8B、圖8C是表示在光學光闌裝置5中產生了制造誤差時的附圖。
在光學光闌裝置5中沒有產生制造誤差時，光闌驅動控制部623如圖8A所示，當使各遮光葉片52位于由各遮光葉片52得到的開口面積為中間開口面積Smid的位置時，根據開口面積-電壓值信息，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出與中間開口面積Smid對應的偏移電壓值Vdd/2之位置，也就是使第1磁性體部5821及第2磁性體部5822的異極間位置P0與位置傳感器主體591對向。
另外，在光學光闌裝置5中產生了制造誤差時，也就是如圖8B所示在相對突出部5621內側的永久磁性體582的安裝位置產生了制造誤差時，也和上面相同，光闌驅動控制部623當使各遮光葉片52位于由各遮光葉片52得到的開口面積為中間開口面積Smid的位置時，根據開口面積-電壓值信息，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出與中間開口面積Smid對應的偏移電壓值Vdd/2之位置，也就是使第1磁性體部5821及第2磁性體部5822的異極間位置P0與位置傳感器主體591對向。因此，使永久磁性體582位于從原來為中間開口面積Smid的永久磁性體582位置(圖8C所示的位置)偏離了的位置(圖8B所示的位置)。
還有，在永久磁性體582的安裝位置產生了制造誤差時，不限于中間開口面積Smid，使永久磁性體582位于為其他開口面積的位置的情形也相同，使永久磁性體582位于偏離了的位置，不能使各遮光葉片52位于為預期開口面積的位置。永久磁性體582的NS極邊界錯亂等在磁化位置產生了制造誤差的情形或在位置傳感器59的安裝位置產生了制造誤差的情形，也相同。
因而，即便在光學光闌裝置5中產生了制造誤差時，仍需要在由光闌驅動控制部623做出的控制下，使永久磁性體582位于預期的位置，使各遮光葉片52位于成為預期的開口面積的位置。
〔修正參數(shù)校正裝置的結構〕修正參數(shù)校正裝置100在投影機1的制造后，更新修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)，以便在永久磁性體582位于成為預期的開口面積的位置時，位置傳感器59輸出基于上述開口面積-電壓值信息的、與上述預期開口面積對應的電壓值(設計電壓值)。該修正參數(shù)校正裝置100如圖7所示，具備光束檢測裝置110和校正裝置主體120，該校正裝置主體由具備CPU及硬盤的PC(Personal Computer，個人計算機)來構成。
光束檢測裝置110在校正裝置主體120的控制之下，按照來自校正裝置主體120的控制指令，驅動投影機1，檢測從投影機1放大投影的光學像的光量。作為該光束檢測裝置110，例如可以采用二維光傳感器等，該二維光傳感器由照度計、光傳感器、光電傳感器、CCD(Charge CoupledDevice，電荷耦合器件)及MOS(Metal Oxide Semiconductor，金屬氧化物半導體)等拍攝元件來構成。而且，光束檢測裝置110與校正裝置主體120經由信號線Si2(圖7)進行連接，將與所檢測到的光學像的光量相應的信號輸出給校正裝置主體120。
校正裝置主體120如圖7所示，具備操作部121、顯示部122及控制裝置123。
操作部121具有例如通過鍵盤、鼠標等進行輸入操作的各種操作按鍵。通過實施該操作按鍵的輸入操作，使控制裝置123適當進行工作，并且例如對顯示于顯示部122的信息，實施控制裝置123工作內容的設定等。然后，通過由操作人員做出的對操作部121的輸入操作，從操作部121適當將預定的操作信號輸出給控制裝置123。
還有，作為該操作部121不限于操作按鍵的輸入操作，例如也可以通過利用觸摸式面板的輸入操作或利用聲音的輸入操作等，來設定并輸入各種條件。
顯示部122被控制裝置123所控制，顯示預定的信息。例如，在由控制裝置123處理過的信息顯示或通過操作部121的輸入操作設定并輸入或更新控制裝置123下述的存儲器中所存儲的信息時，使之適當顯示從控制裝置123輸出的存儲器內的數(shù)據。該顯示部122例如使用液晶或有機EL(Electroluminescence，電致發(fā)光)、PDP(Plasma Display Panel，等離子顯示面板)、CRT(Cathode-Ray Tube，陰極射線管)等。
控制裝置123按照來自操作部121的操作信號輸入，執(zhí)行預定的程序，對投影機1輸出預定的控制指令使之驅動投影機1，將偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)更新為最佳的值。該控制裝置123如圖7所示，具備接口部1231、控制部主體1232及存儲器1233。
接口部1231與投影機1的接口部61經由信號線Si1進行連接，對從控制部主體1232輸入的信號執(zhí)行預先所設定的輸出接口處理，并輸出給投影機1。
另外，接口部1231與光束檢測裝置110經由信號線Si2進行連接，對從控制部主體1232輸入的信號執(zhí)行預先所設定的輸出接口處理，并輸出給光束檢測裝置110。
進而，接口部1231將從光束檢測裝置110輸出的信號轉換為可由控制部主體1232處理的信號，并輸出給控制部主體1232。
存儲器1233存儲由控制部主體1232執(zhí)行的程序、由控制部主體1232使用的基準光量信息及基準輸出值信息。
具體而言，上述光量信息由中間光量信息、最大光量信息、最小光量信息構成，該中間光量信息是在開口面積為中間開口面積Smid時、與從投影機1放大投影且由光束檢測裝置110檢測的設計上的中間光量有關的信息，該最大光量信息或最小光量信息是在開口面積為最大開口面積Smax或最小開口面積Smin時、與從投影機1放大投影且由光束檢測裝置110檢測的設計上的最大光量或最小光量有關的信息。另外，這些中間光量信息、最大光量信息及最小光量信息是與對設計上的中間光量Lmid、最大光量Lmax及最小光量Lmin考慮了預定允許值P的預定范圍有關的信息。更為具體而言，中間光量信息是與Lmid-P～Lmid+P的范圍有關的信息，最大光量信息是與Lmax-P～Lmax+P的范圍有關的信息，最小光量信息是與Lmin-P～Lmin+P的范圍有關的信息。
另外，上述基準輸出值信息是設計偏移電壓值信息、設計最大輸出電壓值信息及設計最小輸出電壓值信息，該設計偏移電壓值信息是在永久磁性體582位于開口面積為中間開口面積Smid的位置時、與從位置傳感器59輸出的設計上的偏移電壓值Vdd/2有關的信息，該設計最大輸出電壓值信息是在永久磁性體582位于開口面積為最大開口面積Smax的位置時、與從位置傳感器59輸出的設計上的最大輸出電壓值Vdd有關的信息，該設計最小輸出電壓值信息是在永久磁性體582位于開口面積為最小開口面積Smin的位置時、與從位置傳感器59輸出的設計上的最小輸出電壓值0有關的信息。
也就是說，存儲器1233相當于本發(fā)明所涉及的光量信息存儲部及輸出值信息存儲部。
控制部主體1232包括CPU等來構成，按照由操作人員做出的操作部121的輸入操作，從存儲器1233讀取預定的程序并執(zhí)行預定的處理，對投影機1輸出預定的控制指令使投影機1驅動，并且根據從光束檢測裝置110輸出的信號，將偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)更新為最佳的值。
而且，控制部主體1232相當于本發(fā)明所涉及的光源驅動控制部、光闌驅動控制部及參數(shù)更新部。
〔利用修正參數(shù)校正裝置的修正參數(shù)校正方法〕下面，根據附圖，來說明利用上述修正參數(shù)校正裝置100的修正參數(shù)校正方法。
圖9是說明利用修正參數(shù)校正裝置100的修正參數(shù)校正方法的流程圖。
還有，在實施下面的修正參數(shù)校正方法之前，設為投影機1在全部組裝起來的狀態(tài)下，電源已被導通并進行驅動。另外，其狀態(tài)為，由信號線Si1將修正參數(shù)校正裝置100及投影機1間連接起來。再者，其狀態(tài)為，由信號線Si2將光束檢測裝置110及接口部1231間連接起來。
首先，操作人員通過修正參數(shù)校正裝置100的操作部121，來實施表示對投影機1中的修正參數(shù)(偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù))進行校正的內容的輸入操作。然后，修正參數(shù)校正裝置100的控制部主體1232輸入從操作部121輸出的操作信號，按照預定的程序，如下所示對修正參數(shù)進行校正。
也就是說，控制部主體1232經由信號線Si1對投影機1輸出表示使光源燈416點亮的內容的控制指令。然后，投影機1的燈驅動控制部622按照上述控制指令，使燈驅動器416A將光源燈416點亮(步驟S1光束射出步驟)。
步驟S1之后，控制部主體1232經由信號線Si1對投影機1輸出表示使各液晶面板441進行白色顯示的內容的控制指令。然后，投影機1的液晶面板驅動控制部621按照上述控制指令，使各液晶面板441分別形成白色顯示的光學像(步驟S2)。
步驟S2之后，控制部主體1232對偏移修正參數(shù)進行校正(步驟S3)。
具體而言，圖10是說明偏移修正參數(shù)校正方法的流程圖。
首先，控制部主體1232讀取存儲器1233中所存儲的設計偏移電壓值信息，經由信號線Si1對投影機1輸出下述控制指令，該控制指令表示使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出基于設計偏移電壓值信息的偏移電壓值Vdd/2的位置的內容。然后，投影機1的光闌驅動控制部623按照上述控制指令，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出偏移電壓值Vdd/2的基準位置(偏移基準位置)(步驟S3A永久磁性體定位步驟)。
步驟S3A之后，控制部主體1232經由信號線Si2對光束檢測裝置110輸出預定的控制信號，使光束檢測裝置110檢測從投影機1放大投影的光學像的光量LX(步驟S3B光束檢測步驟)。然后，光束檢測裝置110將與所檢測到的光學像的檢測光量LX相應的信號輸出給控制部主體1232。
步驟S3B之后，控制部主體1232對存儲器1233中所存儲的中間光量信息和由光束檢測裝置110所檢測到的檢測光量LX進行比較。
具體而言，首先，控制部主體1232判定檢測光量LX是否為基于中間光量信息的Lmid-P以上(步驟S3C)。
在步驟S3C中，控制部主體1232在判定為“否”時，也就是判定為檢測光量LX未達到Lmid-P時，經由信號線Si1對投影機1輸出表示使偏移修正參數(shù)增加的內容的控制指令。然后，投影機1使位置傳感器59的修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的偏移修正參數(shù)增加(步驟S3D)。然后，修正參數(shù)存儲部5913存儲變更后的偏移修正參數(shù)(步驟S3E)。
更為具體而言，在步驟S3C中，作為判定出檢測光量LX未達到Lmid-P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出偏移電壓值Vdd/2的偏移基準位置時，位于由各遮光葉片52得到的開口面積為比中間開口面積Smid小的開口面積之位置的狀態(tài)。
然后，在步驟S3D及步驟S3E中，通過使偏移修正參數(shù)得到增加并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的偏移修正參數(shù)來實施上述的偏移修正。也就是說，通過該偏移修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出和偏移電壓值Vdd/2不同的電壓值。
步驟S3E之后，再次回到步驟S3A。也就是說，光闌驅動控制部623按照從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，再次對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出偏移電壓值Vdd/2的偏移基準位置。
然后，控制部主體1232在步驟S3C中，直到判定為“是”為止，也就是直到判定為檢測光量LX為Lmid-P以上為止，反復實施上述的步驟S3A～S3E。
在步驟S3C中，控制部主體1232在判定為“是”時，也就是判定出檢測光量LX為Lmid-P以上時，接著判定檢測光量LX是否為基于中間光量信息的Lmid+P以下(步驟S3F)。
在步驟S3F中，控制部主體1232在判定為“否”時，也就是判定出檢測光量LX超過Lmid+P時，經由信號線Si1對投影機1輸出表示使偏移修正參數(shù)減少的內容的控制指令。然后，投影機1使位置傳感器59的修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的偏移修正參數(shù)減少(步驟S3G)。然后，修正參數(shù)存儲部5913在步驟S3E中，存儲變更后的偏移修正參數(shù)。
更為具體而言，在步驟S3F中，作為判定出檢測光量LX超過Lmid+P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出偏移電壓值Vdd/2的偏移基準位置時，位于由各遮光葉片52得到的開口面積為比中間開口面積Smid大的開口面積之位置的狀態(tài)。
然后，在步驟S3G及步驟S3E中，通過使偏移修正參數(shù)得到減少并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的偏移修正參數(shù)，來實施上述的偏移修正。也就是說，通過該偏移修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出和偏移電壓值Vdd/2不同的電壓值。
在步驟S3G中使偏移修正參數(shù)減少，在步驟S3E中重寫偏移修正參數(shù)，之后再次回到步驟S3A。也就是說，光闌驅動控制部623按照從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，再次對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出偏移電壓值Vdd/2的偏移基準位置。
然后，控制部主體1232在步驟S3F中，直到判定為“是”為止，也就是直到判定為檢測光量LX為Lmid+P以下為止，反復實施上述的步驟S3A～S3G。
通過上面的偏移修正參數(shù)校正(步驟S3)，檢測光量LX進入大于等于Lmid-P且小于等于Lmid+P的范圍內，因此即便在光學光闌裝置5中產生了上述制造誤差的情況下，在永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出偏移電壓值Vdd/2的偏移基準位置時，其狀態(tài)仍成為，位于由各遮光葉片52得到的開口面積為大致中間開口面積Smid的位置。
步驟S3之后，控制部主體1232對增益修正參數(shù)進行校正(步驟S4)。
具體而言，圖11是說明增益修正參數(shù)校正方法的流程圖。
首先，控制部主體1232讀取存儲器1233中所存儲的設計最大輸出電壓值信息，經由信號線Si1對投影機1輸出下述控制指令，該控制指令表示使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出基于設計最大輸出電壓值信息的最大輸出電壓值Vdd之基準位置(增益基準位置)的內容。然后，投影機1的光闌驅動控制部623按照上述控制指令，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的增益基準位置(步驟S4A永久磁性體定位步驟)。
步驟S4A之后，控制部主體1232經由信號線Si2對光束檢測裝置110輸出預定的控制指令，使光束檢測裝置110檢測從投影機1放大投影的光學像的光量LX(步驟S4B光束檢測步驟)。然后，光束檢測裝置110將與所檢測到的光學像的檢測光量LX相應的信號輸出給控制部主體1232。
步驟S4B之后，控制部主體1232對存儲器1233中所存儲的最大光量信息和由光束檢測裝置110所檢測到的檢測光量LX進行比較。
具體而言，首先，控制部主體1232判定檢測光量LX是否為基于最大光量信息的Lmax-P以上(步驟S4C)。
在步驟S4C中，控制部主體1232在判定為“否”時，也就是判定為檢測光量LX未達到Lmax-P時，經由信號線Si1對投影機1輸出表示使增益修正參數(shù)增加之內容的控制指令。然后，投影機1使位置傳感器59的修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的增益修正參數(shù)增加(步驟S4D)。然后，修正參數(shù)存儲部5913存儲變更后的增益修正參數(shù)(步驟S4E)。
更為具體而言，在步驟S4E中，作為判定出檢測光量LX未達到Lmax-P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的增益基準位置時，位于由各遮光葉片52得到的開口面積為比最大開口面積Smax小的開口面積之位置的狀態(tài)。
然后，在步驟S4D及步驟S4E中，通過使增益修正參數(shù)得到增加并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的增益修正參數(shù)來實施上述的增益修正。也就是說，通過該增益修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出和最大輸出電壓值Vdd不同的電壓值。
步驟S4E之后，再次回到步驟S4A。也就是說，光闌驅動控制部623按照從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，再次對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的增益基準位置。
然后，控制部主體1232在步驟S4C中，直到判定為“是”為止，也就是直到判定為檢測光量LX為Lmax-P以上為止，反復實施上述的步驟S4A～S4E。
在步驟S4C中，控制部主體1232在判定為“是”時，也就是判定出檢測光量LX為Lmax-P以上時，接著判定檢測光量LX是否為基于最大光量信息的Lmax+P以下(步驟S4F)。
在步驟S4F中，控制部主體1232在判定為“否”時，也就是判定出檢測光量LX超過Lmax+P時，經由信號線Si1對投影機1輸出表示使增益修正參數(shù)減少之內容的控制指令。然后，投影機1使位置傳感器59的修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的增益修正參數(shù)減少(步驟S4G)。然后，修正參數(shù)存儲部5913在步驟S4E中，存儲變更后的增益修正參數(shù)。
更為具體而言，在步驟S4F中，作為判定出檢測光量LX超過Lmax+P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的增益基準位置時，位于由各遮光葉片52得到的開口面積為比最大開口面積Smax大的開口面積之位置的狀態(tài)。
然后，在步驟S4G及步驟S4E中，通過使增益修正參數(shù)得到減少并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的增益修正參數(shù)，來實施上述的增益修正。也就是說，通過該增益修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出和最大輸出電壓值Vdd不同的電壓值。
在步驟S4G中使增益修正參數(shù)減少、在步驟S4E中重寫增益修正參數(shù)，之后再次回到步驟S4A。也就是說，光闌驅動控制部623按照從修正參數(shù)校正裝置100輸出的控制指令，再次對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的增益基準位置。
然后，控制部主體1232在步驟S4F中，直到判定為“是”為止，也就是直到判定為檢測光量LX為Lmax+P以下為止，反復實施上述的步驟S4A～S4G。
通過上面的增益修正參數(shù)校正(步驟S4)，檢測光量LX進入大于等于Lmax-P且小于等于Lmax+P的范圍內，因此即便在光學光闌裝置5中產生了上述制造誤差的情況下，在永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的增益基準位置時，其狀態(tài)仍成為，位于由各遮光葉片52得到的開口面積為大致最大開口面積Smax的位置。另外，如上所述，在增益修正中，由于霍爾元件5911輸出特性的斜度以偏移電壓值Vof為基準進行變更，因而在永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最小輸出電壓值0的位置時，其狀態(tài)為，位于由各遮光葉片52得到的開口面積為大致最小開口面積Smin的位置。也就是說，通過對增益修正參數(shù)進行校正，使霍爾元件5911的輸出特性修正為，與存儲器64中所存儲的開口面積-電壓值關聯(lián)信息對應的輸出特性。
而且，上述的步驟S3C～S3G、S4C～S4G相當于本發(fā)明所涉及的參數(shù)更新步驟。
在步驟S4之后，控制部主體1232經由信號線Si1對投影機1輸出表示修正參數(shù)的校正已結束之內容的信號。然后，投影機1的燈驅動控制部622按照上述控制指令，使燈驅動器416A將光源燈416熄滅(步驟S5)。
通過上面的步驟S1～S5，修正參數(shù)的校正就得以結束。
根據上述的第1實施方式，具有下面的效果。
在本實施方式中，由于光學光闌裝置5，作為使各遮光葉片52進行轉動的驅動裝置具備電磁致動器58，因而有下面的效果。
也就是說，可以進行低電壓驅動，可謀求光學光闌裝置5的低消耗電力化。
另外，可以在較小尺寸的區(qū)域產生較大的力，使光闌環(huán)56平滑轉動，使遮光葉片52平滑轉動。
再者，即便在高濕度等的惡劣環(huán)境下也可以使用，能謀求光學光闌裝置5的長壽命化。
再者還有，驅動響應特性良好，可以使遮光葉片52做出高速響應使其平滑轉動。
因而，通過作為驅動裝置使用電磁致動器58，與像以往那樣作為驅動裝置使用脈沖電動機等的結構相比較，可以采用電磁線圈581及永久磁性體582的簡單結構來構成驅動裝置，能夠使光學光闌裝置5的結構簡單化及小型化。另外，與以往的結構相比較，還可以使驅動時的振動得到減低，能夠實現(xiàn)光學光闌裝置5穩(wěn)定的驅動。
另外，對光學光闌裝置5進行驅動控制的光闌驅動控制部623根據存儲器64中所存儲的開口面積-電壓值信息，在使遮光葉片52位于成為預定開口面積的位置時，識別與上述預定開口面積相關聯(lián)的設計電壓值。然后，光闌驅動控制部623，使得從位置傳感器59輸出的輸出值與所識別出的設計電壓值大致相同地，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于預定位置。根據這種結構，使光闌驅動控制部623的處理負荷得到減輕，能謀求控制裝置6的控制結構簡單化。
再者，由于位置傳感器59具備霍爾元件5911及輸出特性修正部5912，因而只要將修正參數(shù)(偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù))校正為最佳的修正參數(shù)，輸出特性修正部5912就根據校正后的修正參數(shù)來修正霍爾元件5911的輸出特性，因此即使在光學光闌裝置5中產生了上述制造誤差的情況下，也可以在使永久磁性體582位于與預定開口面積對應的位置時，使霍爾元件5911輸出與上述預定開口面積對應的設計電壓值。因此，在光闌驅動控制部623對電磁線圈581實施正向通電或反向通電、使得來自位置傳感器59的輸出值大致相同于與預定開口面積對應的設計電壓值時，可以使永久磁性體582位于與上述預定開口面積對應的位置，能夠使各遮光葉片52以高準確度位于成為上述預定開口面積的位置。因而，使光闌驅動控制部623的處理負荷得到減輕，同時可以通過光闌驅動控制部623使遮光葉片52以高準確度進行移動，實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動。
在此，由于修正參數(shù)包括偏移修正參數(shù)，因而通過輸出特性修正部5912使用偏移修正參數(shù)來實施偏移修正，而可以使相對偏移電壓值Vdd/2的永久磁性體582的位置產生偏移，在永久磁性體582位于成為中間開口面積Smid的偏移基準位置的狀態(tài)下，使霍爾元件5911輸出偏移電壓值Vdd/2。因而，這樣構成為，可以進行使用偏移修正參數(shù)的偏移修正，因此能夠采用簡單的電路結構來實現(xiàn)霍爾元件5911輸出特性的修正。
再者，由于修正參數(shù)除了偏移修正參數(shù)之外，還包括增益修正參數(shù)，因而通過輸出特性修正部5912使用增益修正參數(shù)來實施增益修正，而可以在永久磁性體582位于從成為最小開口面積Smin的位置P3到成為最大開口面積Smax的位置P4的范圍的狀態(tài)下，對應于永久磁性體582的上述范圍內各位置，使霍爾元件5911輸出設計上的各設計電壓值。因而，這樣構成為，可以進行使用增益修正參數(shù)的增益修正，因此能夠采用簡單的電路結構來實現(xiàn)霍爾元件5911輸出特性的修正。
另外，由于可以通過增益修正，將霍爾元件5911輸出的電壓值在所有的范圍(位置P3～位置P4)內修正為各設計電壓值，因而能夠使各遮光葉片52以更高準確度進行移動，實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動。
再者，由于位置傳感器59中所設置的修正參數(shù)存儲部5913能重寫地存儲修正參數(shù)，因而可以對修正參數(shù)進行適當校正將其更新為最佳的修正參數(shù)。因而，通過輸出特性修正部5912使用更新后的最佳修正參數(shù)來修正霍爾元件5911的輸出特性，就可以在永久磁性體582位于與預定開口面積對應的位置時，使霍爾元件5911輸出與上述預定開口面積對應的設計電壓值。
而且，由于投影機1可以通過光學光闌裝置5調整從光源裝置411向液晶面板441照射的光束的光量，因而通過光闌驅動控制部623按照圖像的明亮度信息對光學光闌裝置5進行控制，在整體較暗的場面時減低光量，在整體較明亮的場面時增加光量，而可以實現(xiàn)高對比度比的投影圖像。
另外，由于投影機1具備能使結構簡單化及小型化的光學光闌裝置5，因而在投影機1內部，可以在接近配置的第1透鏡陣列412及第2透鏡陣列413的部件間容易配設光學光闌裝置5，能夠使投影機1的設計自由度得到提高。
再者，由于投影機1具備能在驅動時抑制振動而實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動的光學光闌裝置5，因而可以抑制因振動而給投影圖像帶來的影響，能良好維持投影圖像。
再者還有，由于能使光闌驅動控制部623的處理負荷得到減低，同時可以通過光闌驅動控制部623使各遮光葉片52以高準確度進行轉動，因而能夠以高準確度調整從光源裝置411向液晶面板441照射的光束的光量，可以使投影圖像的圖像質量得到提高。
而且還有，由于修正參數(shù)校正裝置100在將投影機1組裝起來的狀態(tài)下，根據從光源裝置411射出、經過光學光闌裝置5且由投影透鏡3放大投影的光學像的光量，也就是實際由光學光闌裝置5進行光量調整的光束，來更新修正參數(shù)，因而能夠以更高準確度調整從光源裝置411向液晶面板441照射的光束的光量，可以使投影圖像的圖像質量得到進一步提高。
〔第2實施方式〕下面，根據

本發(fā)明的第2實施方式。
還有，在下面的說明中，對于和已經說明的部分相同的部分，附上相同的符號以省略其說明。
在上述第1實施方式中，修正參數(shù)校正裝置100在將投影機1組裝起來之后，通過使投影機1進行適當驅動，來校正修正參數(shù)。
相對于此，在第2實施方式中，修正參數(shù)校正裝置200通過使用光學光闌裝置5單體，使光學光闌裝置5進行適當驅動，來校正修正參數(shù)。也就是說，本實施方式對于上述第1實施方式來說，只是修正參數(shù)校正裝置200的結構不同，其他的投影機1的結構則和上述第1實施方式相同。
圖12是模式表示第2實施方式中的修正參數(shù)校正裝置200控制結構的框圖。
修正參數(shù)校正裝置200如圖12所示，相對于上述第1實施方式中所說明的修正參數(shù)校正裝置100而言，不同之處只是，具備修正用光源裝置230以及與控制裝置123對應的控制裝置223的控制結構。
修正用光源裝置230在由控制裝置223做出的控制之下，朝向光學光闌裝置5射出光束。作為該修正用光源裝置230，例如可以采用LED(LightEmitting Diode，發(fā)光二極管)元件、激光二極管、有機EL元件及硅發(fā)光元件等的各種固體發(fā)光元件。
控制裝置223按照來自操作部121的操作信號的輸入，執(zhí)行預定的程序，驅動光學光闌裝置5，將偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)更新為最佳的值。該控制裝置223如圖12所示，除上述第1實施方式中所說明的存儲器1233之外，還具備接口部2231和控制部主體2232。
接口部2231和光學光闌裝置5經由信號線Si3進行連接，對從控制部主體2232輸入的信號執(zhí)行預先所設定的輸出接口處理，將其輸出給光學光闌裝置5(電磁線圈581、位置傳感器59)。
另外，接口部2231將從光學光闌裝置5(位置傳感器59)輸出的信號轉換成可由控制部主體2232處理的信號，并輸出給控制部主體2232。
再者，接口部2231和光束檢測裝置110經由信號線Si2進行連接，對從控制部主體2232輸入的信號執(zhí)行預先所設定的輸出接口處理，將其輸出給光束檢測裝置110。
再者還有，接口部2231將從光束檢測裝置110輸出的信號轉換成可由控制部主體2232處理的信號，并輸出給控制部主體2232。
控制部主體2232包括CPU等來構成，按照由操作人員做出的對操作部121的輸入操作，從存儲器1233讀取預定的程序，執(zhí)行預定的處理，對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，并且根據從光束檢測裝置110輸出的信號，將偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)更新成最佳的值。
而且，控制部主體2232相當于本發(fā)明所涉及的光源驅動控制部、光闌驅動控制部及參數(shù)更新部。
下面，根據附圖，來說明利用上述修正參數(shù)校正裝置200的修正參數(shù)校正方法。
圖13是說明第2實施方式中利用修正參數(shù)校正裝置200的修正參數(shù)校正方法的流程圖。
還有，在實施下面的修正參數(shù)校正方法之前，其狀態(tài)為，光學光闌裝置5在全部組裝起來的狀態(tài)下，使光學光闌裝置5和接口部2231經由信號線Si3進行連接。另外，其狀態(tài)為，光束檢測裝置110和接口部2231經由信號線Si2進行連接。
首先，修正參數(shù)校正裝置200的控制部主體2232，若對操作部121實施了表示校正修正參數(shù)的內容的輸入操作，則按照預定的程序，如下所示對修正參數(shù)進行校正。
也就是說，控制部主體2232對修正用光源裝置230輸出預定的控制指令，使修正用光源裝置230射出光束(步驟S11光束射出步驟)。
步驟S11之后，控制部主體2232對偏移修正參數(shù)進行校正(步驟S12)。還有，因為偏移修正參數(shù)的校正方法和上述第1實施方式中所說明的偏移修正參數(shù)校正方法大致相同，所以在下面參照圖10進行說明。
首先，控制部主體2232讀取存儲器1233中所存儲的設計偏移電壓值信息，并識別基于設計偏移電壓值信息的偏移電壓值Vdd/2。另外，控制部主體2232對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出偏移電壓值Vdd/2的基準位置(偏移基準位置)(步驟S12A永久磁性體定位步驟)。
步驟S12A之后，控制部主體2232經由信號線Si2對光束檢測裝置110輸出預定的控制信號，使光束檢測裝置110檢測從修正用光源裝置230射出且經過光學光闌裝置5后的光束的光量LX(步驟S12B光束檢測步驟)。然后，光束檢測裝置110將與所檢測到的光束的檢測光量LX相應的信號輸出給控制部主體2232。
步驟S12B之后，實施和上述第1實施方式中所說明的步驟S3C～S3G大致相同的處理。也就是說，控制部主體2232對存儲器1233中所存儲的中間光量信息和由光束檢測裝置110所檢測到的檢測光量LX進行比較(步驟S12C、S12F)，按照比較結果來適當變更偏移修正參數(shù)(步驟S12D、S12G)，使變更后的偏移修正參數(shù)存儲于修正參數(shù)存儲部5913中(步驟S12E)。
步驟S12之后，控制部主體2232對增益修正參數(shù)進行校正(步驟S13)。還有，因為增益修正參數(shù)校正方法和上述第1實施方式中所說明的此修正參數(shù)校正方法大致相同，所以在下面參照圖11進行說明。
首先，控制部主體2232讀取存儲器1233中所存儲的設計最大輸出電壓值信息，并識別基于設計最大輸出電壓值信息的最大輸出電壓值Vdd。另外，控制部主體2232對電磁線圈581實施正向通電或反向通電，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的基準位置(增益基準位置)(步驟S13A永久磁性體定位步驟)。
步驟S13A之后，控制部主體2232經由信號線Si2對光束檢測裝置110輸出預定的控制信號，使光束檢測裝置110檢測從修正用光源裝置230射出且經過光學光闌裝置5后的光束的光量LX(步驟S13B光束檢測步驟)。然后，光束檢測裝置110將與所檢測到的光束的檢測光量LX相應的信號輸出給控制部主體2232。
步驟S13B之后，實施和上述第1實施方式中所說明的步驟S4C～S4G大致相同的處理。也就是說，控制部主體2232對存儲器1233中所存儲的最大光量信息和由光束檢測裝置110所檢測到的檢測光量LX進行比較(步驟S13C、S13F)，按照比較結果來適當變更增益修正參數(shù)(步驟S13D、S13G)，使變更后的增益修正參數(shù)存儲于修正參數(shù)存儲部5913中(步驟S13E)。
而且，上述的步驟S12C～S12G、S13C～S13G相當于本發(fā)明所涉及的參數(shù)更新步驟。
通過上面的步驟S11～S13，修正參數(shù)的校正就得以結束。
在上述的第2實施方式中，除了和上述第1實施方式大致相同的效果之外，還有下面的效果。
由于本實施方式的修正參數(shù)校正裝置200在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，根據從修正用光源裝置230射出且經過光學光闌裝置5后的光束的光量，來更新修正參數(shù)，因而不需要在對投影機1裝載了光學光闌裝置5的狀態(tài)下更新修正參數(shù)，而可以使用光學光闌裝置5單體和修正參數(shù)校正裝置200來更新修正參數(shù)，能謀求更新修正參數(shù)時作業(yè)空間的高效化。
另外，由于修正用光源裝置230由固體發(fā)光元件來構成，因而例如與作為修正用光源裝置230采用放電發(fā)光型光源燈的結構相比較，能謀求修正參數(shù)校正裝置200的小型、輕質化。另外，由于可以使修正用光源裝置230射出亮度穩(wěn)定的光束，因而通過根據亮度穩(wěn)定的光束的光量來更新修正參數(shù)，就能夠以高準確度校正修正參數(shù)。
〔第3實施方式〕下面，根據

本發(fā)明的第3實施方式。
還有，在下面的說明中，對于和已經說明的部分相同的部分，附上相同的符號而省略其說明。
在上述第1實施方式中，修正參數(shù)校正裝置100在將投影機1組裝起來之后，通過使投影機1進行適當驅動，來校正修正參數(shù)。另外，根據由光束檢測裝置110所檢測到的檢測光量LX，來校正修正參數(shù)。
相對于此，在第3實施方式中，修正參數(shù)校正裝置300通過使用光學光闌裝置5單體，使光學光闌裝置5進行適當驅動，來校正修正參數(shù)。另外，修正參數(shù)校正裝置300具備機械式光闌驅動裝置340，其和光學光闌裝置5進行機械連接，以機械方式使各遮光葉片52位于成為預定開口面積的位置。而且，在由機械式光闌驅動裝置340，使各遮光葉片52位于成為預定開口面積的位置的狀態(tài)下，校正修正參數(shù)，以使位置傳感器59輸出與上述預定開口面積對應的設計上的輸出值。也就是說，本實施方式相對于上述第1實施方式來說，只是修正參數(shù)校正裝置300的結構不同，其他的投影機1的結構則和上述第1實施方式相同。
圖14是模式表示第3實施方式中的修正參數(shù)校正裝置300的控制結構的框圖。
修正參數(shù)校正裝置300如圖14所示，相對于上述第1實施方式中所說明的修正參數(shù)校正裝置100而言，不同之處只是，省略了光束檢測裝置110、具備機械式光闌驅動裝置340以及與控制裝置123對應的控制裝置323的控制結構。
機械式光闌驅動裝置340例如采用電動機等來構成，并且和光學光闌裝置5中的光闌環(huán)56進行機械連接，通過驅動使光闌環(huán)56進行轉動。也就是說，通過驅動機械式光闌驅動裝置340，使光闌環(huán)56進行轉動，使各遮光葉片52位于成為預定開口面積的位置。
控制裝置323按照來自操作部121的操作信號的輸入，執(zhí)行預定的程序，使機械式光闌驅動裝置340進行適當驅動，并根據從位置傳感器59輸出的輸出值，將偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)更新為最佳的值。該控制裝置323如圖14所示，具備接口部3231、控制部主體3232及存儲器3233。
接口部3231和光學光闌裝置5(位置傳感器59)經由信號線Si3進行連接，對從控制部主體3232輸入的信號執(zhí)行預先所設定的輸出接口處理，將其輸出給位置傳感器59。
另外，接口部3231將從位置傳感器59輸出的信號轉換成可由控制部主體3232處理的信號，并輸出給控制部主體3232。
再者，接口部3231和機械式光闌驅動裝置340經由信號線Si4進行連接，對從控制部主體3232輸入的信號執(zhí)行預先所設定的輸出接口處理，將其輸出給機械式光闌驅動裝置340。
存儲器3233存儲由控制部主體3232執(zhí)行的程序、由控制部主體3232使用的基準輸出值信息及驅動值信息。
具體而言，上述基準輸出值信息是設計偏移電壓值信息、設計最大輸出電壓值信息及設計最小輸出電壓值信息，該設計偏移電壓值信息是永久磁性體582時位于開口面積為中間開口面積Smid的位置時、與從位置傳感器59輸出的設計上的偏移電壓值有關的信息，該設計最大輸出電壓值信息是永久磁性體582位于開口面積為最大開口面積Smax的位置時、與從位置傳感器59輸出的設計上的最大輸出電壓值有關的信息，該設計最小輸出電壓值信息是永久磁性體582位于開口面積為最小開口面積Smin的位置時、與從位置傳感器59輸出的設計上的最小輸出電壓值有關的信息。另外，這些設計偏移電壓值信息、設計最大輸出電壓值信息及設計最小輸出電壓值信息是與對設計上的偏移電壓值Vdd/2、最大輸出電壓值Vdd及最小輸出電壓值0考慮了預定允許值P的預定范圍有關的信息。更為具體而言，設計偏移電壓值信息是與Vdd/2-P～Vdd/2+P的范圍有關的信息，設計最大輸出值信息是與Vdd-P～Vdd+P的范圍有關的信息，設計最小輸出值信息是與P以下的范圍有關的信息。
也就是說，存儲器3233相當于本發(fā)明所涉及的輸出值信息存儲部。
另外，上述驅動值信息是與驅動機械式光闌驅動裝置340時的驅動值(如果機械式光闌驅動裝置340采用脈沖電動機等來構成，則是脈沖值等)有關的信息。更為具體而言，上述驅動值信息由中間驅動值信息、最大驅動值信息、最小驅動值信息構成，該中間驅動值信息是與用來使各遮光葉片52位于開口面積為中間開口面積Smid的位置的機械式光闌驅動裝置340的中間驅動值有關的信息，該最大驅動值信息或最小驅動值信息是與用來使各遮光葉片52位于開口面積為最大開口面積Smax或最小開口面積Smin的位置的機械式光闌驅動裝置340的最大驅動值或最小驅動值有關的信息。
控制部主體3232包括CPU等來構成，按照由操作人員做出的對操作部121的輸入操作，從存儲器3233讀取預定的程序，執(zhí)行預定的處理，使機械式光闌驅動裝置340驅動而使各遮光葉片52位于成為預定開口面積的基準位置，并且根據從位置傳感器59輸出的信號，將偏移修正參數(shù)及增益修正參數(shù)更新為最佳的值。
而且，控制部主體3232相當于本發(fā)明所涉及的機械式光闌驅動控制部及參數(shù)更新部。
下面，根據附圖，來說明利用上述修正參數(shù)校正裝置300的修正參數(shù)校正方法。
圖15是說明第3實施方式中利用修正參數(shù)校正裝置300的修正參數(shù)校正方法的流程圖。
還有，在實施下面的修正參數(shù)校正方法之前，其狀態(tài)為，光學光闌裝置5在全部組裝起來的狀態(tài)下，使光闌環(huán)56和機械式光闌驅動裝置340進行機械連接，使位置傳感器59和接口部3231經由信號線Si3進行連接。另外，其狀態(tài)為，機械式光闌驅動裝置340和接口部3231經由信號線Si4進行連接。再者，使光學光闌裝置5的光闌環(huán)56位于預定的轉動位置，并且使各遮光葉片52位于成為預定開口面積(例如，最小開口面積Smin、最大開口面積Smax)的位置。
首先，修正參數(shù)校正裝置300的控制部主體3232，若對操作部121實施了表示校正修正參數(shù)的內容的輸入操作，則按照預定的程序，如下所示對修正參數(shù)進行校正。
也就是說，首先控制部主體3232對偏移修正參數(shù)進行校正(步驟S21)。
具體而言，圖16是說明偏移修正參數(shù)校正方法的流程圖。
首先，控制部主體3232讀取存儲器3233中所存儲的中間驅動值信息，并將基于中間驅動值信息的中間驅動值輸出給機械式光闌驅動裝置340。然后，機械式光闌驅動裝置340使光闌環(huán)56按與中間驅動值相應的轉動量轉動，使各遮光葉片52位于開口面積成為中間開口面積Smid的基準位置(偏移基準位置)(步驟S21A遮光葉片定位步驟)。
步驟S21A之后，控制部主體3232對存儲器3233中所存儲的設計偏移電壓值信息和從位置傳感器59輸出的輸出值V進行比較。
具體而言，首先控制部主體3232判定輸出值V是否為基于設計偏移電壓值信息的Vdd/2-P以上(步驟S21B)。
在步驟S21B中，控制部主體3232在判定為“否”時，也就是判定出輸出值V未達到Vdd/2-P時，使位置傳感器59的修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的偏移修正參數(shù)增加(步驟S21C)，使變更后的偏移修正參數(shù)存儲于修正參數(shù)存儲部5913中(步驟S21D)。
更為具體而言，在步驟S21B中，作為判定出輸出值V未達到Vdd/2-P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在各遮光葉片52位于成為中間開口面積Smid的偏移基準位置時，從位置傳感器59輸出下述輸出值的狀態(tài)，該輸出值比對設計上的偏移電壓值Vdd/2考慮了允許值P的值小。
然后，在步驟S21D之后，再次回到步驟S21B，直到在步驟S21C中判定為“是”為止，也就是直到判定為輸出值V為Vdd/2-P以上為止，反復實施上述的步驟S21B～步驟S21D。也就是說，在步驟S21C及步驟S21D中，通過使偏移修正參數(shù)得到增加并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的偏移修正參數(shù)來實施上述的偏移修正。而且，通過該偏移修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出Vdd/2-P以上的輸出值V。
在步驟S21B中，控制部主體3232在判定為“是”時，也就是判定出輸出值V為Vdd/2-P以上時，接著判定輸出值V是否為基于設計偏移值信息的Vdd/2+P以下(步驟S21E)。
在步驟S21E中，控制部主體3232在判定為“否”時，也就是判定出輸出值V超過Vdd/2+P時，使修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的偏移修正參數(shù)減少(步驟S21F)。然后，在步驟S21D中，使變更后的偏移修正參數(shù)存儲于修正參數(shù)存儲部5913中。
更為具體而言，在步驟S21E中，作為判定出輸出值V超過Vdd/2+P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在各遮光葉片52位于成為中間開口面積Smid的偏移基準位置時，從位置傳感器59輸出下述輸出值的狀態(tài)，該輸出值比對設計上的偏移電壓值Vdd/2考慮了允許值P的值大。
在步驟S21F中使偏移修正參數(shù)減少，在步驟S21D中重寫偏移修正參數(shù)，之后再次回到步驟S21B，直到在步驟S21F中判定為“是”為止，也就是直到判定出輸出值V為Vdd/2+P以下為止，反復實施上述的步驟S21B～步驟S21F。也就是說，在步驟S21F及步驟S21D中，通過使偏移修正參數(shù)得到減少并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的偏移修正參數(shù)來實施上述的偏移修正。而且，通過該偏移修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出Vdd/2+P以下的輸出值V。
通過上面的偏移修正參數(shù)校正(步驟S21)，當各遮光葉片52位于成為中間開口面積Smid的偏移基準位置時，使來自霍爾元件5911的輸出值V進入大于等于Vdd/2-P且小于等于Vdd/2+P的范圍內。
步驟S21之后，控制部主體3232對增益修正參數(shù)進行校正(步驟S22)。
具體而言，圖17是說明增益修正參數(shù)校正方法的流程圖。
首先，控制部主體3232讀取存儲器3233中所存儲的最大驅動值信息，并將基于最大驅動值信息的最大驅動值輸出給機械式光闌驅動裝置340。然后，機械式光闌驅動裝置340使光闌環(huán)56按與最大驅動值相應的轉動量轉動，使各遮光葉片52位于開口面積為最大開口面積Smax的基準位置(增益基準位置)(步驟S22A遮光葉片定位步驟)。
步驟S22A之后，控制部主體3232對存儲器3233中所存儲的設計最大輸出電壓值信息和從位置傳感器59輸出的輸出值V進行比較。
具體而言，首先控制部主體3232判定輸出值V是否為基于設計偏移電壓值信息的Vdd-P以上(步驟S22B)。
在步驟S22B中，控制部主體3232在判定為“否”時，也就是判定出輸出值V未達到Vdd-P時，使位置傳感器59的修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的增益修正參數(shù)增加(步驟S22C)，使變更后的增益修正參數(shù)存儲于修正參數(shù)存儲部5913中(步驟S22D)。
更為具體而言，在步驟S22B中，作為判定出輸出值V未達到Vdd-P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在各遮光葉片52位于成為最大開口面積Smax的增益基準位置時，從霍爾元件5911輸出下述輸出值的狀態(tài)，該輸出值比對設計上的最大輸出電壓值Vdd考慮了允許值P的值小。
然后，步驟S22D之后，再次回到步驟S22B，直到在步驟S22C中判定為“是”為止，也就是直到判定出輸出值V為Vdd-P以上為止，反復實施上述的步驟S22B～步驟S22D。也就是說，在步驟S22C及步驟S22D中，通過使增益修正參數(shù)得到增加并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的增益修正參數(shù)來實施上述的增益修正。而且，通過該增益修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出為Vdd-P以上的輸出值V。
在步驟S22B中，控制部主體3232在判定為“是”時，也就是判定出輸出值V為Vdd-P以上時，接著判定輸出值V是否為基于設計最大輸出電壓值信息的Vdd+P以下(步驟S22E)。
在步驟S22E中，控制部主體3232在判定為“否”時，也就是判定出輸出值V超過Vdd+P時，使修正參數(shù)存儲部5913中所存儲的增益修正參數(shù)減少(步驟S22F)。然后，在步驟S22D中，使變更后的增益修正參數(shù)存儲于修正參數(shù)存儲部5913中。
更為具體而言，在步驟S22E中，作為判定出輸出值V超過Vdd+P的狀態(tài)，是由于在光學光闌裝置5中產生的上述制造誤差，因而在各遮光葉片52位于成為最大開口面積Smax的增益基準位置時，從霍爾元件5911輸出下述輸出值的狀態(tài)，該輸出值比對設計上的最大輸出電壓值Vdd考慮了允許值P的值大。
在步驟S22F中使增益修正參數(shù)減少，在步驟S22D中重寫增益修正參數(shù)，之后再次回到步驟S22B，直到在步驟S22F中判定為“是”為止，也就是直到判定出輸出值V為Vdd+P以下為止，反復實施上述的步驟S22B～步驟S22F。也就是說，在步驟S22F及步驟S22D中，通過使增益修正參數(shù)得到減少并被重寫，輸出特性修正部5912根據重寫后的增益修正參數(shù)來實施上述的增益修正。而且，通過該增益修正，霍爾元件5911的輸出特性得到修正，使得從霍爾元件5911輸出Vdd+P以下的輸出值V。
通過上面的增益修正參數(shù)校正(步驟S22)，當各遮光葉片52位于成為最大開口面積Smax的增益基準位置時，來自霍爾元件5911的輸出值V進入到大于等于Vdd-P且小于等于Vdd+P的范圍內。另外，如上所述就增益修正而言，由于霍爾元件5911的輸出特性的斜度以偏移電壓值Vof為基準進行變更，因而在永久磁性體582位于各遮光葉片52形成為最小開口面積Smin的位置時，從霍爾元件5911輸出下述輸出值V，該輸出值進入基于設計最小輸出電壓值信息的P以下的范圍。也就是說，通過校正增益修正參數(shù)，和上述第1實施方式相同，霍爾元件5911的輸出特性被修正為與存儲器64中所存儲的開口面積-電壓值關聯(lián)信息對應的輸出特性。
而且，上述的步驟S21B～S21F、S22B～S22F相當于本發(fā)明所涉及的參數(shù)更新步驟。
通過上面的步驟S21、S22，修正參數(shù)就得以校正。
在上述的第3實施方式中，除了和上述第1實施方式大致相同的效果之外，還有下面的效果。
由于本實施方式的修正參數(shù)校正裝置300在將光學光闌裝置5組裝起來的狀態(tài)下，使用機械式光闌驅動裝置340使各遮光葉片52位于預定的基準位置，并根據從位置傳感器59輸出的輸出值，來更新修正參數(shù)，因而不需要在對投影機1裝載了光學光闌裝置5的狀態(tài)下更新修正參數(shù)，而可以使用光學光闌裝置5單體和修正參數(shù)校正裝置300來更新修正參數(shù)，能謀求更新修正參數(shù)時作業(yè)空間的高效化。另外，與向光學光闌裝置5射出光束并根據經過光學光闌裝置5后的光束來更新修正參數(shù)的結構相比較，不依賴于作業(yè)環(huán)境，而可以良好地校正修正參數(shù)。
還有，本發(fā)明并不限定為上述的實施方式，可以達到本發(fā)明目的的范圍內的變形、改良等均包括于本發(fā)明中。
在上述各實施方式中，雖然在位置傳感器59中設置了修正參數(shù)存儲部5913，但是不限于此，例如也可以在投影機1的控制裝置6中設置和修正參數(shù)存儲部5913相同的修正參數(shù)存儲部。然后，位置傳感器59的輸出特性修正部5912讀取控制裝置6中所設置的修正參數(shù)存儲部內所存儲的修正參數(shù)，實施偏移修正或增益修正。
在上述各實施方式中，光學光闌裝置5的結構不限于上述各實施方式中所說明的結構，而也可以采用其他結構的光學光闌裝置。
在上述第1實施方式及上述第2實施方式中，當校正增益修正參數(shù)時，在永久磁性體定位步驟S4A、S13A中，使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最大輸出電壓值Vdd的增益基準位置。另外，在步驟S4C、S13C、S4F及S13F中，對最大光量信息和檢測光量LX進行了比較。不限于此結構，在上述各步驟中，也可以使永久磁性體582位于從位置傳感器59輸出最小輸出電壓值0的增益基準位置，并且對最小光量信息和檢測光量LX進行比較。
同樣，在上述第3實施方式中，當校正增益修正參數(shù)時，在遮光葉片定位步驟S22A中，使各遮光葉片52位于成為最大開口面積Smax的增益基準位置。另外，在步驟S22B、S22E中，對設計最大輸出值信息和輸出值V進行了比較。不限于此結構，在上述各步驟中，也可以使各遮光葉片52位于成為最小開口面積Smin的增益基準位置，并且對設計最小輸出值信息和輸出值V進行比較。
在上述各實施方式中，雖然光學光闌裝置5配設于第1透鏡陣列412和第2透鏡陣列413之間，但是不限于此，只要是光源裝置411和第1透鏡陣列412之間等從光源裝置411射出、到各液晶面板441的光束的光路中，配設于任何位置都可以。
在上述各實施方式中，雖然說明了使用3個液晶面板441的投影機1，但是不限于此。例如，也可以適用于只使用1個液晶面板的投影機、使用2個液晶面板的投影機或者使用4個以上液晶面板的投影機。
在上述各實施方式中，雖然光學組件4具有平面看大致L狀的形狀，但是也可以采用其他的形狀，例如也可以取為平面看大致U狀的形狀。
在上述實施方式中，雖然只說明了從觀看屏幕的方向進行投影的正投式投影機的例子，但是對于本發(fā)明來說，也可以使用于從和觀看屏幕的方向相反側進行投影的背投式投影機。
在上述各實施方式中，雖然作為光調制裝置采用了透射型的液晶面板441，但是不限于此，也可以采用反射型的液晶面板、數(shù)字微鏡器件(德克薩斯儀器公司的商標)以及利用光衍射現(xiàn)象的GLV(Grating Light Valve，柵格光閥)器件(Silicon Light Machines公司的商標)等。
在上述各實施方式中，雖然說明了將光學光闌裝置5裝載于投影機1中的結構，但是光學光闌裝置5也可以采用下述結構，該結構不限于裝載于投影機1，而裝載到其他的光學設備如相機等中。另外，在將光學光闌裝置5裝載到相機中時，除了作為光闌裝置使用的結構之外，還可以作為透鏡快門等來使用。
用來實施本發(fā)明的最佳結構等雖然在上述的記述中進行了公示，但是本發(fā)明并不限定于此。也就是說，本發(fā)明主要對于特定的實施方式特別進行了圖示及說明，而在不脫離本發(fā)明的技術構思及目的范圍的狀況下，可以對上面所述的實施方式，在形狀、材料性質、數(shù)量及其他詳細結構上，由從業(yè)人員加以各種各樣的變形。
因而，限定了上面所公示的形狀、材料性質等的記述是為了易于理解本發(fā)明所示例記述的，并不用來限定本發(fā)明，因此這些形狀、材料性質等限定一部分或全部限定之外的部件名稱上的記述，均包括在本發(fā)明內。
本發(fā)明的光學光闌裝置因為能謀求結構的簡單化，并且能夠以高準確度使遮光葉片進行移動來實現(xiàn)穩(wěn)定的驅動，所以作為使用于展示、家庭影院中的投影機的光學光闌裝置，是有用處的。
權利要求
1.一種光學光闌裝置，其調整所入射的光束的光量，其特征為，具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件和輸出特性修正部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性。
2.根據權利要求1所述的光學光闌裝置，其特征為上述修正參數(shù)是偏移修正參數(shù)，用來使對規(guī)定電壓值的上述永久磁性體的位置產生偏移，來修正輸出特性，以便在上述永久磁性體位于上述開口面積為預定開口面積的規(guī)定位置的狀態(tài)下，上述磁元件輸出預定的上述規(guī)定電壓值。
3.根據權利要求1或2所述的光學光闌裝置，其特征為上述修正參數(shù)是增益修正參數(shù)，用來修正輸出特性，以便在使上述永久磁性體位于下述范圍時，上述磁元件對應于上述永久磁性體的上述范圍內的各位置，輸出設計上的各設計電壓值，該范圍為從上述開口面積為最小開口面積的第1位置到上述開口面積為最大開口面積的第2位置。
4.根據權利要求1到3中任一項所述的光學光闌裝置，其特征為上述位置檢測部具備修正參數(shù)存儲部，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；上述輸出特性修正部讀取在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的上述修正參數(shù)，基于所讀取的上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性。
5.一種投影機，其具備光源裝置；光調制裝置，其對從上述光源裝置所射出的光束進行調制；和投影光學裝置，其放大投影由上述光調制裝置所調制的光束；其特征為，具備權利要求1到4中任一項所述的光學光闌裝置，其配設于從上述光源裝置射出、到上述光調制裝置的光束的光路中，調整從上述光源裝置向上述光調制裝置照射的光束的光量；和控制裝置，其基于來自上述位置檢測部的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制。
6.根據權利要求5所述的投影機，其特征為上述控制裝置具備修正參數(shù)存儲部，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)，上述輸出特性修正部讀取在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的上述修正參數(shù)，基于所讀取的上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性。
7.一種修正參數(shù)校正裝置，其用于下述投影機，用來校正修正參數(shù)，該投影機具備光源裝置；光調制裝置，其對從上述光源裝置所射出的光束進行調制；投影光學裝置，其放大投影由上述光調制裝置所調制的光束；光學光闌裝置，其配設于從上述光源裝置射出、到上述光調制裝置的光束的光路中，調整從上述光源裝置向上述光調制裝置照射的光束的光量；以及投影機側控制裝置，其對上述光源裝置、上述光調制裝置及上述光學光闌裝置進行驅動控制；該修正參數(shù)校正裝置的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；上述投影機側控制裝置基于來自上述位置檢測部的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制；該修正參數(shù)校正裝置具備校正側控制裝置，其對上述投影機側控制裝置輸出預定的控制指令，對上述投影機進行驅動控制；和光束檢測裝置，其檢測從上述投影機所放大投影的光學像的光量，輸出與上述光量有關的檢測光量信息；上述校正側控制裝置，具備光量信息存儲部，其存儲與作為基準的基準光量有關的基準光量信息；輸出值信息存儲部，其存儲與作為基準的基準輸出值有關的基準輸出值信息；光源驅動控制部，其使上述投影機側控制裝置對上述光源裝置進行驅動控制，使得從上述光源裝置射出光束；光闌驅動控制部，其使上述投影機側控制裝置對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于下述位置，該位置為從上述位置檢測部輸出基于上述基準輸出值信息的基準輸出值的基準位置；以及參數(shù)更新部，其使得基于從上述光束檢測裝置輸出的檢測光量信息的檢測光量與基于上述基準光量信息的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
8.一種修正參數(shù)校正裝置，其用于調整入射光束的光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，其特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正裝置具備修正用光源裝置，其朝向上述光學光闌裝置射出光束；光束檢測裝置，其檢測從上述修正用光源裝置射出、經過上述光學光闌裝置后的光束的光量；和校正側控制裝置，其對上述修正用光源裝置及上述電磁致動器進行驅動控制；上述校正側控制裝置，具備光量信息存儲部，其存儲與作為基準的基準光量有關的基準光量信息；輸出值信息存儲部，其存儲與作為基準的基準輸出值有關的基準輸出值信息；光源驅動控制部，其使上述修正用光源裝置射出光束；光闌驅動控制部，其基于從上述位置檢測部輸出的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于下述位置，該位置為從上述位置檢測部輸出基于上述基準輸出值信息的基準輸出值的基準位置；以及參數(shù)更新部，其使得基于從上述光束檢測裝置所輸出的檢測光量信息的檢測光量與基于上述基準光量信息的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
9.根據權利要求8所述的修正參數(shù)校正裝置，其特征為上述修正用光源裝置由固體發(fā)光元件構成。
10.一種修正參數(shù)校正裝置，其用于調整入射光束的光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，其特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正裝置具備機械式光闌驅動裝置，其與上述光學光闌裝置進行機械連接，通過進行驅動使上述遮光葉片位于預定位置；和校正側控制裝置，其對上述機械式光闌驅動裝置進行驅動控制；上述校正側控制裝置，具備輸出值信息存儲部，其存儲與作為基準的基準輸出值有關的基準輸出值信息；機械式光闌驅動控制部，其使上述機械式光闌驅動裝置進行驅動，使上述遮光葉片位于預定的基準位置；以及參數(shù)更新部，其使得從上述位置檢測部所輸出的輸出值與基于上述基準輸出值信息的基準輸出值大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
11.一種利用修正參數(shù)校正裝置的修正參數(shù)校正方法，該修正參數(shù)校正裝置用于下述投影機，用來校正上述修正參數(shù)，該投影機具備光源裝置；光調制裝置，其對從上述光源裝置所射出的光束進行調制；投影光學裝置，其放大投影由上述光調制裝置所調制的光束；光學光闌裝置，其配設于從上述光源裝置射出、到上述光調制裝置的光束的光路中，調整從上述光源裝置向上述光調制裝置照射的光束的光量；以及投影機側控制裝置，其對上述光源裝置、上述光調制裝置及上述光學光闌裝置進行驅動控制；該修正參數(shù)校正方法的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；上述投影機側控制裝置基于來自上述位置檢測部的輸出值，對上述電磁致動器進行驅動控制；該修正參數(shù)校正方法，包括光束射出步驟，其中，使上述投影機側控制裝置對上述光源裝置進行驅動控制，使得從上述光源裝置射出光束；永久磁性體定位步驟，其中，使上述投影機側控制裝置對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于從上述位置檢測部輸出作為基準的基準輸出值的基準位置；光束檢測步驟，其中，檢測從上述投影機放大投影的光學像的光量；以及參數(shù)更新步驟，其中，使得通過上述光束檢測步驟所檢測到的檢測光量與作為基準的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
12.一種利用修正參數(shù)校正裝置的修正參數(shù)校正方法，該修正參數(shù)校正裝置用于調整入射光束的光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，該修正參數(shù)校正方法的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正方法，包括光束射出步驟，其中，朝向上述光學光闌裝置射出光束；永久磁性體定位步驟，其中，對上述電磁致動器進行驅動控制，使上述永久磁性體位于從上述位置檢測部輸出作為基準的基準輸出值的基準位置；光束檢測步驟，其中，檢測經過上述光學光闌裝置后的光束的光量；以及參數(shù)更新步驟，其中，使得通過上述光束檢測步驟所檢測到的檢測光量與作為基準的基準光量大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
13.一種利用修正參數(shù)校正裝置的修正參數(shù)校正方法，該修正參數(shù)校正裝置用于調整入射光束的光量的光學光闌裝置，用來校正修正參數(shù)，該修正參數(shù)校正方法的特征為，上述光學光闌裝置具備遮光葉片，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過上述光束的開口面積，調整上述光束的光量；電磁致動器，其具有流通電流的線圈及永久磁性體，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對上述線圈進行移動，與上述遮光葉片連接而使上述遮光葉片進行移動，上述電磁力是由在上述線圈所流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；以及位置檢測部，其具有磁元件、輸出特性修正部及修正參數(shù)存儲部，該磁元件相應于來自上述永久磁性體的磁場的強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)，基于上述修正參數(shù)來修正上述磁元件的輸出特性，該修正參數(shù)存儲部能重寫地存儲上述修正參數(shù)；該修正參數(shù)校正方法，包括遮光葉片定位步驟，其中，使上述遮光葉片位于預定的基準位置；和參數(shù)更新步驟，其中，使得從上述位置檢測部輸出的輸出值與作為基準的基準輸出值大致相同地，更新在上述修正參數(shù)存儲部所存儲的修正參數(shù)。
全文摘要
本發(fā)明的光學光闌裝置(5)具備遮光葉片(52)，其移動自如地構成，通過移動來變更可通過光束的開口面積，調整光束的光量；電磁致動器(58)，其具有流通電流的電磁線圈(581)及永久磁性體(582)，該永久磁性體使磁通發(fā)生，利用電磁力相對電磁線圈(581)進行移動，與遮光葉片(52)連接使遮光葉片(52)進行移動，上述電磁力是由在電磁線圈(581)流通的電流和上述磁通之間的相互作用而產生的；和位置傳感器(59)，具有磁元件及輸出特性修正部，該磁元件相應于來自永久磁性體的磁場強度輸出預定的電壓，該輸出特性修正部取得預定的修正參數(shù)并根據修正參數(shù)來修正磁元件的輸出特性。
文檔編號H02K33/18GK1991561SQ200610171498
公開日2007年7月4日 申請日期2006年12月28日 優(yōu)先權日2005年12月29日
發(fā)明者竹內啟佐敏, 飯坂英仁 申請人:精工愛普生株式會社