電機磁瓦及具有該電機磁瓦的電的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明適用于電機結(jié)構(gòu)【技術(shù)領(lǐng)域】，公開了一種電機磁瓦及具有該電機磁瓦的電機。電機磁瓦包括本體，所述本體的外側(cè)壁包括中央弧段側(cè)壁和分別位于所述中央弧段側(cè)壁兩側(cè)的第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，其中所述第一側(cè)壁與所述第二側(cè)壁之間對稱設(shè)置，所述本體對應(yīng)于所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁朝所述本體兩側(cè)的方向的厚度逐漸減小。電機包括轉(zhuǎn)子和上述的電機磁瓦，所述電機磁瓦設(shè)置有多個且各電機磁瓦沿所述轉(zhuǎn)子的周向排列設(shè)置。本發(fā)明實施例所提供的電機磁瓦及具有該電機磁瓦的電機，其實現(xiàn)氣隙磁密的正弦化，降低主導奇次諧波，從而獲得諧波量較低的反電勢波形，在保證理想諧波含量的前提下，有效減少了平均氣隙，有效地提高了電機的性能，電機的振動和噪音小。
【專利說明】電機磁瓦及具有該電機磁瓦的電機【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于電機結(jié)構(gòu)【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種電機磁瓦及具有該電機磁瓦的電機。
【背景技術(shù)】
[0002]目前的電機中，其電機磁瓦整體呈單一弧狀且為偏心磁瓦結(jié)構(gòu)，為保證反電勢幅值，偏心程度受到限制，存在反電勢諧波高、電機振動和噪音差的問題；現(xiàn)有技術(shù)中，電機磁瓦的偏心程度增加時，雖然可以有效改善電磁噪音，但又引起反電勢下降，電機不能達到原定輸出，電機的性能差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種電機磁瓦及具有該電機磁瓦的電機，其可提高電機的性能。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種電機磁瓦，包括本體，所述本體的外側(cè)壁包括中央弧段側(cè)壁和分別位于所述中央弧段側(cè)壁兩側(cè)的第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，其中所述第一側(cè)壁與所述第二側(cè)壁之間對稱設(shè)置，所述本體對應(yīng)于所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁朝所述本體兩側(cè)的方向的厚度逐漸減小。
[0005]可選地，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁均由一個弧面或至少兩個鄰接的弧面組成。
[0006]可選地，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁由一個平面或至少兩個相鄰接的平面組成。
[0007]可選地，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁由至少一個平面和至少一個弧面相接而成。
[0008]可選地，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁均由一個弧面或至少兩個鄰接的弧面組成，且所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁的弧面對應(yīng)的圓心與所述中央弧段側(cè)壁對應(yīng)的圓心在同一直線上。
[0009]可選地，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁均由一個弧面組成。
[0010]可選地，所述中央弧段側(cè)壁所對應(yīng)的圓心角占所述中央弧段側(cè)壁、第一側(cè)壁和第二側(cè)壁的圓心角的40%至60%。
[0011]可選地，所述本體的內(nèi)側(cè)壁呈弧面形，所述中央弧段側(cè)壁對應(yīng)的圓心與所述本體內(nèi)側(cè)壁對應(yīng)的圓心之間的距離小于所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁對應(yīng)的圓心與所述本體內(nèi)側(cè)壁對應(yīng)的圓心之間的距離。
[0012]可選地，所述本體形成的氣隙磁密波形呈正弦波形。
[0013]本發(fā)明還提供了一種電機，包括轉(zhuǎn)子和上述的電機磁瓦，所述電機磁瓦設(shè)置有多個且各所述電機磁瓦沿所述轉(zhuǎn)子的周向排列設(shè)置。
[0014]本發(fā)明實施例所提供的電機磁瓦及具有該電機磁瓦的電機，其通過改變電機磁瓦的外側(cè)壁的結(jié)構(gòu)，本體上中央弧段側(cè)壁兩側(cè)的第一側(cè)壁和第二側(cè)壁朝所述本體兩側(cè)的方向的厚度逐漸減小，以拉高接近峰值位置的弧線，使電機磁瓦外表面結(jié)構(gòu)的磁密排布更接近正弦波形，實現(xiàn)氣隙磁密的正弦化，降低主導奇次諧波，從而獲得諧波量較低的反電勢波形，在保證理想諧波含量的前提下，有效減少了平均氣隙，提高了磁通量，反電勢幅值得到提升，有效地提聞了電機的性能，電機的振動和噪首小。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0016]圖1是本發(fā)明實施例提供的電機磁瓦的平面示意圖；
[0017]圖2是本發(fā)明實施例提供的電機磁瓦的平面示意圖；
[0018]圖3是本發(fā)明實施例提供的電機的剖面示意圖。
【具體實施方式】
[0019]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0020]需要說明的是，當元件被稱為“固定于”或“設(shè)置于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者可能同時存在居中元件。當一個元件被稱為是“連接于”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。
[0021]還需要說明的是，本實施例中的左、右、上、下等方位用語，僅是互為相對概念或是以產(chǎn)品的正常使用狀態(tài)為參考的，而不應(yīng)該認為是具有限制性的。
[0022]如圖1和圖2所示，本發(fā)明實施例提供的一種電機磁瓦I，可用于內(nèi)轉(zhuǎn)子電機上。上述電機磁瓦I包括本體10，本體10可由磁性材料一體制成，其整體可呈弧形板狀。本體10具有相對背向的內(nèi)側(cè)壁11和外側(cè)壁12，其中內(nèi)側(cè)壁11與電機轉(zhuǎn)子相向。所述本體10的外側(cè)壁12包括中央弧段側(cè)壁113和分別位于中央弧段側(cè)壁113兩側(cè)的第一側(cè)壁111和第二側(cè)壁112，即本體10的外側(cè)壁12至少由三段外形面組成。其中，中央弧段側(cè)壁113設(shè)置于本體10外側(cè)壁11的中央?yún)^(qū)域，且關(guān)于本體10的中軸線101對稱，第一側(cè)壁111與第二側(cè)壁112分設(shè)于中央弧段側(cè)壁113的兩側(cè)，且第一側(cè)壁111與第二側(cè)壁112之間對稱設(shè)置，本體10對應(yīng)于第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112朝本體10兩側(cè)的方向的厚度逐漸減小，即本體10兩側(cè)的厚度向邊沿方向逐漸減小，基于充磁取向，對磁瓦的工作面弧段進行配置，使之在物理結(jié)構(gòu)上趨近正弦波形，有效改善反電勢諧波含量，降低電磁噪音，這樣，在保證幅值的同時，有效改善反電勢諧波含量，從而降低電機振動和噪音，提高了電機的性能，且不會引起電勢下降，電機可達到原定輸出，電機的性能佳。
[0023]具體應(yīng)用中，作為第一種可能實現(xiàn)的方案，第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112均可由一個弧面或至少兩個鄰接的弧面組成，相鄰弧面之間可以平滑過渡，以改善電機振動和噪音。
[0024]或者，作為第二種可能實現(xiàn)的方案，第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112由一個平面或至少兩個相鄰接的平面組成，相鄰平面之間可以平滑過渡，例如設(shè)置圓角等進行平滑過渡，以改善電機振動和噪音。
[0025]或者，作為第三種可能實現(xiàn)的方案，第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112由至少一個平面和至少一個弧面相接而成，相鄰的面之間可以平滑過渡，例如設(shè)置圓角等進行平滑過渡，以改善電機振動和噪音。
[0026]具體地，如圖1和圖2所示，第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112均由一個弧面或至少兩個鄰接的弧面組成，且第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112的弧面對應(yīng)的圓心與中央弧段側(cè)壁113對應(yīng)的圓心在同一直線上，以使磁力線向磁瓦中間位置聚集且呈正弦分布或者無限的趨向于正弦分布。
[0027]本實施例中，如圖1和圖2所示，第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112均由一個弧面組成，其結(jié)構(gòu)簡單，易于制備且使用效果好。
[0028]具體地，如圖1和圖2所示，中央弧段側(cè)壁113所對應(yīng)的圓心角占中央弧段側(cè)壁113、第一側(cè)壁111和第二側(cè)壁112的圓心角的40%至60%。相應(yīng)地，中間的中央弧段側(cè)的弧扇面角度(角α )占總弧角度(角β)約40%_60%，優(yōu)選為45%_55%。相應(yīng)兩側(cè)為對稱結(jié)構(gòu)，兩側(cè)弧(第一側(cè)壁111和第二側(cè)壁112)角度(角α?+角α 2)和占總弧角度(角β)40%_60%。
[0029]具體地，如圖1和圖2所示，本體10的內(nèi)側(cè)壁12呈弧面形，中央弧段側(cè)壁113對應(yīng)的圓心與本體10內(nèi)側(cè)壁12對應(yīng)的圓心之間的距離小于第一側(cè)壁111、第二側(cè)壁112對應(yīng)的圓心與本體10內(nèi)側(cè)壁12對應(yīng)的圓心之間的距離；中間的中央弧段側(cè)壁113基于內(nèi)弧面的偏心距el〈兩側(cè)弧(第一側(cè)壁111和第二側(cè)壁112)的偏心距e2。
[0030]本實施例中，本體10形成的氣隙磁密波形呈正弦波形或接近正弦波形。
[0031]本發(fā)明實施例還提供了一種電機，包括轉(zhuǎn)子2，還包括上述的電機磁瓦1，電機磁瓦I設(shè)置有多個且各電機磁瓦I沿轉(zhuǎn)子2的周向排列設(shè)置。電機磁瓦I可設(shè)置為偶數(shù)個，例如8個等。
[0032]本發(fā)明實施例所提供的電機磁瓦1，其通過改變電機磁瓦I工作面(外側(cè)壁12)的結(jié)構(gòu)，使用三段弧代替一段弧，在對電機磁瓦I工作面弧段配置時，拉高接近峰值位置的弧線，壓低兩側(cè)弧線，使電機磁瓦I外表面結(jié)構(gòu)更接近正弦波形，實現(xiàn)氣隙磁密的正弦化，降低主導奇次諧波，從而獲得諧波量較低的反電勢波形。
[0033]本實施例中，上述三段弧結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)一段弧結(jié)構(gòu)相比，在保證理想諧波含量的前提下，三段弧結(jié)構(gòu)有效減少了平均氣隙，提高磁通量，反電勢幅值得到提升(按實驗，相同諧波水準下，反電勢約可增加5%-10%)，有效地提高了電機的性能。
[0034]以上僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換或改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種電機磁瓦，包括本體，其特征在于，所述本體的外側(cè)壁包括中央弧段側(cè)壁和分別位于所述中央弧段側(cè)壁兩側(cè)的第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，其中所述第一側(cè)壁與所述第二側(cè)壁之間對稱設(shè)置，所述本體對應(yīng)于所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁朝所述本體兩側(cè)的方向的厚度逐漸減小。
2.如權(quán)利要求1所述的電機磁瓦，其特征在于，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁均由一個弧面或至少兩個鄰接的弧面組成。
3.如權(quán)利要求1所述的電機磁瓦，其特征在于，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁由一個平面或至少兩個相鄰接的平面組成。
4.如權(quán)利要求1所述的電機磁瓦，其特征在于，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁由至少一個平面和至少一個弧面相接而成。
5.如權(quán)利要求1所述的電機磁瓦，其特征在于，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁均由一個弧面或至少兩個鄰接的弧面組成，且所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁的弧面對應(yīng)的圓心與所述中央弧段側(cè)壁對應(yīng)的圓心在同一直線上。
6.如權(quán)利要求1所述的電機磁瓦，其特征在于，所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁均由一個弧面組成。
7.如權(quán)利要求2所述的電機磁瓦，其特征在于，所述中央弧段側(cè)壁所對應(yīng)的圓心角占所述中央弧段側(cè)壁、第一側(cè)壁和第二側(cè)壁的圓心角的40%至60%。
8.如權(quán)利要求2所述的電機磁瓦，其特征在于，所述本體的內(nèi)側(cè)壁呈弧面形，所述中央弧段側(cè)壁對應(yīng)的圓心與所述本體內(nèi)側(cè)壁對應(yīng)的圓心之間的距離小于所述第一側(cè)壁、第二側(cè)壁對應(yīng)的圓心與所述本體內(nèi)側(cè)壁對應(yīng)的圓心之間的距離。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項所述的電機磁瓦，其特征在于，所述本體形成的氣隙磁密波形呈正弦波形。
10.一種電機，包括轉(zhuǎn)子，其特征在于，還包括如權(quán)利要求1至9中任一項所述的電機磁瓦，所述電機磁瓦設(shè)置有多個且各所述電機磁瓦沿所述轉(zhuǎn)子的周向排列設(shè)置。
【文檔編號】H02K1/06GK103840570SQ201410060745
【公開日】2014年6月4日 申請日期:2014年2月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月21日
【發(fā)明者】余麗梅, 李虎, 史國俊, 金萬兵 申請人:廣東威靈電機制造有限公司