一種帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于選針器的驅(qū)動(dòng)片，特別是涉及一種帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片。
【背景技術(shù)】
[0002]壓電陶瓷式選針器是采用壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片作為轉(zhuǎn)換元件，利用控制器發(fā)送的脈沖信號(hào)作用于壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片上，靠壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的逆壓電效應(yīng)，使壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片產(chǎn)生撓度位移和彎距來(lái)控制選針。壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片本身對(duì)沖擊電流的抗干擾性很強(qiáng)，不存在電流瞬變時(shí)的過(guò)渡過(guò)程而發(fā)生有害振動(dòng)，更不存在電磁場(chǎng)干擾等現(xiàn)象。壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片響應(yīng)速度快、動(dòng)作穩(wěn)定、差錯(cuò)率低，因此特別適用于高速運(yùn)轉(zhuǎn)織機(jī)。
[0003]現(xiàn)有的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片包括作為中心電極的基片和分別粘結(jié)在基片兩側(cè)的壓電陶瓷晶片，在壓電陶瓷晶片的表面涂覆有導(dǎo)電層，以增強(qiáng)導(dǎo)電性能。以往的銀漿是通過(guò)絲網(wǎng)印刷施加到基片上的。但是絲網(wǎng)印刷工藝復(fù)雜，銀漿價(jià)格昂貴。如果采用銅漿，通過(guò)絲網(wǎng)印刷達(dá)不到壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的驅(qū)動(dòng)要求。此外，由于壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片在工作中反復(fù)振動(dòng)，絲網(wǎng)印刷的銀漿層會(huì)產(chǎn)生裂紋，甚至脫落，當(dāng)銀漿層的裂紋達(dá)到一定程度便會(huì)影響其導(dǎo)電性能，從而縮短壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的使用壽命。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本實(shí)用新型提供了一種帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片，該真空鍍銅層導(dǎo)電性好，運(yùn)行過(guò)程中不易破裂，從而保證了壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的運(yùn)行穩(wěn)定性和使用壽命，并且降低了成本。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型中的帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片包括基片、壓電陶瓷晶片、導(dǎo)電層，所述壓電陶瓷晶片粘附于所述基片兩側(cè)，所述導(dǎo)電層設(shè)置在壓電陶瓷晶片表面，且所述導(dǎo)電層為真空鍍銅層。
[0006]進(jìn)一步地，所述真空鍍銅層是經(jīng)過(guò)抗氧化處理的真空鍍銅層。經(jīng)過(guò)抗氧化處理的鍍銅層可進(jìn)一步優(yōu)化導(dǎo)電性能，使用壽命更長(zhǎng)。
[0007]為了既能滿足性能需要又節(jié)約成本，所述真空鍍銅層的厚度為5~20 μπι。
[0008]本實(shí)用新型的帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片，采用不易脫落、破裂、抗氧化性能好的真空鍍銅層，不但相比傳統(tǒng)的銀漿涂層降低了成本，而且真空鍍銅層具有優(yōu)異的導(dǎo)電性能和運(yùn)行穩(wěn)定性，延長(zhǎng)了壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的使用壽命。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型的一種帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0010]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明。應(yīng)該清楚，附圖中所描述的本實(shí)用新型的具體實(shí)施例僅為說(shuō)明本實(shí)用新型用，其并非按實(shí)際尺寸和比例嚴(yán)格繪制。因此，本實(shí)用新型中的附圖不應(yīng)解釋為對(duì)本實(shí)用新型的任何限制。本文所列舉的實(shí)施例僅為示例性說(shuō)明，并不對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍造成限制。本實(shí)用新型的保護(hù)范圍由權(quán)利要求書(shū)進(jìn)行限定。
[0011]如圖1所示，本實(shí)用新型的帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片包括基片1、壓電陶瓷晶片2、導(dǎo)電層3。壓電陶瓷晶片2粘附于基片I兩側(cè)，導(dǎo)電層3設(shè)置在壓電陶瓷晶片2表面，導(dǎo)電層3為真空鍍銅層，真空鍍銅層通過(guò)真空鍍沉積在壓電陶瓷晶片2的表面。真空鍍對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是已知的，在此不作贅述。
[0012]作為一種優(yōu)選方式，真空鍍銅層經(jīng)過(guò)抗氧化處理。抗氧化處理可在真空鍍后立即進(jìn)行。經(jīng)抗氧化處理的真空鍍銅層具有更穩(wěn)定的導(dǎo)電性能，從而進(jìn)一步改善壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的運(yùn)行性能和使用壽命。
[0013]真空鍍銅層厚度為5~20 μπι，根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)合的需要和性能要求，一般選擇5 μπκ10μηι、15μηι 或 20μηιο
[0014]基于對(duì)本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施方式的描述，應(yīng)該清楚，由所附的權(quán)利要求書(shū)所限定的本實(shí)用新型并不僅僅局限于上面說(shuō)明書(shū)中所闡述的特定細(xì)節(jié)，未脫離本實(shí)用新型宗旨或范圍的對(duì)本實(shí)用新型的許多顯而易見(jiàn)的改變同樣可能達(dá)到本實(shí)用新型的目的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片，包括基片、壓電陶瓷晶片、導(dǎo)電層，所述壓電陶瓷晶片粘附于所述基片兩側(cè)，所述導(dǎo)電層設(shè)置在壓電陶瓷晶片表面，其特征在于，所述導(dǎo)電層為真空鍍銅層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片，其特征在于，所述真空鍍銅層是經(jīng)過(guò)抗氧化處理的真空鍍銅層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶有真空鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片，其特征在于，所述真空鍍銅層厚度為5~20ym。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了帶有鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片，包括基片、壓電陶瓷晶片、導(dǎo)電層，所述壓電陶瓷晶片粘附于所述基片兩側(cè)，所述導(dǎo)電層設(shè)置壓電陶瓷晶片表面，所述導(dǎo)電層為真空鍍銅層。本實(shí)用新型的帶有鍍銅層的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片，導(dǎo)電層采用真空鍍銅層，不但相比傳統(tǒng)的銀漿涂層降低了成本，而且真空鍍銅層具有優(yōu)異的導(dǎo)電性能和運(yùn)行穩(wěn)定性，延長(zhǎng)了壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)片的使用壽命。
【IPC分類】H02N2/04
【公開(kāi)號(hào)】CN204721246
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520404822
【發(fā)明人】芮國(guó)林, 王毅君
【申請(qǐng)人】芮國(guó)林, 王毅君
【公開(kāi)日】2015年10月21日
【申請(qǐng)日】2015年6月12日