本發(fā)明涉及一種線圈盤,具體涉及一種3D立體加熱線圈盤,其可用于對曲底或平底器皿加熱。
背景技術(shù):
現(xiàn)市場上電磁爐的加熱面一般都是平面設(shè)置,因此其只適用于平底器皿,因此如果要使用炒鍋功能,炒鍋的形狀需要將傳統(tǒng)炒鍋的曲底改為平底設(shè)置,制造成本較高,而且適用范圍小;由于加熱面是平面,因此只能對器皿的平底面進(jìn)行加熱,導(dǎo)致受熱不均,加熱效率低。中國專利文獻(xiàn)號CN203735974U于2014年7月30日公開了包括鍋體,所述鍋體的底壁設(shè)置梯臺形的突起腔體,所述突起腔體的上端連接攪拌裝置、所述突起腔體的內(nèi)部設(shè)置轉(zhuǎn)軸連接套,所述轉(zhuǎn)軸連接套通過固定在其底部的轉(zhuǎn)軸壓片連接旋轉(zhuǎn)連接軸,所述旋轉(zhuǎn)連接軸穿過轉(zhuǎn)軸壓片插入固定在電磁爐微晶板內(nèi)的電機(jī)軸承套內(nèi),所述電機(jī)軸承套連接電機(jī)的輸出軸。該結(jié)構(gòu)涉及的電磁爐存在上述缺陷,配合使用的鍋體是特制的產(chǎn)品,其結(jié)構(gòu)復(fù)雜,成本較高,而且只能適用于相應(yīng)的電磁爐上,具有一定的局限性,使用范圍?。涣硗?,其使用的平面加熱方式只能對鍋體的平底面進(jìn)行加熱,加熱范圍小,使用效果較差。
因此,針對上述缺陷,需要進(jìn)一步改進(jìn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,而提供一種設(shè)計(jì)簡單、結(jié)構(gòu)合理、適用范圍廣、加熱效率高、結(jié)構(gòu)緊湊、外形美觀的3D立體加熱線圈盤。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種3D立體加熱線圈盤,其特征在于:包括環(huán)形的外盤體、若干支架桿和盤芯;所述盤芯同軸設(shè)置于外盤體內(nèi)側(cè);所述支架桿徑向均布于外盤體與盤芯之間,且兩端分別連接外盤體和盤芯;支架桿呈折彎形,其連接盤芯部分水平設(shè)置,折彎部分連接外盤體,線圈組設(shè)置在若干支架桿上,整體形成有凹形的加熱腔,該加熱腔由中部的平面部分和周側(cè)的折彎部分組成,加熱器皿在加熱腔內(nèi)實(shí)現(xiàn)3D立體加熱。
所述支架桿上設(shè)有若干定位筋,線圈組裝嵌在相鄰兩定位筋之間;所述定位筋豎直向上凸起于支架桿的上表面,且相鄰定位筋的間距相等。
所述外盤體與盤芯之間設(shè)置有經(jīng)過各支架桿的環(huán)形支架,該環(huán)形支架上設(shè)有若干定位筋,線圈組裝嵌在相鄰兩定位筋之間,該定位筋豎直向上凸起于支架桿的上表面,且相鄰定位筋的間距相等。
所述外盤體與環(huán)形支架之間設(shè)置有若干連接塊,該連接塊上設(shè)有定位筋和凹槽,凹槽內(nèi)裝嵌有磁鐵。
所述支架桿下表面設(shè)有凹槽,凹槽內(nèi)裝嵌有磁鐵。
所述支架桿的折彎角c為100°-150°,優(yōu)選133°。
所述加熱腔的平面部分呈圓形,其直徑d為190mm-200mm,優(yōu)選195mm;折彎部分的高度h為15mm-25mm,優(yōu)選20mm。
所述加熱腔內(nèi)設(shè)置有凹形的微晶板,加熱器皿支承在微晶板上。
本發(fā)明的有益效果如下:
通過設(shè)置凹形的加熱腔,使加熱器皿的底部和側(cè)部可同時(shí)受熱,從而對加熱器皿實(shí)現(xiàn)3D立體加熱效果。此外,由于該凹形的加熱腔由中部的平面部分和周側(cè)的折彎部分組成,因此可適用于傳統(tǒng)的平底鍋、曲面炒鍋、茶爐及火鍋爐等,適用范圍廣,獲得的加熱效果更好、烹飪、燒水效果更好,尤其是平底鍋。加熱器皿(尤其是鍋具)放置在該加熱腔時(shí),無法移動(dòng),安全系數(shù)更高,能夠防止因?yàn)橥品訜崞髅蠖斐梢馔狻?/p>
附圖說明
圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例的立體圖。
圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例又一方位的立體圖。
圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例的局部剖視圖。
圖4為本發(fā)明第一實(shí)施例適用狀態(tài)下的局部剖視圖。
圖5為本發(fā)明第一實(shí)施例第一使用情景的剖視圖。
圖6為本發(fā)明第一實(shí)施例第二使用情景的剖視圖。
圖7為本發(fā)明第一實(shí)施例第三使用情景的剖視圖。
圖8為本發(fā)明第二實(shí)施例的立體圖。
圖9為本發(fā)明第二實(shí)施例又一方位的立體圖。
圖10為本發(fā)明第三實(shí)施例的立體圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步描述。
第一實(shí)施例
參見圖1-圖4,本3D立體加熱線圈盤,包括圓環(huán)形的外盤體1、八根支架桿2和盤芯3;所述盤芯3同軸設(shè)置于外盤體1內(nèi)側(cè);所述支架桿2徑向均布于外盤體1與盤芯3之間,且兩端分別連接外盤體1和盤芯3;支架桿2呈折彎形,其連接盤芯3部分水平設(shè)置,折彎部分連接外盤體1,線圈組4設(shè)置在若干支架桿2上,整體形成有凹形的加熱腔203,該加熱腔有中部的平面部分和周側(cè)的折彎部分,該加熱腔203由中部的平面部分和周側(cè)的折彎部分組成,加熱器皿在加熱腔203內(nèi)實(shí)現(xiàn)3D立體加熱。通過設(shè)置凹形的加熱腔203使其至少可適用于平底鍋或曲底炒鍋,而且受熱增加,加熱效率提高。該技術(shù)方案的線圈盤,其相對凹形的線圈盤而言,高度尺寸更小,使整機(jī)的高度尺寸更小、更輕薄,美觀性好;其相對平板的線圈盤而言,能夠通用凹形的鍋具。
進(jìn)一步地,所述支架桿2上設(shè)有若干定位筋a,線圈組4裝嵌在相鄰兩定位筋a之間;定位筋a為與線圈組4匹配的弧形凸筋。定位筋a可有效的定位裝配線圈組4,使整體結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定可靠,結(jié)構(gòu)更緊湊。
進(jìn)一步地,所述定位筋a豎直向上凸起于支架桿2的上表面,且相鄰定位筋a的間距相等。定位筋a設(shè)置于支架桿2的上表面,使線圈組4更加接近加熱器皿,熱效率更高。
進(jìn)一步地,為聚集磁力線,讓線圈組4產(chǎn)生的磁力線都聚集到一起,提高電磁爐的加熱效率,線圈盤上一般設(shè)置磁體5,因此,所述支架桿2下表面設(shè)有凹槽b,凹槽b內(nèi)裝嵌有磁鐵5。本結(jié)構(gòu)使磁鐵5的裝配更可靠,而且裝配方式方便簡單,整體性更強(qiáng)。
進(jìn)一步地,所述支架桿2的折彎角c為133°,根據(jù)產(chǎn)品需要,折彎角c可能在一定范圍內(nèi)變動(dòng),以提高適應(yīng)性。
進(jìn)一步地,所述加熱腔203的平面部分呈圓形,其直徑d為195mm;折彎部分的高度h為20mm。
進(jìn)一步地,為配合凹形的加熱腔203,所述加熱腔203內(nèi)設(shè)置有凹形的微晶板6,加熱器皿支承在微晶板6上。
進(jìn)一步地,所述外盤體1上環(huán)形均布有四個(gè)連接部1.1,該連接部1.1呈凹陷結(jié)構(gòu),其底部設(shè)有用于固接機(jī)體的螺釘孔。
使用情景一:(參見圖5)該情景下,加熱器皿為曲面炒鍋,由于加熱腔203和微晶板6均為凹形設(shè)置,曲面炒鍋可平穩(wěn)的支承在微晶板6上,而且加熱腔203可對曲面炒鍋底面實(shí)現(xiàn)3D加熱。
使用情景二:(參見圖6)該情景下,加熱器皿為平底鍋,由于加熱腔203和微晶板6均為凹形設(shè)置,平底鍋的底部可對應(yīng)加熱腔203平面部分,并貼合在微晶板6的平面部分上;平底鍋側(cè)壁部分與加熱腔203周側(cè)的折彎部分對應(yīng),因此加熱腔203可對平底鍋實(shí)現(xiàn)3D加熱。
使用情景三:(參見圖7)該情境下,加熱器皿為茶爐,由于加熱腔203和微晶板6均為凹形設(shè)置,茶爐底部對應(yīng)加熱腔203平面部分,加熱腔203可對茶爐實(shí)現(xiàn)加熱。
第二實(shí)施例
參見圖8和圖9,本3D立體加熱線圈盤,其不同于第一實(shí)施例之處在于:所述外盤體1與盤芯3之間設(shè)置有經(jīng)過各支架桿2的環(huán)形支架7,該環(huán)形支架7上設(shè)有若干定位筋a,線圈組4裝嵌在相鄰兩定位筋a之間,該定位筋a豎直向上凸起于支架桿2的上表面,且相鄰定位筋a的間距相等。所述外盤體1與環(huán)形支架7之間設(shè)置有若干連接塊8,連接塊8與支架桿2相互間隔設(shè)置,連接塊8上設(shè)有定位筋a和凹槽b,凹槽b內(nèi)裝嵌有磁鐵5。
本實(shí)施例中的環(huán)形支架7可有效增加線圈盤的整體強(qiáng)度,延長其使用壽命;連接塊8上設(shè)置磁鐵5可進(jìn)一步增加加熱功率,提高烹飪效果。
其他未述部分同第一實(shí)施例,這里不再分析說明。
第三實(shí)施例
參見圖10,本3D立體加熱線圈盤,其不同于第一實(shí)施例之處在于:所述外盤體1上環(huán)形均布有四個(gè)連接部1.1,該連接部1.1為外盤體1側(cè)壁上徑向向外突出的弧形結(jié)構(gòu),連接部1.1上設(shè)有用于固接機(jī)體的螺釘孔,本實(shí)施例的連接部1.1方便線圈盤裝配于機(jī)體上,有效提高裝配效率。
其他未述部分同第一實(shí)施例,這里不再分析說明。
上述為本發(fā)明的優(yōu)選方案,顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該了解本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理,在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下本發(fā)明還會有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等同物界定。