本發(fā)明屬于微電子芯片散熱技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及到一種具有交錯鋸齒型肋壁的微通道蒸發(fā)器。
背景技術(shù):
隨著微電子器件小型化和高集成度的發(fā)展,單位面積集成的電子元件個數(shù)不斷增加,造成電子設(shè)備單位面積的熱流密度大幅提升,而設(shè)備的性能和壽命與散熱能力密切相關(guān),傳統(tǒng)的散熱系統(tǒng)諸如肋片和風(fēng)扇已經(jīng)無法滿足設(shè)備的散熱需求。微通道具有換熱系數(shù)高、結(jié)構(gòu)緊湊以及溫度均勻性好的優(yōu)點,相變過程中由于流體從液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)時吸收大量的汽化潛熱,可以實現(xiàn)有效散熱,因而,基于微通道流動沸騰的相變冷卻技術(shù)在電子設(shè)備散熱領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景,但相變傳熱系統(tǒng)中存在沸騰起始點溫度過高導(dǎo)致器件過溫?zé)龤?,流動不穩(wěn)定性導(dǎo)致器件熱疲勞損壞等問題,本發(fā)明有效解決降低相變傳熱系統(tǒng)中沸騰起始點溫度,提高傳熱系數(shù)以及抑制傳熱不穩(wěn)定性等問題,具有廣闊的應(yīng)用前景。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是提出一種具有交錯鋸齒型肋壁的微通道蒸發(fā)器,其特征在于,由上層蓋板1、硅微通道板2及加熱膜3組成;其中上層蓋板1和硅微通道板2貼合,加熱膜3位于硅微通道板2的背面;所述硅微通道板2由進液口21、微通道22,鋸齒型肋壁23、匯聚聯(lián)箱24及出液口25組成;其中進液口21和出液口25開在硅基板2的兩端,微通道22兩側(cè)的鋸齒型肋壁23鋸齒的齒尖231與齒根232相對應(yīng),匯聚聯(lián)箱24位于彼此相鄰的兩段微通道區(qū)域之間,并且匯聚聯(lián)箱24兩側(cè)的微通道交錯布置。
所述上層蓋板1和硅微通道板2采用微電子機械工藝mems鍵合,加熱膜3采用濺射工藝加工于硅微通道板2的背面。
所述加熱膜3為模擬熱源,其位置正對于所述硅微通道板2正面的微通道22,加熱膜3所用的材質(zhì)通常為鉑或鋁,當(dāng)通電時利用電阻發(fā)熱來模擬熱源。
所述鋸齒結(jié)構(gòu)形成的凹穴尺寸與汽泡核化過熱度關(guān)系應(yīng)滿足:
其中δt為工質(zhì)的過熱度,ts為工質(zhì)的飽和溫度,σ為表面張力,rm為鋸齒的齒尖間距,ρv為氣態(tài)工質(zhì)的密度,hfg為汽化潛熱。與光滑的直通道相比,鋸齒形結(jié)構(gòu)增大了凹穴尺寸,顯著降低了沸騰起始所需的過熱度。
所述鋸齒型肋壁23的鋸齒型微結(jié)構(gòu)對工質(zhì)產(chǎn)生毛細吸液作用,使得微通道22內(nèi)液相傾向于吸附在鋸齒型微結(jié)構(gòu)表面,氣相分布于微通道中心,從而形成氣液分相流動的環(huán)狀流,在通道內(nèi)形成了薄液膜蒸發(fā)高效傳熱模式,與泡狀流等其他形式的傳熱流型相比,薄液膜蒸發(fā)模式減少了氣液可壓縮界面的數(shù)量,抑制了沸騰換熱不穩(wěn)定性,從而獲得較為穩(wěn)定的相變傳熱。所述匯聚聯(lián)箱24將上游微通道形成的氣液兩相流重新混合后分配到下游微通道,氣液重新分布延緩了下游微通道局部蒸干的發(fā)生,改善了溫度均勻性,提高了臨界熱流密度。
本發(fā)明的有益效果是所述具有交錯鋸齒型肋壁的微通道蒸發(fā)器,一方面,微通道肋壁上的鋸齒根部形成了許多核化凹穴,在換熱過程中有利于氣泡的生成,降低了沸騰起始點的壁面過熱度,另一方面,微通道肋壁上的鋸齒結(jié)構(gòu)對工質(zhì)存在毛細吸液作用,使得通道內(nèi)易于形成氣液分相流動的環(huán)狀流薄液膜蒸發(fā)高效穩(wěn)定傳熱模式,與泡狀流等其他形式的傳熱流型相比,薄液膜蒸發(fā)模式減少了氣液可壓縮界面的數(shù)量,抑制了沸騰換熱不穩(wěn)定性,從而獲得較為穩(wěn)定的相變傳熱。在匯聚聯(lián)箱內(nèi)氣液混合后進入下游微通道,氣液重新分布延緩了通道中心的蒸干,使得該蒸發(fā)器具有更加均勻的溫度分布,改善了沿程溫度均勻性,提高的臨界熱流密度。本發(fā)明在降低沸騰起始點溫度,提高傳熱能力,改善溫度均勻性及提高臨界熱流密度方面有益效果顯著,在微電子芯片散熱技術(shù)領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
附圖說明
圖1為具有交錯鋸齒型肋壁的微通道蒸發(fā)器的整體示意圖。
圖2為所述硅微通道板的結(jié)構(gòu)示意圖,其中a為二維俯視圖,b為局部放大圖。
圖3為微通道上游鋸齒結(jié)構(gòu)中發(fā)生氣泡核化的示意圖。
附圖標(biāo)記說明:1、上層蓋板,2、硅微通道板,3、加熱膜,21、進液口,22、微通道,23、鋸齒型肋壁,24、匯聚聯(lián)箱,25、出液口,231、齒尖,232、齒根。
具體實施方式:
本發(fā)明提供一種具有交錯鋸齒型肋壁的微通道蒸發(fā)器,該蒸發(fā)器在硅基板的兩側(cè)壁面以及微通道兩側(cè)的肋壁上加工出鋸齒形結(jié)構(gòu),并且,鋸齒型肋壁交錯排列。下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明的內(nèi)容做進一步詳細說明。
圖1所示為具有交錯鋸齒型肋壁的微通道蒸發(fā)器的總裝圖,由上層蓋板1、硅微通道板2及加熱膜3組成。其中上層蓋板1和硅微通道板2采用微電子機械工藝mems鍵合,加熱膜3采用濺射工藝加工于硅微通道板2的背面。
圖2所示為所述硅微通道板的結(jié)構(gòu)示意圖,其中a為二維俯視圖,b為局部放大圖。在硅微通道板2上加工有進液口21、微通道22、鋸齒型肋壁23、匯聚聯(lián)箱24、出液口25、齒尖231和齒根232。其中進液口21和出液口25開在硅基板2的兩端,微通道22兩側(cè)的鋸齒型肋壁23上的鋸齒的齒尖231與齒根232相對應(yīng),匯聚聯(lián)箱24位于彼此相鄰的兩端微通道區(qū)域之間,并且匯聚聯(lián)箱24兩側(cè)的微通道交錯布置。
所述加熱膜3為模擬熱源,其位置正對于所述硅微通道板2正面的微通道22,加熱膜3所用的材質(zhì)通常為鉑或鋁,當(dāng)通電時利用電阻發(fā)熱來模擬熱源。
圖3所示為微通道上游鋸齒結(jié)構(gòu)中發(fā)生氣泡核化的示意圖。鋸齒結(jié)構(gòu)形成的凹穴尺寸與汽泡核化過熱度關(guān)系應(yīng)滿足:
其中δt為工質(zhì)的過熱度,ts為工質(zhì)的飽和溫度,σ為表面張力,rm為鋸齒的齒尖間距,ρv為氣態(tài)工質(zhì)的密度,hfg為汽化潛熱。微通道肋壁上的鋸齒根部形成了許多核化凹穴,增大了凹穴尺寸,在換熱過程中有利于氣泡的生成,與光滑的直通道相比,顯著降低了沸騰起始點的壁面過熱度,另一方面,微通道肋壁上的鋸齒結(jié)形成的凹穴對工質(zhì)具有毛細吸液作用,使得通道內(nèi)易于形成氣液分相流動的環(huán)狀流高效穩(wěn)定傳熱模式,在強化傳熱的同時,液膜厚度逐漸減小,延緩了微通道壁面上發(fā)生局部蒸干,達到臨界熱流密度;最終發(fā)生局部蒸干,從而增大了臨界熱流密度;在匯聚聯(lián)箱內(nèi)氣液混合后進入下游微通道,氣液重新分布延緩了通道中心的蒸干,使得該蒸發(fā)器溫度分布更加均勻,從而具有較低的沸騰起始過熱度,高效穩(wěn)定的傳熱能力及較高的臨界熱流密度。