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      發(fā)光顯示裝置及其制造方法與流程

      文檔序號:39619376發(fā)布日期:2024-10-11 13:35閱讀:45來源:國知局
      發(fā)光顯示裝置及其制造方法與流程

      本公開的一些實(shí)施方式的各方面涉及發(fā)光顯示裝置及其制造方法。


      背景技術(shù):

      1、顯示裝置是具有用于顯示圖像的屏幕或顯示面板的裝置,并且包括液晶顯示器(lcd)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)顯示器等。

      2、顯示裝置可用在諸如移動電話、導(dǎo)航儀、數(shù)碼相機(jī)、電子書、便攜式游戲控制臺或各種終端的各種電子裝置中。

      3、有機(jī)發(fā)光顯示裝置通常具有自發(fā)光特性,并且與液晶顯示器不同,有機(jī)發(fā)光顯示裝置通常不要求單獨(dú)的光源,因此能夠減少厚度和重量。

      4、此外,有機(jī)發(fā)光顯示裝置通常具有相對高等級的特性,諸如相對低的功耗、相對高的亮度和相對快的響應(yīng)速度。

      5、在該背景技術(shù)部分中所公開的以上信息僅用于增強(qiáng)對背景的理解,并且因此,該背景技術(shù)部分中討論的信息不一定構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、根據(jù)一些實(shí)施方式的發(fā)光顯示裝置包括:襯底;定位在襯底上并且包括晶體管和覆蓋晶體管的平坦化層的驅(qū)動元件層;定位在平坦化層上的陰極和陽極連接電極;定位在平坦化層上并且包括第一層和第二層的分隔件,其中分隔件的第二層從第一層突出;包括定位在分隔件上的第一像素限定層和與陰極的一部分和陽極連接電極的一部分疊置的第二像素限定層的像素限定層;定位在陰極的頂部上的發(fā)光層;以及定位在陽極連接電極、第二像素限定層和發(fā)光層上的陽極。

      2、根據(jù)一些實(shí)施方式,分隔件的第一層可形成為在寬度上比第二層窄。

      3、根據(jù)一些實(shí)施方式,第一像素限定層可具有比與第一像素限定層重疊的分隔件的第二層和第一層的寬度窄的寬度。

      4、根據(jù)一些實(shí)施方式,發(fā)光層可定位在由第二像素限定層和分隔件劃分的第一開口中。

      5、根據(jù)一些實(shí)施方式,陽極可通過由第二像素限定層和分隔件劃分的第二開口連接到陽極連接電極。

      6、根據(jù)一些實(shí)施方式,第二像素限定層可定位在第一開口與第二開口之間。

      7、根據(jù)一些實(shí)施方式,發(fā)光顯示裝置還可包括定位在第一像素限定層和與其重疊的分隔件上并且由與陽極的材料相同的材料形成的輔助電極。

      8、根據(jù)一些實(shí)施方式,發(fā)光顯示裝置還可包括第一功能層和第二功能層,第一功能層定位在發(fā)光層與陽極之間并且包括空穴傳輸層,第二功能層包括電子傳輸層并且定位在發(fā)光層與陰極之間。

      9、根據(jù)一些實(shí)施方式,分隔件的第二層是無機(jī)絕緣層,并且第一層可為有機(jī)絕緣層。

      10、根據(jù)一些實(shí)施方式,分隔件的第二層是無機(jī)絕緣層,并且第一層可為與第二層具有不同的蝕刻速率的無機(jī)絕緣層。

      11、根據(jù)一些實(shí)施方式的用于制造發(fā)光顯示裝置的方法包括:形成位于襯底上的晶體管、覆蓋晶體管的平坦化層以及定位在平坦化層上的陰極和陽極連接電極,通過順序地堆疊構(gòu)成分隔件的用于第一層的材料和用于第二層的材料來形成分隔件的初級結(jié)構(gòu),在分隔件的初級結(jié)構(gòu)上形成第一像素限定層,形成覆蓋第一像素限定層并且暴露分隔件的初級結(jié)構(gòu)的側(cè)面的光致抗蝕劑圖案,以及通過干法蝕刻來蝕刻暴露的分隔件的初級結(jié)構(gòu),以完成分隔件的從分隔件的第一層突出的第二層。

      12、根據(jù)一些實(shí)施方式,包括在分隔件的初級結(jié)構(gòu)中的第二層和第一層可形成彼此相同的寬度。

      13、根據(jù)一些實(shí)施方式,在分隔件的初級結(jié)構(gòu)上形成第一像素限定層的步驟中,定位在分隔件的初級結(jié)構(gòu)上方的第一像素限定層可形成為在寬度上比包括在分隔件的初級結(jié)構(gòu)中的第二層和第一層窄。

      14、根據(jù)一些實(shí)施方式,在分隔件的初級結(jié)構(gòu)上形成第一像素限定層的步驟也可形成不與分隔件重疊的第二像素限定層。

      15、根據(jù)一些實(shí)施方式,第二像素限定層可與陰極的一部分和陽極連接電極的一部分重疊。

      16、根據(jù)一些實(shí)施方式,該方法還可包括在由第二像素限定層和與第一像素限定層重疊的分隔件劃分的第一開口中以噴墨方式形成發(fā)光層。

      17、根據(jù)一些實(shí)施方式,發(fā)光層可包括量子點(diǎn)。

      18、根據(jù)一些實(shí)施方式,完成分隔件的第二層的步驟可通過各向異性干法蝕刻來執(zhí)行。

      19、根據(jù)一些實(shí)施方式,用于第二層的材料是無機(jī)絕緣材料,并且用于第一層的材料可為有機(jī)絕緣材料。

      20、根據(jù)一些實(shí)施方式,用于第二層的材料是無機(jī)絕緣材料,并且用于第一層的材料可為與用于第二層的材料具有不同的蝕刻速率的無機(jī)絕緣材料。

      21、根據(jù)一些實(shí)施方式,像素限定層形成在分隔件的頂部上,使得像素限定層的表面的疏水特性不劣化,并且能夠以噴墨方式在像素限定層之間形成發(fā)光層。

      22、另一方面,根據(jù)一些實(shí)施方式,能夠在分隔件上形成像素限定層,以減少所占用的面積,從而減少發(fā)光器件之間的間隙,并且形成高分辨率的發(fā)光顯示裝置。



      技術(shù)特征:

      1.一種發(fā)光顯示裝置,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,其中,

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光顯示裝置,其中,

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光顯示裝置,其中,

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光顯示裝置,其中,

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光顯示裝置,其中,

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,還包括:

      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,還包括:

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,其中,

      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,其中,

      11.一種制造發(fā)光顯示裝置的方法,所述方法包括:

      12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,

      13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,

      14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,

      15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,

      16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,還包括:

      17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,

      18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,

      19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,

      20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造發(fā)光顯示裝置的方法,其中,


      技術(shù)總結(jié)
      提供了發(fā)光顯示裝置及其制造方法。發(fā)光顯示裝置包括:襯底;位于襯底上并且包括晶體管和覆蓋晶體管的平坦化層的驅(qū)動元件層;位于平坦化層上的陰極和陽極連接電極;位于平坦化層上并且包括第一層和第二層的分隔件,其中分隔件的第二層從第一層突出;包括位于分隔件上的第一像素限定層和與陰極的一部分和陽極連接電極的一部分疊置的第二像素限定層的像素限定層;位于陰極的頂部上的發(fā)光層;以及位于陽極連接電極、第二像素限定層和發(fā)光層上方的陽極。

      技術(shù)研發(fā)人員:金璟陪,樸度昤,表基賢,洪性喆
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:三星顯示有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/10/10
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