本技術(shù)涉及氣體室,屬于化學(xué)品集成式氣體室。
背景技術(shù):
1、在大規(guī)模集成電路(ic)制造中需要使用大量高純度化學(xué)品,如rca清洗、濕式蝕刻等。隨著ic制程技術(shù)的不斷進(jìn)步,對高純電子級化學(xué)品生產(chǎn)分裝中的微粒子控制要求也越來越高。
2、集成電路(ic)制造已成為世界上最高新和最龐大的產(chǎn)業(yè)之一,在超大規(guī)模集成電路(ic)的生產(chǎn)中光刻工藝占據(jù)十分重要的地位。集成電路(ic)制造中,需要將掩膜母版上的幾何圖形先轉(zhuǎn)移到基片表面的光刻膠膠膜上,然后再通過從曝光到蝕刻等一系列處理技術(shù)把光刻膠膜上的圖像復(fù)制到襯底基片表面并形成永久性圖形。其中典型的微細(xì)加工過程包括基片預(yù)處理、涂膠、前烘、曝光、顯影、清洗、后烘、蝕刻、去膠,得到所需的永久性圖形,也即在圖形化處理之前,先對硅片進(jìn)行烘干和處理,然后均勻涂上光刻膠,經(jīng)前烘去除光刻膠溶劑通過步進(jìn)縮小投影曝光,在硅片上形成曝光電路圖形。然后經(jīng)顯影,曝光部分去除,保留下沒有曝光部分。經(jīng)后烘,使光刻膠膜粘附更堅固。再用濕法刻蝕,將電路圖形永久地保留在硅片上。同時采用熱擴(kuò)散和離子注入進(jìn)行摻雜,最后用去膠劑去除光刻膠膜,在硅片上形成永久性的ic設(shè)計圖形。
3、在集成電路或半導(dǎo)體分立器件的制做過程中往往需要多次甚至幾十次的光刻,每次光刻均需要完成上述的工序循環(huán)。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜,品種較多。光刻膠混配過濾供應(yīng)系統(tǒng)的好壞直接影響cmp制程效果。光刻膠在預(yù)先混合和使用中不能產(chǎn)生較大顆粒、結(jié)晶、感光等問題。為了解決此類問題,人們一直在尋求一種更理想的安全操作模式的技術(shù)解決方案。
4、國內(nèi)光刻膠混配過濾供應(yīng)系統(tǒng)的此類設(shè)備多數(shù)依賴進(jìn)口,隨著國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展與之配套的上游精細(xì)化工產(chǎn)業(yè)也紛紛配套研發(fā)。為了解決此類問題,人們一直在尋求一種更理想的既準(zhǔn)確有又方便的技術(shù)解決方案。
5、隨著我國半導(dǎo)體行業(yè)的不斷發(fā)展,化學(xué)品品種越來越多,國內(nèi)對化學(xué)品供應(yīng)流程及供應(yīng)過程的要求越來越嚴(yán)格,精度越來越高?,F(xiàn)有技術(shù)中化學(xué)品模塊的切換通常需要在氣體室內(nèi)進(jìn)行,但是由于氣體室位置受限,使得化學(xué)品管道的組裝不便,從而影響組裝的精度。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本實用新型的目的在于提供一種化學(xué)品集成式氣體室立體以解決背景技術(shù)中的問題。
2、為達(dá)到上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:
3、一種化學(xué)品集成式氣體室,包括:
4、主體框架,包括用于安放化學(xué)品桶的第一框架、第二框架和第三框架,所述第二框架位于第三框架下方;
5、抽屜式氣體模塊,可拆卸連接于第二框架內(nèi);
6、電控室,安裝在所述第三框架內(nèi);
7、所述抽屜式氣體模塊包括抽屜框架、氣體分配管道及監(jiān)測裝置;所述化學(xué)品桶通過連接所述氣體分配管道來對外進(jìn)行氣體輸出。
8、一個或多個實施例中,所述第二框架和第三框架之間設(shè)有第一隔板,所述第一框架與第二框架之間設(shè)有第二隔板。
9、一個或多個實施例中,所述第二隔板上安裝有消音外殼。
10、一個或多個實施例中,所述第一隔板開設(shè)有氣管電線通道。
11、一個或多個實施例中,所述第二框架底端設(shè)有底板找平托架。
12、一個或多個實施例中,所述主體框架頂端設(shè)有高效空氣過濾器。
13、一個或多個實施例中,所述主體框架頂端設(shè)有若干排風(fēng)裝置。
14、一個或多個實施例中,所述主體框架底端設(shè)有可調(diào)節(jié)底角。
15、本實用新型的有益效果在于:本實用新型通過可以拆卸的抽屜式氣體模塊設(shè)計,可以使得氣體模塊的安裝和更換更加便捷,滿足不同化學(xué)品的輸出需求。
16、上述說明僅是本實用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實用新型的技術(shù)手段,并可依照說明書的內(nèi)容予以實施,以下以本實用新型的較佳實施例詳細(xì)說明如后。
1.一種化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,所述第二框架和第三框架之間設(shè)有第一隔板,所述第一框架與第二框架之間設(shè)有第二隔板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,所述第二隔板上安裝有消音外殼。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,所述第一隔板開設(shè)有氣管電線通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,所述第二框架底端設(shè)有底板找平托架。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,所述主體框架頂端設(shè)有高效空氣過濾器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,所述主體框架頂端設(shè)有若干排風(fēng)裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室,其特征在于,所述主體框架底端設(shè)有可調(diào)節(jié)底角。