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      布線基板、布線基板的制造方法

      文檔序號(hào):9492520閱讀:269來源:國(guó)知局
      布線基板、布線基板的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及布線基板、布線基板的制造方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]以往,半導(dǎo)體元件例如通過芯片倒裝方式被安裝到電路板上。在電路板上設(shè)置有電極(pad焊盤)和阻焊膜。電極從形成于阻焊膜的開口部露出,在露出的電極上形成有焊料凸點(diǎn)。通過該焊料凸點(diǎn)(solder bump),將電路板與半導(dǎo)體元件連接。另外,在其他電路板上,形成有從阻焊膜的開口部露出的凸點(diǎn),凸點(diǎn)通過電鍍等而與電極連接。通過該凸點(diǎn),電路板與半導(dǎo)體元件連接(例如,參照日本特開2007-103878號(hào)公報(bào))。
      [0003]但是,近年來隨著半導(dǎo)體元件的高度集成化,半導(dǎo)體元件在布線基板上的連接端子的數(shù)量增大(多管腳化),此外還推進(jìn)半導(dǎo)體元件的連接端子的窄間距化。因此,需要與這種半導(dǎo)體元件對(duì)應(yīng)的布線基板。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明涉及一種布線基板,具備:布線層;設(shè)置于所述布線層的面上的、用于安裝電子部件的多個(gè)金屬端子;以及保護(hù)層,將所述布線層中的形成有所述多個(gè)金屬端子的面覆蓋,所述布線層包括晶種層和金屬鍍層,所述金屬鍍層形成于所述晶種層之上,俯視時(shí)的大小與所述晶種層相同,所述多個(gè)金屬端子具有從所述保護(hù)層突出的上端和具有該上端的寬度以上的寬度的基端,所述保護(hù)層針對(duì)所述多個(gè)金屬端子分別具有角焊縫部,該角焊縫部朝向所述多個(gè)金屬端子之中的相應(yīng)的金屬端子的上端面延伸,與所述多個(gè)金屬端子之中的相應(yīng)的金屬端子的側(cè)面連接。
      [0005]本發(fā)明還涉及一種布線基板的制造方法,是具有電子部件用的金屬端子的布線基板的制造方法,包括:在絕緣層上形成晶種層的工序;形成第1抗蝕層的工序,第1抗蝕層將所述晶種層覆蓋,且在預(yù)定位置具有開口部;將所述晶種層用作供電層,在所述第1抗蝕層的開口部形成金屬鍍層的工序;將所述第1抗蝕層去除的工序;形成將所述晶種層和所述金屬鍍層覆蓋的第2抗蝕層的工序,該第2抗蝕層具有使所述金屬鍍層的上表面的一部分露出的開口部;將所述晶種層用作供電層,在所述第2抗蝕層的開口部形成金屬端子的工序;將所述第2抗蝕層去除的工序;將所述金屬鍍層用作掩模,對(duì)所述晶種層進(jìn)行蝕刻的工序;形成將所述金屬端子覆蓋的樹脂層的工序;將所述樹脂層薄膜化而將所述金屬端子的上端露出的工序;以及將所述樹脂層固化的工序。
      [0006]發(fā)明效果
      [0007]根據(jù)本發(fā)明的一觀點(diǎn),能夠安裝被實(shí)施了窄間距化的半導(dǎo)體元件等的電子部件。
      【附圖說明】
      [0008]圖1 (a)是示出半導(dǎo)體裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖,圖1 (b)是布線基板的局部剖視圖,圖1(c)是端子(post)以及阻焊膜的局部剖視圖。
      [0009]圖2(a)?(e)是示出布線基板(端子)的制造工序的剖視圖。
      [0010]圖3(a)?(e)是示出布線基板(端子)的制造工序的剖視圖。
      [0011]圖4(a)、圖4(b)是其他布線基板的局部剖視圖。
      [0012]圖5是示出其他半導(dǎo)體裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
      [0013]圖6(a)是其他布線基板的示意俯視圖,圖6(b)是其他布線基板的局部剖視圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0014]下面說明各方式的半導(dǎo)體裝置。
      [0015]另外,附圖有時(shí)為了便于理解而將構(gòu)成要素放大示出。構(gòu)成要素的尺寸比例有時(shí)與實(shí)物或其他圖不同。另外,在剖視圖中,為了便于理解,有時(shí)將一部分構(gòu)成要素的剖面線省略。
      [0016]如圖1 (a)所示,半導(dǎo)體裝置1具有布線基板10、以及被安裝到布線基板10的一面(圖中上側(cè)的面)上的半導(dǎo)體元件60。該半導(dǎo)體裝置1被安裝到例如母板等的基板上。
      [0017]在本實(shí)施方式中,為了方便起見,在布線基板10中,將安裝半導(dǎo)體元件60的一側(cè)設(shè)為上側(cè)。另外,在布線基板10所包含的各部件中,將上側(cè)的面設(shè)為上表面。其中,布線基板10能夠以天地顛倒的狀態(tài)使用,或者也能夠以任意的角度配置。另外,俯視是指,從安裝半導(dǎo)體元件60的面的法線方向觀看對(duì)象物,平面形狀是指俯視時(shí)的形狀。
      [0018]布線基板10具有芯基板11。芯基板11是例如在作為加固材料的玻璃纖維布(玻璃織布)中含浸以環(huán)氧樹脂為主要成分的熱固性絕緣性樹脂并進(jìn)行固化而得到的、所謂的玻璃環(huán)氧基板。
      [0019]在芯基板11上,在預(yù)定位置形成有將上表面與下表面之間貫通的多個(gè)貫通孔UXo在各貫通孔11X內(nèi)形成有將芯基板11的上表面與下表面之間貫通的貫通電極12。作為貫通電極12的材料,能夠使用例如銅(Cu)或銅合金。另外,貫通電極12可以通過在貫通孔11X的內(nèi)表面(壁面)形成電鍍膜,在該貫通孔11X內(nèi)填充絕緣樹脂而形成。
      [0020]在芯基板11的上表面,依次層積有布線層21、絕緣層22、布線層23、絕緣層24、以及布線層25。在芯基板11的下表面依次層積有布線層31、絕緣層32、布線層33、絕緣層34、布線層35。作為布線層21、23、25以及布線層31、33、35的材料,能夠使用例如銅、銅合金。作為絕緣層22、24以及絕緣層32、34的材料,能夠使用例如環(huán)氧樹脂、聚酰亞胺樹脂等絕緣性樹脂、或者在這些樹脂中混入了氧化硅或氧化鋁等填充物而得的樹脂材料。
      [0021]在芯基板11的上表面的布線層21中包含的多個(gè)布線分別通過貫通電極12而與下表面的布線層31中包含的相應(yīng)的布線電連接。
      [0022]在芯基板11的上方側(cè),布線層23通過形成于絕緣層22的通孔(via hole)的連接線(via) 23V而與布線層21電連接。同樣地,布線層25通過連接線25V而與布線層23電連接。
      [0023]形成于絕緣層24上的布線層25包括被圖案化成預(yù)定形狀的多個(gè)布線。另外,針對(duì)各個(gè)布線,作為布線層25進(jìn)行說明。布線層25包括:被包含于與半導(dǎo)體元件60對(duì)應(yīng)的區(qū)域(安裝區(qū)域)的布線層25a (第1布線層);以及不被包含于安裝區(qū)域的布線層25b (第2布線層)。在布線層25a上形成有多個(gè)金屬端子27。也就是說,布線層25a中的多個(gè)布線分別形成有對(duì)應(yīng)的金屬端子27。金屬端子27形成為例如圓柱狀。在該金屬端子27上,上端27c的寬度(直徑)為基端27d的寬度(直徑)以下。因此,金屬端子27的上端27c附近的側(cè)面不會(huì)比金屬端子27的基端27d附近(金屬端子27與布線層25a連接的部分的附近)的側(cè)面還向側(cè)方突出。另外,能夠?qū)⒔饘俣俗?7的形狀形成為四角柱狀、六角柱狀等角柱狀。金屬端子27的材料為例如銅(Cu)。另外,作為金屬端子27的材料,能夠使用鎳、錫、銀、金、鈀、鋁等、或者它們的合金。另外,在本實(shí)施方式中,在布線層25b上沒有形成金屬端子27,布線層25b被用于將例如布線層25a與內(nèi)部的布線層23連接。另外,在不對(duì)布線層25a、25b進(jìn)行區(qū)分的情況下,有時(shí)使用布線層25進(jìn)行說明。
      [0024]最外層的絕緣層24以及布線層25的表面被阻焊層41覆蓋。各金屬端子27從阻焊層41的上表面41a突出。另外,圖中雖省略,布線層21、23、25的表面(圖中的上表面)、芯基板11的上表面、絕緣層22、24等的表面(圖中的上表面)、金屬端子27的上表面被粗糙化。
      [0025]在芯基板11的下方側(cè),在絕緣層32的多個(gè)通孔分別形成有多個(gè)連接線33V,布線層33通過多個(gè)連接線33V而與布線層31電連接。同樣地,布線層35通過多個(gè)連接線35V而與布線層33電連接。最外層的絕緣層34以及布線層35的表面被阻焊層42覆蓋。在阻焊層42上,在預(yù)定位置形成有多個(gè)開口部42X,布線層35從各開口部42X作為焊盤(pad) 35a露出。另外,雖在圖中省略,布線層31、33、35的表面(圖中的下表面)、芯基板11的下表面、絕緣層32、24的表面(圖中的下表面)被粗糙化。
      [0026]可以在焊盤35a的表面設(shè)置表面處理層。作為表面處理層,能夠使用電鍍層、0SP膜等。作為電鍍層,能夠使用例如依次層積了鎳/金、鎳/鈀/金的電鍍膜。作為0SP膜,能夠使用例如由咪唑化合物或唑類化合物構(gòu)成的膜。
      [0027]布線基板10的各金屬端子27通過焊料71而與半導(dǎo)體元件60連接。也就是說,半導(dǎo)體元件60被芯片倒裝到布線基板10上。填充樹脂72被設(shè)置成將布線基板10與半導(dǎo)體元件60之間的縫隙填充。作為填充樹脂72的材料,使用例如環(huán)氧樹脂等絕緣性樹脂。
      [0028]另外,圖1(a)示出布線基板的一個(gè)例子。布線基板只要具有將布線層25和布線層35相互電連接的結(jié)構(gòu)足以。因此,也可以是適當(dāng)改變布線層的層數(shù)的結(jié)構(gòu),或者也可以是沒有形成布線層的結(jié)構(gòu)。作為布線基板,能夠使用例如具有芯基板的帶芯增層
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