一種電磁屏蔽視窗用的柔性透明導(dǎo)電材料及制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，包括柔性透明高分子材料層，柔性透明高分子材料層的表面具有由納米銀漿制備的導(dǎo)電網(wǎng)格，導(dǎo)電網(wǎng)格上鍍有金屬層，或：導(dǎo)電網(wǎng)格進(jìn)行了黑化處理；所述柔性透明高分子材料層的組分組成為柔性透明高分子材料；所述柔性透明高分子材料選自聚酯膜、聚酰亞胺膜；所述金屬層的組分組成為：銅、鐵、鎳、鐵鎳、鎳鈷或/和合金中的任意一種或兩種以上。本發(fā)明的電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，屏蔽效能高，金屬層均勻性、結(jié)合力好，透光度好，表面電阻≤0.05Ω/口，透光率能達(dá)到70%以上。本發(fā)明可廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電視窗、屏蔽機(jī)柜以及各類屏蔽工程等領(lǐng)域。
【專利說明】
一種電磁屏蔽視窗用的柔性透明導(dǎo)電材料及制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料及其制備方法，屬于電磁屏蔽技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，隨著各種電子設(shè)備的廣泛應(yīng)用，很多應(yīng)用光學(xué)窗的場合都要求光學(xué)窗在可見光波段具有高透低反的光學(xué)特性，同時(shí)還具有較強(qiáng)的寬波段電磁屏蔽能力，如機(jī)載車載顯示器件，醫(yī)療電子顯示設(shè)備的光學(xué)窗，黨政機(jī)關(guān)、商業(yè)、科研等重要辦公場所的窗玻璃等。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，常用的電磁屏蔽視窗用透明導(dǎo)電材料主要有:(I)鍍金屬膜方式，透光率較好，但屏蔽效果很低；(2)金屬絲網(wǎng)方式，屏蔽效果較好，但透光度差，難以滿足使用要求。中國發(fā)明專利申請(qǐng)“用于屏蔽視窗的屏蔽絲、絲網(wǎng)及夾絲網(wǎng)屏蔽視窗”(申請(qǐng)?zhí)?201210273084.7;公開號(hào):CN 102781208 A)公開了一種用于屏蔽視窗的屏蔽絲、絲網(wǎng)及夾絲網(wǎng)屏蔽視窗，其在不銹鋼絲或銅絲外表面鍍金屬層(鎳層、銀層)，提高了視窗的屏蔽效果，但透光度還需要進(jìn)一步提高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明提供一種了柔性透明導(dǎo)電材料，其具有高透光率、高屏蔽效能等優(yōu)點(diǎn)，本發(fā)明還提供了其制備方法，該制備方法具有工藝簡單、操作方便、成本低廉等優(yōu)點(diǎn)。
[0005]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0006]—種電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，包括柔性透明高分子材料層，柔性透明高分子材料層的表面具有由納米銀漿制備的導(dǎo)電網(wǎng)格，導(dǎo)電網(wǎng)格上鍍有金屬層，或:導(dǎo)電網(wǎng)格進(jìn)行了黑化處理;所述柔性透明高分子材料層的組分組成為柔性透明高分子材料;所述柔性透明高分子材料選自聚酯膜、聚酰亞胺膜等薄膜材料;所述金屬層的組分組成為:銅、鐵、鎳、鐵鎳、鎳鈷等單質(zhì)金屬或/和合金中的任意一種或兩種以上的復(fù)合。
[0007]進(jìn)一步地，所述柔性透明導(dǎo)電材料的厚度為0.014?0.6mm，其中柔性透明高分子材料層的厚度為0.01?0.5_。
[0008]所述電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料的制備方法，包括以下步驟:
[0009](I)對(duì)柔性透明高分子材料表面進(jìn)行前處理，以提高基材表面粗糙度和清潔度及活性；
[0010]所述前處理的具體方式選自等離子處理、電暈處理、離子束處理等物理處理方法；
[0011]優(yōu)選的，所述前處理的具體方式為等離子處理，等離子處理真空度為0.1?1Pa;
[0012](2)上述前處理后，用納米銀漿在柔性透明高分子材料表面制備導(dǎo)電網(wǎng)格；
[0013]所述制備導(dǎo)電網(wǎng)格的方法選自絲網(wǎng)印刷、蝕刻網(wǎng)格、自組裝納米銀漿涂布等方法；
[0014]所述導(dǎo)電網(wǎng)格為菱形、矩形、六邊形、圓形或不規(guī)則形狀等，網(wǎng)格線徑0.003?
0.05mm，網(wǎng)格間距為0.1?5mm;
[0015](3)在上述導(dǎo)電網(wǎng)格上復(fù)鍍金屬層，以提高其屏蔽效能；
[0016]或:對(duì)上述導(dǎo)電網(wǎng)格進(jìn)行黑化處理，以提高明視對(duì)比度。
[0017]所述金屬層的組分選自銅、鐵、鎳、鐵鎳、鎳鈷等單質(zhì)金屬或/和合金。
[0018]所述復(fù)鍍金屬層的方法選自化學(xué)鍍、電鍍、物理氣相沉積等方法。
[0019]優(yōu)選的，復(fù)鍍金屬層的方法采用化學(xué)鍍，鍍錫鎳合金，鍍液的組分組成為:氯化亞錫5?20g/L，氯化鎳20?100g/L，蛋氨酸5?20g/L，焦磷酸鉀100?200g/L，余量為水。
[0020]優(yōu)選的，復(fù)鍍金屬層的方法采用電鍍，鍍銅，鍍液的組分組成為:檸檬酸銨5?20g/L，焦磷酸銅20?100g/L，焦磷酸鉀100?500g/L，余量為水。
[0021]所述黑化處理的方法選自鍍黑色金屬或合金、化學(xué)黑化處理等方法。
[0022]優(yōu)選的，黑化處理的方法為化學(xué)黑化處理，所采用的黑化劑具體組分為TeO2和鹽酸，TeO2的濃度為10?100g/L。
[0023]上述未詳細(xì)說明書的技術(shù)、方法等，均為現(xiàn)有技術(shù)中已有的常規(guī)技術(shù)、方法，在此不再贅述。
[0024]本發(fā)明的電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，屏蔽效能高，金屬層均勻性、結(jié)合力好，透光度好，表面電阻<0.05 Ω/口，透光率能達(dá)到70%以上；制造成本低廉，對(duì)環(huán)境無污染，易于規(guī)模化生產(chǎn)。本發(fā)明的電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，可廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電視窗、屏蔽機(jī)柜以及各類屏蔽工程等領(lǐng)域。
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
[0026]下述實(shí)施例中所涉及的儀器、試劑、材料等，若無特別說明，均為現(xiàn)有技術(shù)中已有的常規(guī)儀器、試劑、材料等，可通過正規(guī)商業(yè)途徑獲得。下述實(shí)施例中所涉及的實(shí)驗(yàn)方法，檢測方法等，若無特別說明，均為現(xiàn)有技術(shù)中已有的常規(guī)實(shí)驗(yàn)方法，檢測方法等。
[0027]實(shí)施例1
[0028]步驟如下:
[0029](I)將厚度為0.01mm的聚酯薄膜在真空狀態(tài)下進(jìn)行等離子處理，以提高薄膜表面的清潔度和活性，等離子處理真空度為5Pa，速度為lm/min。
[0030](2)將納米銀漿涂覆在等離子處理后的聚酯薄膜表面，用蝕刻方法制備菱形網(wǎng)格，網(wǎng)格線徑0.05mm，網(wǎng)格間距為2mm。
[0031](3)對(duì)上述網(wǎng)格在室溫下進(jìn)行化學(xué)黑化處理，黑化劑具體組分為TeO2和鹽酸，TeO2的濃度為60g/L，速度為15m/h，時(shí)間為15s，經(jīng)測試該網(wǎng)格方塊電阻為0.05 Ω / 口，透光度為73%，厚度為 0.014mm。
[0032]實(shí)施例2
[0033]步驟如下:
[0034](I)將厚度為0.3mm的聚酯薄膜在真空狀態(tài)下進(jìn)行等離子處理，以提高薄膜表面的清潔度和活性，所述等離子處理真空度為IPa;
[0035](2)用納米銀漿，采用絲網(wǎng)印刷方法在上述處理后的聚酯薄膜表面制備矩形網(wǎng)格，網(wǎng)格線徑0.03mm，網(wǎng)格間距為0.5mm ；
[0036](3)在上述網(wǎng)格表面電鍍銅，鍍液的組分組成為:檸檬酸銨15g/L，焦磷酸銅60g/L，焦磷酸鉀300g/L，余量為水;溫度為40 0C，速度為6m/h ；
[0037](4)在上述網(wǎng)格表面鍍錫鎳合金，鍍液的組成成分為:氯化亞錫20g/L，氯化鎳100g/L，蛋氨酸5g/L，焦磷酸鉀200g/L，余量為水;溫度為40°C，速度為6m/h。所得電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，經(jīng)測試該網(wǎng)格方塊電阻為0.04 Ω/口，透光度為80%，厚度為0.306mmo
[0038]實(shí)施例3
[0039]步驟如下:
[0040](I)將厚度為0.4mm的聚酯薄膜在真空狀態(tài)下進(jìn)行等離子處理，以提高薄膜表面的清潔度和活性，所述等離子處理真空度為1Pa;
[0041](2)用納米銀漿，采用絲網(wǎng)印刷方法在等離子處理后的聚酯薄膜表面制備六邊形網(wǎng)格，所述網(wǎng)格線徑0.02mm，網(wǎng)格間距為Imm ；
[0042](3)在上述網(wǎng)格表面電鍍銅，所述鍍液主要成為為檸檬酸銨5g/L，焦磷酸銅10g/L，焦磷酸鉀100g/L，余量為水;溫度為50 0C，速度為8m/h ；
[0043](4)上述網(wǎng)格表面鍍錫鎳合金，鍍液的組成成分為:氯化亞錫15g/L，氯化鎳80g/L，蛋氨酸20g/L，焦磷酸鉀100g/L，余量為水;溫度為400C，速度為6m/h。所得電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，經(jīng)測試該網(wǎng)格方塊電阻為0.03 Ω / 口，透光度為75%，厚度為0.408_。
[0044]實(shí)施例4
[0045]步驟如下:
[0046](I)將厚度為0.5mm的聚酯薄膜在真空狀態(tài)下進(jìn)行等離子處理，以提高薄膜表面的清潔度和活性，所述等離子處理真空度為0.5Pa;
[0047](2)采用自組裝納米銀(外購產(chǎn)品)漿涂布在薄膜表面，利用納米銀漿自組裝功能形成不規(guī)則網(wǎng)格圖形，所述網(wǎng)格線徑0.004mm ；
[0048](3)在上述網(wǎng)格表面電鍍銅，所述鍍液主要成為為檸檬酸銨20g/L，焦磷酸銅20g/L，焦磷酸鉀500g/L，余量為水;溫度為50 0C，速度為8m/h ；
[0049](4)在上述網(wǎng)格表面鍍錫鎳合金，鍍液的組成成分為:氯化亞錫5g/L，氯化鎳20g/L，蛋氨酸10g/L，焦磷酸鉀150g/L，余量為水;溫度為40°C，速度為6m/h。所得電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，經(jīng)測試該網(wǎng)格方塊電阻為0.03 Ω/口，透光度為76%，厚度為0.510mmo
[0050]實(shí)施例5制備電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料[0051 ] 步驟如下:
[0052](I)將厚度為0.08mm的聚酯薄膜在真空狀態(tài)下進(jìn)行等離子處理，以提高薄膜表面的清潔度和活性，所述等離子處理真空度為0.1?1Pa;
[0053](2)采用自組裝納米銀漿(外購產(chǎn)品)涂布在薄膜表面，利用納米銀漿自組裝功能形成不規(guī)則網(wǎng)格圖形，所述網(wǎng)格線徑0.003mm ；
[0054](3)對(duì)上述網(wǎng)格在室溫下進(jìn)行化學(xué)黑化處理，黑化劑濃度為100g/L，速度為15m/h、時(shí)間為15s，經(jīng)測試該網(wǎng)格方塊電阻為0.04 Ω / 口，透光度為72%，厚度為0.092mm。
[0055]上述雖然結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了描述，但并非對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，在本發(fā)明的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動(dòng)即可做出的各種修改或變形仍在本發(fā)明的保護(hù)范圍以內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，其特征在于:包括柔性透明高分子材料層，柔性透明高分子材料層的表面具有由納米銀漿制備的導(dǎo)電網(wǎng)格，導(dǎo)電網(wǎng)格上鍍有金屬層，或:導(dǎo)電網(wǎng)格進(jìn)行了黑化處理;所述柔性透明高分子材料層的組分組成為柔性透明高分子材料;所述柔性透明高分子材料選自聚酯膜、聚酰亞胺膜;所述金屬層的組分組成為:銅、鐵、鎳、鐵鎳、鎳鈷或/和合金中的任意一種或兩種以上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料，其特征在于:所述柔性透明導(dǎo)電材料的厚度為0.014?0.6mm，其中柔性透明高分子材料層的厚度為0.0l?0.5mm。3.權(quán)利要求1或2所述的電磁屏蔽視窗用柔性透明導(dǎo)電材料的制備方法，其特征在于:包括以下步驟: (1)對(duì)柔性透明高分子材料表面進(jìn)行前處理，以提高基材表面粗糙度和清潔度及活性； (2)上述前處理后，用納米銀漿在柔性透明高分子材料表面制備導(dǎo)電網(wǎng)格； (3)在上述導(dǎo)電網(wǎng)格上復(fù)鍍金屬層，或:對(duì)上述導(dǎo)電網(wǎng)格進(jìn)行黑化處理； 所述金屬層的組分選自銅、鐵、鎳、鐵鎳、鎳鈷或/和合金。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于:所述步驟(I)中，所述前處理的具體方式選自等離子處理、電暈處理、離子束處理。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于:所述步驟(2)中，所述制備導(dǎo)電網(wǎng)格的方法選自絲網(wǎng)印刷、蝕刻網(wǎng)格、自組裝納米銀漿涂布。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于:所述步驟(2)中，所述導(dǎo)電網(wǎng)格為菱形、矩形、六邊形、圓形或不規(guī)則形狀，網(wǎng)格線徑0.003?0.05mm，網(wǎng)格間距為0.1?5mm。7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于:所述步驟(3)中，所述復(fù)鍍金屬層的方法選自化學(xué)鍍、電鍍、物理氣相沉積。8.根據(jù)權(quán)利要求3或7所述的制備方法，其特征在于:所述步驟(3)中，復(fù)鍍金屬層的方法采用化學(xué)鍍，鍍錫鎳合金，鍍液的組分組成為:氯化亞錫5?20g/L，氯化鎳20?100g/L，蛋氨酸5?20g/L，焦磷酸鉀100?200g/L，余量為水； 或:復(fù)鍍金屬層的方法采用電鍍，鍍銅，鍍液的組分組成為:檸檬酸銨5?20g/L，焦磷酸銅20?100g/L，焦磷酸鉀100?500g/L，余量為水。9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于:所述步驟(3)中，所述黑化處理的方法選自鍍黑色金屬或合金、化學(xué)黑化處理。10.根據(jù)權(quán)利要求3或9所述的制備方法，其特征在于:所述步驟(3)中，黑化處理的方法為化學(xué)黑化處理，所采用的黑化劑具體組分為TeO2和鹽酸，TeO2的濃度為10?100g/L。
【文檔編號(hào)】H05K9/00GK105960155SQ201610370065
【公開日】2016年9月21日
【申請(qǐng)日】2016年5月30日
【發(fā)明人】余鳳斌, 朱焰焰, 李高強(qiáng), 姚慧玲
【申請(qǐng)人】天諾光電材料股份有限公司