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      用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜的制作方法

      文檔序號(hào):8732943閱讀:243來源:國(guó)知局
      用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001 ] 本實(shí)用新型屬于電子材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜。
      【背景技術(shù)】
      [0002]電子和通信產(chǎn)業(yè)的發(fā)展突飛猛進(jìn),越來越多的電子電器產(chǎn)品進(jìn)入了尋常百姓的生活。這些產(chǎn)品在提高人們生活質(zhì)量的同時(shí)也帶來了一個(gè)突出的問題,即電磁輻射問題。電子產(chǎn)品釋放出的電磁波,會(huì)給周圍的其它電子設(shè)備帶來電磁干擾,使其工作異常;同時(shí)也會(huì)對(duì)人體健康造成危害。
      [0003]目前來說,微型化、高度集成化是電子產(chǎn)品發(fā)展的主流趨勢(shì),這些產(chǎn)品的內(nèi)部空間相對(duì)狹小。吸波材料中,貼片型吸波材料厚度薄,使用方便,對(duì)于降低電磁輻射、防止電磁干擾有很好的效果,比較適合應(yīng)用在電子產(chǎn)品中。因此,設(shè)計(jì)開發(fā)厚度薄、質(zhì)量輕、適用于狹小空間的貼片型電磁波吸收材料,成為本領(lǐng)域技術(shù)人員努力的方向。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本實(shí)用新型提供一種用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,此用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜提高了金屬層反射電磁場(chǎng)的利用率,金屬層的設(shè)置可以形成多次吸收,顯著提高了屏蔽膜的吸波性能;且有利于貼合時(shí)氣體的排出,從而避免了氣泡的產(chǎn)生。
      [0005]為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,包括PET絕緣層、金屬層、吸波層和離型材料層;PET絕緣層與金屬層之間設(shè)置有第一膠粘層,所述金屬層與吸波層之間設(shè)置有第二膠粘層,所述吸波層與離型材料層之間設(shè)置有第三膠粘層,所述金屬層與吸波層接觸的表面設(shè)置有若干個(gè)平行排列的棱鏡凸起部;所述第三膠粘層與離型材料層接觸的表面具有若干個(gè)凸點(diǎn)。
      [0006]上述技術(shù)方案中進(jìn)一步改進(jìn)的技術(shù)方案如下:
      [0007]1、上述方案中,所述PET絕緣層厚度小于10微米。
      [0008]2、上述方案中,所述第一膠粘層、第二膠粘層和第三膠粘層均為丙烯酸酯類膠粘層。
      [0009]3、上述方案中,所述凸點(diǎn)的平均高度為3.8微米?10微米。
      [0010]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
      [0011]本實(shí)用新型用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,其提高了金屬層反射電磁場(chǎng)的利用率,金屬層的設(shè)置可以形成多次吸收,顯著提高了屏蔽膜的吸波性能;絕緣層和PET薄膜層的使用一方面提高了材料的強(qiáng)度,另一方面也大幅度提高了其耐電壓擊穿的效果;其次,其第三膠粘層與離型材料層接觸的表面具有若干個(gè)凸點(diǎn),有利于貼合時(shí)氣體的排出,從而避免了氣泡的產(chǎn)生。
      【附圖說明】
      [0012]附圖1為本實(shí)用新型用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0013]以上附圖中:1、PET絕緣層;2、金屬層;3、吸波層;4、離型材料層;5、第一膠粘層;6、第二膠粘層;7、第三膠粘層;8、棱鏡凸起部;9、凸點(diǎn)。
      【具體實(shí)施方式】
      [0014]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:
      [0015]實(shí)施例1:一種用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,包括PET絕緣層1、金屬層2、吸波層3和離型材料層4 ;PET絕緣層I與金屬層2之間設(shè)置有第一膠粘層5,所述金屬層2與吸波層3之間設(shè)置有第二膠粘層6,所述吸波層3與離型材料層4之間設(shè)置有第三膠粘層7,所述金屬層2與吸波層3接觸的表面設(shè)置有若干個(gè)平行排列的棱鏡凸起部8 ;所述第三膠粘層7與離型材料層4接觸的表面具有若干個(gè)凸點(diǎn)9。
      [0016]吸波層由軟磁性粉末與高分子基體混煉而成,將電子產(chǎn)品釋放的電磁波以電損耗、磁損耗等方式轉(zhuǎn)換成熱能或其它形式的能量以達(dá)到降低電磁輻射的效果,在2?18GHz范圍內(nèi)有較好的吸收,可以將入射的電磁波反射回吸波層形成多次吸收。
      [0017]上述PET絕緣層I厚度為6微米;所述第一膠粘層5、第二膠粘層6和第三膠粘層7均為丙烯酸酯類膠粘層。所述凸點(diǎn)9的平均高度為5 8微米。
      [0018]實(shí)施例2:—種用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,包括PET絕緣層1、金屬層2、吸波層3和離型材料層4 ;PET絕緣層I與金屬層2之間設(shè)置有第一膠粘層5,所述金屬層2與吸波層3之間設(shè)置有第二膠粘層6,所述吸波層3與離型材料層4之間設(shè)置有第三膠粘層7,所述金屬層2與吸波層3接觸的表面設(shè)置有若干個(gè)平行排列的棱鏡凸起部8 ;所述第三膠粘層7與離型材料層4接觸的表面具有若干個(gè)凸點(diǎn)9。
      [0019]吸波層由軟磁性粉末與高分子基體混煉而成,將電子產(chǎn)品釋放的電磁波以電損耗、磁損耗等方式轉(zhuǎn)換成熱能或其它形式的能量以達(dá)到降低電磁輻射的效果,在2?18GHz范圍內(nèi)有較好的吸收,可以將入射的電磁波反射回吸波層形成多次吸收。
      [0020]上述PET絕緣層I厚度為8微米;所述第一膠粘層5、第二膠粘層6和第三膠粘層7均為丙烯酸酯類膠粘層。
      [0021]上述第一膠粘層5的厚度小于第二膠粘層6的厚度,所述第二膠粘層7的厚度小于第三膠粘層7。所述凸點(diǎn)(9)的平均高度為5.8微米?6微米。
      [0022]吸波性能采用反射率弓形測(cè)試法檢測(cè),最小反射率低于-10dB。
      [0023]采用上述用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜時(shí),其提高了金屬層反射電磁場(chǎng)的利用率,金屬層的設(shè)置可以形成多次吸收,顯著提高了屏蔽膜的吸波性能;絕緣層和PET薄膜層的使用一方面提高了材料的強(qiáng)度,另一方面也大幅度提高了其耐電壓擊穿的效果;其次,其第三膠粘層與離型材料層接觸的表面具有若干個(gè)凸點(diǎn),有利于貼合時(shí)氣體的排出,從而避免了氣泡的產(chǎn)生。
      [0024]上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,其特征在于:包括PET絕緣層(I)、金屬層(2)、吸波層(3)和離型材料層(4) ;PET絕緣層(I)與金屬層(2)之間設(shè)置有第一膠粘層(5),所述金屬層(2)與吸波層(3)之間設(shè)置有第二膠粘層(6),所述吸波層(3)與離型材料層(4)之間設(shè)置有第三膠粘層(7 ),所述金屬層(2 )與吸波層(3 )接觸的表面設(shè)置有若干個(gè)平行排列的棱鏡凸起部(8);所述第三膠粘層(7)與離型材料層(4)接觸的表面具有若干個(gè)凸點(diǎn)(9)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,其特征在于:所述PET絕緣層(I)厚度小于10微米。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,其特征在于:所述第一膠粘層(5)、第二膠粘層(6 )和第三膠粘層(7 )均為丙烯酸酯類膠粘層。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,其特征在于:所述凸點(diǎn)(9)的平均高度為3.8微米?10微米。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜,包括PET絕緣層、金屬層、吸波層和離型材料層;PET絕緣層與金屬層之間設(shè)置有第一膠粘層,所述金屬層與吸波層之間設(shè)置有第二膠粘層,所述吸波層與離型材料層之間設(shè)置有第三膠粘層,所述金屬層與吸波層接觸的表面設(shè)置有若干個(gè)平行排列的棱鏡凸起部;所述第三膠粘層與離型材料層接觸的表面具有若干個(gè)凸點(diǎn)。本實(shí)用新型用于電子產(chǎn)品的屏蔽膜提高了屏蔽膜的吸波性能,有利于貼合時(shí)氣體的排出,從而避免了氣泡的產(chǎn)生。
      【IPC分類】H05K9-00
      【公開號(hào)】CN204442904
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420501106
      【發(fā)明人】金闖, 梁豪
      【申請(qǐng)人】斯迪克新型材料(江蘇)有限公司
      【公開日】2015年7月1日
      【申請(qǐng)日】2014年9月1日
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