一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實用新型涉及一種陶瓷基板的清潔機。
【背景技術(shù)】
[0002]陶瓷基板用于電路板中，在用劃線機生產(chǎn)陶瓷基板的過程中，陶瓷基板在被切割后，陶瓷基板的火山口存在著突出部分，部分火山口高度偏大，在印刷制程中會造成部分產(chǎn)品印刷油墨重量超標(biāo)，從而對產(chǎn)品阻值產(chǎn)生影響。油墨超標(biāo)還會使電極變厚，排條制程中造成剝條不順。
[0003]專利文獻CN204497200U公開了一種集成電路基板的清潔機臺，包括機臺主體、裝載端口、清洗腔、供液及動力系統(tǒng)，在清洗腔內(nèi)設(shè)置有基板載盤、噴頭和擦除器，基板載盤承載并帶動基板旋轉(zhuǎn)，噴頭噴射氣體和/或液體，擦除器包括驅(qū)動端、擺臂和擦頭，該擺臂以驅(qū)動端為中心擺動，擺臂平行于基板載盤，擦頭設(shè)置在擺臂上，擦頭隨著擺臂運動的過程中接觸基板的表面并產(chǎn)生機械力以清潔基板。該清潔機臺只有清潔作用，不能對陶瓷基板的火山口進行研磨調(diào)整。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型目的在于提供一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，對陶瓷基板的火山口高度進行研磨清潔，管控火山口高度。
[0005]為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實用新型提供一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，包括供料系統(tǒng)、研磨清潔系統(tǒng)，所述研磨清潔系統(tǒng)包括圓盤、支架、毛刷、電動機，所述圓盤上設(shè)有四個定位裝置，所述圓盤的下方設(shè)有伺服電機，所述圓盤靠近定位裝置處設(shè)有收送料裝置，所述收送料裝置包括收料吸著手和放料吸著手，所述收料吸著手的上端設(shè)有收料機械手，所述毛刷位于所述支架上，所述毛刷與所述支架之間設(shè)有調(diào)整手輪，所述毛刷與所述電動機連接。圓盤轉(zhuǎn)動時，毛刷會對陶瓷基板的火山口進行清潔，并利用摩擦力對火山口進行研磨。
[0006]優(yōu)選地，所述調(diào)整手輪與所述毛刷之間設(shè)有調(diào)節(jié)百分表。
[0007]優(yōu)選地，所述定位裝置的一側(cè)設(shè)有吹氣除塵裝置。
[0008]優(yōu)選地，所述毛刷的上方設(shè)有抽風(fēng)罩。
[0009]優(yōu)選地，四個定位裝置平均分布于所述圓盤的邊緣。
[0010]優(yōu)選地，所述供料系統(tǒng)包括供料馬達、軌道、倉夾座，所述倉夾座位于所述軌道上并通過絲桿與所述供料馬達連接，所述倉夾座上方設(shè)有倉夾，所述倉夾的頂端設(shè)有感應(yīng)光纖，所述倉夾的頂端靠近所述收料機械手。
[0011 ]優(yōu)選地，所述定位裝置包括表層定位層、中心定位層和通真空平臺層，所述通真空平臺層上設(shè)有四根定位柱和“十”字形的真空流道，所述中心定位層設(shè)有四個定位孔，所述定位柱穿過所述定位孔，所述通真空平臺層通過螺絲固定在所述圓盤上，所述表層定位層位于所述中心定位層的表面。四根定位柱、定位孔間距一樣，方便調(diào)整進料方向，真空流道可通往所有真空口。
[0012]如上所述，本實用新型提供的一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，具有以下有益效果:采用本實用新型的清潔機對陶瓷基板的火山口進行研磨，研磨后的陶瓷基板平整，并且能使陶瓷基板在后道工序印刷制程中油墨超標(biāo)現(xiàn)象明顯降低，經(jīng)過實驗數(shù)據(jù)表明，研磨過火山口的陶瓷基板的堆棧收成率由原來的95%提升到99.9%。
【附圖說明】
[0013]圖1為陶瓷基板的火山口研磨清潔機的研磨清潔系統(tǒng)示意圖。
[0014]圖2為陶瓷基板的火山口研磨清潔機的供料系統(tǒng)示意圖。
[0015]圖3為陶瓷基板的火山口研磨清潔機的定位裝置的爆炸圖。
【具體實施方式】
[0016]以下由特定的具體實施例說明本實用新型的實施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點及功效。
[0017]請參閱圖1至圖3。須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本實用新型可實施的限定條件，故不具技術(shù)上的實質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達成的目的下，均應(yīng)仍落在本實用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實用新型可實施的范圍，其相對關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本實用新型可實施的范疇。
[0018]如圖1至圖3所示，本實用新型提供一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，包括供料系統(tǒng)、研磨清潔系統(tǒng)，所述研磨清潔系統(tǒng)包括圓盤1、支架、毛刷3、電動機7，所述圓盤I上設(shè)有四個定位裝置2，所述圓盤I的下方設(shè)有伺服電機，所述圓盤I靠近定位裝置2處設(shè)有收送料裝置8，所述收送料裝置8包括收料吸著手81和放料吸著手81，所述收料吸著手81的上端設(shè)有收料機械手，所述毛刷3位于所述支架上，所述毛刷3與所述支架之間設(shè)有調(diào)整手輪5，所述毛刷3與所述電動機7連接。圓盤I轉(zhuǎn)動時，毛刷3會對陶瓷基板的火山口進行清潔，并利用摩擦力對火山口進行研磨。
[0019]在本實施例，所述調(diào)整手輪5與所述毛刷3之間設(shè)有調(diào)節(jié)百分表6。
[0020]在本實施例，所述定位裝置2的一側(cè)設(shè)有吹氣除塵裝置9。
[0021]在本實施例，所述毛刷3的上方設(shè)有抽風(fēng)罩7。
[0022]在本實施例，四個定位裝置2平均分布于所述圓盤I的邊緣。
[0023]在本實施例，所述供料系統(tǒng)包括供料馬達10、軌道11、倉夾座13，所述倉夾座13位于所述軌道11上并通過絲桿12與所述供料馬達10連接，所述倉夾座13上方設(shè)有倉夾14，所述倉夾14的頂端設(shè)有感應(yīng)光纖15，所述倉夾14的頂端靠近所述收料機械手。
[0024]在本實施例，所述定位裝置2包括表層定位層21、中心定位層22和通真空平臺層23，所述通真空平臺層23上設(shè)有四根定位柱25和“十”字形的真空流道26，所述中心定位層22設(shè)有四個定位孔24，所述定位柱25穿過所述定位孔24，所述通真空平臺層23通過螺絲固定在所述圓盤I上，所述表層定位層21位于所述中心定位層22的表面。四根定位柱25、定位孔24間距一樣，方便調(diào)整進料方向，真空流道26可通往所有真空口。
[0025]綜上所述，本實用新型提供一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，采用本實用新型的清潔機對陶瓷基板的火山口進行研磨，研磨后的陶瓷基板平整，并且能使陶瓷基板在后道工序印刷制程中油墨超標(biāo)現(xiàn)象明顯降低，經(jīng)過實驗數(shù)據(jù)表明，研磨過火山口的陶瓷基板的堆棧收成率由原來的95%提升到99.9%。所以，本實用新型有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。
[0026]上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【主權(quán)項】
1.一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，其特征在于:包括供料系統(tǒng)、研磨清潔系統(tǒng)，所述研磨清潔系統(tǒng)包括圓盤、支架、毛刷、電動機，所述圓盤上設(shè)有四個定位裝置，所述圓盤的下方設(shè)有伺服電機，所述圓盤靠近定位裝置處設(shè)有收送料裝置，所述收送料裝置包括收料吸著手和放料吸著手，所述收料吸著手的上端設(shè)有收料機械手，所述毛刷位于所述支架上，所述毛刷與所述支架之間設(shè)有調(diào)整手輪，所述毛刷與所述電動機連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，其特征在于:所述調(diào)整手輪與所述毛刷之間設(shè)有調(diào)節(jié)百分表。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，其特征在于:所述定位裝置的一側(cè)設(shè)有吹氣除塵裝置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，其特征在于:所述毛刷的上方設(shè)有抽風(fēng)罩。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，其特征在于:四個定位裝置平均分布于所述圓盤的邊緣。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任意一權(quán)利要求所述的一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，其特征在于:所述供料系統(tǒng)包括供料馬達、軌道、倉夾座，所述倉夾座位于所述軌道上并通過絲桿與所述供料馬達連接，所述倉夾座上方設(shè)有倉夾，所述倉夾的頂端設(shè)有感應(yīng)光纖，所述倉夾的頂端靠近所述收料機械手。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，其特征在于:所述定位裝置包括表層定位層、中心定位層和通真空平臺層，所述通真空平臺層上設(shè)有四根定位柱和“十”字形的真空流道，所述中心定位層設(shè)有四個定位孔，所述定位柱穿過所述定位孔，所述通真空平臺層通過螺絲固定在所述圓盤上，所述表層定位層位于所述中心定位層的表面。
【專利摘要】本實用新型提供一種陶瓷基板的火山口研磨清潔機，包括供料系統(tǒng)、研磨清潔系統(tǒng)，所述研磨清潔系統(tǒng)包括圓盤、支架、毛刷、電動機，所述圓盤上設(shè)有四個定位裝置，所述圓盤的下方設(shè)有伺服電機，所述圓盤靠近定位裝置處設(shè)有收送料裝置，所述收送料裝置包括收料吸著手和放料吸著手，所述收料吸著手的上端設(shè)有收料機械手，所述毛刷位于所述支架上，所述毛刷與所述支架之間設(shè)有調(diào)整手輪，所述毛刷與所述電動機連接。采用本實用新型的清潔機對陶瓷基板的火山口進行研磨，研磨后的陶瓷基板平整，并且能使陶瓷基板在后道工序印刷制程中油墨超標(biāo)現(xiàn)象明顯降低，經(jīng)過實驗數(shù)據(jù)表明，研磨過火山口的陶瓷基板的堆棧收成率由原來的95%提升到99.9%。
【IPC分類】H05K3/00
【公開號】CN205378361
【申請?zhí)枴緾N201521123027
【發(fā)明人】邵群峰
【申請人】旺詮科技(昆山)有限公司
【公開日】2016年7月6日
【申請日】2015年12月31日