一種屏蔽罩及電子設(shè)備的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及電子技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種屏蔽罩及電子設(shè)備。該屏蔽罩包括：頂蓋和若干個(gè)罩壁；罩壁沿頂蓋的邊緣延伸；任意兩個(gè)相鄰的罩壁的接縫處存在缺口，屏蔽罩還包括與缺口一一對(duì)應(yīng)并用于封閉缺口的延伸部；延伸部由相鄰兩個(gè)罩壁中的任意一個(gè)罩壁延伸形成。該電子設(shè)備包括如上所述的屏蔽罩。本實(shí)用新型實(shí)施方式相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，通過(guò)延伸罩壁形成用于封閉缺口的延伸部，提高了屏蔽罩的屏蔽作用，有利于減少微波對(duì)RF信號(hào)的干擾。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
_種屏蔽罩及電子設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及電子技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種屏蔽罩及電子設(shè)備?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]屏蔽罩，廣泛應(yīng)用于手機(jī)、全球定位系統(tǒng)(GPS)等電子設(shè)備中，是防止電磁干擾 (EMI)的重要物件。通常情況下，如圖1所示，屏蔽罩包括頂蓋1及若干個(gè)罩壁2，罩壁2設(shè)置在頂蓋1的邊緣，并與頂蓋1 一起形成用于容納器件的收容空間。但現(xiàn)有的屏蔽罩在設(shè)計(jì)上，常常會(huì)在相鄰罩壁2的接縫上留有缺口 3,缺口 3的存在會(huì)減弱屏蔽罩的屏蔽作用，使得微波干擾RF(射頻)信號(hào)，從而影響RF信號(hào)的正常通信。【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型目的在于提供一種屏蔽罩及電子設(shè)備，使得屏蔽罩的屏蔽作用得以提高，減少微波對(duì)RF信號(hào)的干擾。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的實(shí)施方式提供了一種屏蔽罩。該屏蔽罩包括: 頂蓋和若干個(gè)罩壁;罩壁沿頂蓋的邊緣延伸;任意兩個(gè)相鄰的罩壁的接縫處存在缺口，屏蔽罩還包括與缺口一一對(duì)應(yīng)并用于封閉缺口的延伸部;延伸部由相鄰兩個(gè)罩壁中的任意一個(gè)罩壁延伸形成。
[0005]本實(shí)用新型實(shí)施方式還提供了一種電子設(shè)備。該電子設(shè)備包括如上所述的屏蔽罩。
[0006]本實(shí)用新型實(shí)施方式相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，通過(guò)延伸罩壁形成用于封閉缺口的延伸部，提高了屏蔽罩的屏蔽作用，有利于減少微波對(duì)RF信號(hào)的干擾。
[0007]進(jìn)一步地，相鄰的兩個(gè)延伸部由同一罩壁延伸形成。
[0008]進(jìn)一步地，延伸部的高度小于或等于側(cè)壁的高度，有利于提高材料的利用率。
[0009]進(jìn)一步地，延伸部的高度為1毫米。[〇〇1〇]進(jìn)一步地，延伸部的長(zhǎng)度為1毫米。
[0011] 進(jìn)一步地，頂蓋、罩壁和延伸部一體成型。[0〇12]進(jìn)一步地，電子設(shè)備為手機(jī)?！靖綀D說(shuō)明】
[0013]圖1是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的屏蔽罩的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型第一實(shí)施方式的屏蔽罩的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3是根據(jù)本實(shí)用新型第一實(shí)施方式的屏蔽罩為不規(guī)則的多邊形的結(jié)構(gòu)示意圖。【具體實(shí)施方式】
[0016]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的各實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)的闡述。然而，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，在本實(shí)用新型各實(shí)施方式中，為了使讀者更好地理解本申請(qǐng)而提出了許多技術(shù)細(xì)節(jié)。但是，即使沒(méi)有這些技術(shù)細(xì)節(jié)和基于以下各實(shí)施方式的種種變化和修改，也可以實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)各權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案。
[0017]本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式涉及一種屏蔽罩。該屏蔽罩包括:頂蓋和若干個(gè)罩壁； 罩壁沿頂蓋的邊緣延伸;任意兩個(gè)相鄰的罩壁的接縫處存在缺口，屏蔽罩還包括與缺口一一對(duì)應(yīng)并用于封閉缺口的延伸部;延伸部由相鄰兩個(gè)罩壁中的任意一個(gè)罩壁延伸形成。
[0018]本實(shí)施方式將以屏蔽罩包括4個(gè)罩壁為例進(jìn)行說(shuō)明，但在實(shí)際應(yīng)用中并不應(yīng)以此為限，也可根據(jù)屏蔽罩所罩物件的形狀或者周?chē)臄[件靈活設(shè)計(jì)屏蔽罩的形狀，如六邊形 (有6個(gè)罩壁)，或不規(guī)則的多邊形(可參見(jiàn)圖3)對(duì)此，本實(shí)施方式不再贅述。
[0019]如圖1所示，在本實(shí)施方式中，該屏蔽罩包括頂蓋1及4個(gè)罩壁2,罩壁2沿頂蓋1的邊緣延伸(一般來(lái)說(shuō)，罩壁與頂蓋相互垂直)，并與頂蓋1 一起形成用于容納器件的收容空間。 相鄰兩個(gè)罩壁2的接縫處存在缺口 3，該缺口 3的存在會(huì)減弱屏蔽罩的屏蔽效果，使得微波干擾RF(射頻)信號(hào)，為此，本實(shí)施方式在屏蔽罩上設(shè)置了與缺口 3—一對(duì)應(yīng)并用于封閉缺口 3 的延伸部4,該延伸部4由相鄰兩個(gè)罩壁2中的任意一個(gè)罩壁2延伸形成(如圖2、圖3所示)。
[0020]在本實(shí)施方式中，頂蓋1、罩壁2與延伸部4一體成型，延伸部4的高度H1—般可設(shè)計(jì)在1毫米左右，但在實(shí)際應(yīng)用中，延伸部4的高度H1在設(shè)計(jì)上考慮罩壁2的高度H2,若延伸部4 的高度H1大于罩壁2的高度H2，則會(huì)影響材料利用率，因此，在實(shí)際設(shè)計(jì)上，延伸部4的高度 H1應(yīng)小于或等于罩壁2的高度H2。延伸部4的長(zhǎng)度L1可設(shè)計(jì)在1毫米左右，延伸部4過(guò)長(zhǎng)則會(huì)增加屏蔽罩的厚度，增大屏蔽罩的擺件面積，從而影響整機(jī)的空間利用率。
[0021]另外，值得一提的是，本實(shí)施方式中相鄰的兩個(gè)延伸部4可優(yōu)選由同一罩壁延伸形成，這種做法可優(yōu)化沖模，簡(jiǎn)化沖模結(jié)構(gòu)。
[0022]不難發(fā)現(xiàn)，本實(shí)用新型實(shí)施方式相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，通過(guò)延伸罩壁形成用于封閉缺口的延伸部，提高了屏蔽罩的屏蔽作用，有利于減少微波對(duì)RF信號(hào)的干擾。
[0023]本實(shí)用新型第二實(shí)施方式涉及一種電子設(shè)備。該電子設(shè)備(如手機(jī)、平板電腦、GPS 等)包括如第一實(shí)施方式所述的屏蔽罩。
[0024]本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，上述各實(shí)施方式是實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，而在實(shí)際應(yīng)用中，可以在形式上和細(xì)節(jié)上對(duì)其作各種改變，而不偏離本實(shí)用新型的精神和范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種屏蔽罩，包括:頂蓋和若干個(gè)罩壁;所述罩壁沿所述頂蓋的邊緣延伸；任意兩個(gè) 相鄰的罩壁的接縫處存在缺口，其特征在于，所述屏蔽罩還包括與所述缺口一一對(duì)應(yīng)并用于封閉所述缺口的延伸部；所述延伸部由相鄰兩個(gè)罩壁中的任意一個(gè)罩壁延伸形成。2.如權(quán)利要求1所述的屏蔽罩，其特征在于，相鄰的兩個(gè)延伸部由同一罩壁延伸形成。3.如權(quán)利要求1所述的屏蔽罩，其特征在于，所述延伸部的高度小于或等于側(cè)壁的高度。4.如權(quán)利要求3所述的屏蔽罩，其特征在于，所述延伸部的高度為1毫米。5.如權(quán)利要求1所述的屏蔽罩，其特征在于，所述延伸部的長(zhǎng)度為1毫米。6.如權(quán)利要求1所述的屏蔽罩，其特征在于，所述頂蓋、罩壁和延伸部一體成型。7.—種電子設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的屏蔽罩。8.如權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備為手機(jī)。
【文檔編號(hào)】H05K9/00GK205623061SQ201620228882
【公開(kāi)日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2016年3月23日
【發(fā)明人】周保國(guó)
【申請(qǐng)人】上海與德通訊技術(shù)有限公司