專(zhuān)利名稱(chēng):微型揚(yáng)聲器的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種微型揚(yáng)聲器，包括磁路系統(tǒng)和振動(dòng)系統(tǒng)，磁路系統(tǒng)包括盆架、磁鐵和華司；振動(dòng)系統(tǒng)包括音圈和振膜；音圈包括音圈引線；盆架包括基部和沿垂直方向突出的側(cè)部，盆架基部對(duì)應(yīng)音圈的位置設(shè)置有凹槽；音圈和盆架的基部為矩形結(jié)構(gòu)；音圈出線端的引線位于音圈的短軸；盆架基部短軸的凹槽深度大于長(zhǎng)軸凹槽的深度；凹槽上方具有端線距離大于音圈底部水平長(zhǎng)度的開(kāi)口部，將音圈在垂直方向的投影完全覆蓋。本實(shí)用新型的微型揚(yáng)聲器，通過(guò)設(shè)置凹槽結(jié)構(gòu)，既可以擴(kuò)大揚(yáng)聲器內(nèi)音圈的振動(dòng)空間，避免因其與盆架底部發(fā)生碰撞而斷線，又不會(huì)對(duì)磁路系統(tǒng)的靈敏度造成較大的影響，從而優(yōu)化揚(yáng)聲器的性能。
【專(zhuān)利說(shuō)明】微型揚(yáng)聲器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電聲領(lǐng)域，具體的涉及一種微型揚(yáng)聲器。

【背景技術(shù)】
[0002]微型揚(yáng)聲器的振動(dòng)系統(tǒng)，主要依靠音圈發(fā)生位移偏轉(zhuǎn)的情況下，通過(guò)其兩個(gè)端線(即音圈引線)帶動(dòng)與之相連接的振膜的振動(dòng)從而實(shí)現(xiàn)發(fā)聲的目的。
[0003]在當(dāng)前微型揚(yáng)聲器領(lǐng)域，針對(duì)此部分的設(shè)計(jì)通常是音圈引線位于音圈與振膜粘結(jié)固定的對(duì)側(cè)。在此種設(shè)計(jì)中，對(duì)于音圈的出線端而言，順線可以直接從出線端進(jìn)行操作，使得出線端音圈順線后與音圈底部能夠處于同一高度。但是，對(duì)于音圈的入線端而言，由于需要橫跨音圈的寬度之后再進(jìn)行順線的操作，使得入線端相對(duì)于音圈底部而言更靠近于盆架的底部。因此，在這種情形下，當(dāng)音圈發(fā)生比較大的位移振動(dòng)時(shí)，其入線端會(huì)很容易觸碰到盆架的底部，最終造成入線端斷線，導(dǎo)致微型揚(yáng)聲器無(wú)法正常使用。
[0004]因此，有必要對(duì)現(xiàn)有的微型揚(yáng)聲器的盆架結(jié)構(gòu)，特別是盆架底部的構(gòu)造進(jìn)行改進(jìn)，以避免上述缺陷給振動(dòng)系統(tǒng)帶來(lái)的損壞，保證微型揚(yáng)聲器的質(zhì)量和性能。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種微型揚(yáng)聲器，在組成部分整體保持不變的情況下，著重對(duì)盆架底部的結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)，在盆架底部對(duì)應(yīng)音圈的位置設(shè)置凹槽，并且保證盆架基部短軸的凹槽相較于長(zhǎng)軸的凹槽更深，避免音圈入線端與盆架底部發(fā)生碰撞，防止斷線的發(fā)生。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:一種微型揚(yáng)聲器，包括磁路系統(tǒng)和振動(dòng)系統(tǒng)；所述磁路系統(tǒng)包括盆架、置于所述盆架收容空間之內(nèi)的磁鐵和覆蓋于所述磁鐵表面的華司；所述振動(dòng)系統(tǒng)包括音圈和與音圈粘結(jié)固定的振膜；所述音圈包括音圈引線；所述盆架包括基部和沿垂直方向突出的側(cè)部，其中，所述盆架基部對(duì)應(yīng)音圈的位置設(shè)置有凹槽；所述音圈和所述盆架的基部為矩形結(jié)構(gòu)；所述音圈出線端的引線位于所述音圈的短軸；所述盆架基部短軸的凹槽深度大于長(zhǎng)軸凹槽的深度；所述凹槽上方具有端線距離大于所述音圈底部水平長(zhǎng)度的開(kāi)口部，將所述音圈在垂直方向的投影完全覆蓋。
[0007]作為一種改進(jìn)，所述盆架基部緊鄰側(cè)部部分的端面對(duì)稱(chēng)設(shè)置有朝向所述音圈的向下的凹面；所述盆架基部的凹面底端沿水平方向自然延伸，與所述盆架側(cè)部的內(nèi)表面形成凹槽。
[0008]作為一種改進(jìn)，所述凹槽的橫截面呈倒直角梯形。
[0009]作為一種改進(jìn)，所述引線是所述音圈的兩個(gè)端部，其入線端相對(duì)于所述音圈底部更靠近所述盆架的底部。
[0010]作為一種改進(jìn)，所述盆架基部短軸的凹槽深度為0.lmm-0.3mm，長(zhǎng)軸的凹槽深度為0.02mm-0.1mnin
[0011]優(yōu)選的，所述盆架基部短軸的凹槽深度為0.2mm，長(zhǎng)軸的凹槽深度為0.05mm。
[0012]作為一種改進(jìn)，所述盆架的凹槽結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)適用于單磁路結(jié)構(gòu)的微型揚(yáng)聲器。
[0013]作為一種改進(jìn)，所述微型揚(yáng)聲器通過(guò)仿真磁感應(yīng)強(qiáng)度變化幅度小于10%。
[0014]優(yōu)選的，所述微型揚(yáng)聲器通過(guò)仿真磁感應(yīng)強(qiáng)度變化幅度為2%。
[0015]相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型中，在盆架基部設(shè)置長(zhǎng)軸較淺、短軸較深的凹槽，對(duì)于單磁路結(jié)構(gòu)的微型揚(yáng)聲器而言，一方面可以減小磁飽和，盡量降低凹槽的設(shè)置對(duì)靈敏度的不良影響，另一方面可以擴(kuò)大音圈入線端的振動(dòng)空間，避免與盆架基部的觸碰和摩擦，防止因此而造成斷線，保證微型揚(yáng)聲器振動(dòng)系統(tǒng)的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

【附圖說(shuō)明】

[0016]圖1為傳統(tǒng)微型揚(yáng)聲器結(jié)構(gòu)的立體圖；
[0017]圖2為本實(shí)用新型涉及的微型揚(yáng)聲器盆架結(jié)構(gòu)的鋪展示意圖；
[0018]圖3為本實(shí)用新型涉及的微型揚(yáng)聲器結(jié)構(gòu)的主視圖；
[0019]圖4為本實(shí)用新型涉及的微型揚(yáng)聲器磁路結(jié)構(gòu)的主視圖；
[0020]圖5為本實(shí)用新型涉及的盆架短軸凹槽結(jié)構(gòu)的立體圖；
[0021]圖6為本實(shí)用新型涉及的盆架長(zhǎng)軸凹槽結(jié)構(gòu)的立體圖。

【具體實(shí)施方式】
[0022]下面結(jié)合附圖，詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型內(nèi)容:
[0023]實(shí)施例:
[0024]請(qǐng)參閱圖2-圖3所示，本實(shí)用新型微型揚(yáng)聲器包括磁路系統(tǒng)和振動(dòng)系統(tǒng)；磁路系統(tǒng)包括盆架1、置于盆架I收容空間之內(nèi)的磁鐵2和覆蓋于磁鐵2表面的華司3 ;振動(dòng)系統(tǒng)包括音圈4和與音圈粘結(jié)固定的振膜(未圖示)；音圈4包括音圈引線5 ;盆架I包括基部和沿垂直方向突出的側(cè)部，其中，盆架I基部對(duì)應(yīng)音圈4的位置設(shè)置有凹槽6 ;音圈4和盆架I的基部均為矩形結(jié)構(gòu)；音圈4出線端的引線位于音圈4的短軸；盆架I基部短軸的凹槽深度大于長(zhǎng)軸凹槽的深度；凹槽6上方具有端線距離大于音圈4底部水平長(zhǎng)度的開(kāi)口部，將音圈4在垂直方向的投影完全覆蓋。
[0025]對(duì)于單磁路結(jié)構(gòu)的微型揚(yáng)聲器而言，通過(guò)上述技術(shù)方案，在盆架I的底部設(shè)置凹槽6，更有利于彎折部的成型，保證其垂直度；另外，本實(shí)用新型中，盆架I基部的短軸凹槽較深而長(zhǎng)軸凹槽較淺，由于磁路結(jié)構(gòu)的磁力線大部分通過(guò)盆架I的長(zhǎng)軸回到磁鐵2內(nèi)部，保證長(zhǎng)軸較淺的凹槽，可以減小磁飽和，從而降低凹槽6的添加對(duì)于磁路系統(tǒng)靈敏度的不良影響；再者，由于短軸凹槽較深，在音圈4發(fā)生較大位移振動(dòng)時(shí)，即使音圈4在長(zhǎng)軸方向觸碰到盆架I的底部，音圈4的入線端也不會(huì)與盆架I的底部發(fā)生碰撞，從而避免斷線情況的發(fā)生，保證微型揚(yáng)聲器振動(dòng)系統(tǒng)的良好運(yùn)轉(zhuǎn)，確保微型揚(yáng)聲器的性能。
[0026]本實(shí)施過(guò)程中，盆架I基部緊鄰側(cè)部部分的端面對(duì)稱(chēng)設(shè)置有朝向音圈4的向下的凹面；盆架I基部的凹面底端沿水平方向自然延伸，與盆架I側(cè)部的內(nèi)表面形成凹槽6。
[0027]本實(shí)施過(guò)程中，凹槽6的橫截面呈倒直角梯形。
[0028]本實(shí)施過(guò)程中，引線5是音圈4的兩個(gè)端部，其入線端相對(duì)于音圈4底部更靠近盆架I的底部。
[0029]參閱圖5和圖6，本實(shí)施過(guò)程中，盆架I基部短軸的凹槽深度為0.lmm-0.3mm，長(zhǎng)軸的凹槽深度為0.02mm-0.1mm。
[0030]如圖5中所示，盆架I基部短軸的凹槽深度(即AA’之間的距離)為0.2mm ;如圖6所示，長(zhǎng)軸的凹槽深度(即BB’之間的距離)為0.05mm。
[0031]本實(shí)施過(guò)程中，盆架I的凹槽6結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)適用于單磁路結(jié)構(gòu)的微型揚(yáng)聲器。
[0032]本實(shí)施過(guò)程中，微型揚(yáng)聲器通過(guò)仿真磁感應(yīng)強(qiáng)度變化幅度小于10%。
[0033]優(yōu)選的方案是，微型揚(yáng)聲器通過(guò)仿真磁感應(yīng)強(qiáng)度變化幅度為2%。
[0034]以上僅為本實(shí)用新型實(shí)施案例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，但凡本領(lǐng)域普通技術(shù)人員根據(jù)本實(shí)用新型所揭示內(nèi)容所作的等效修飾或變化，皆應(yīng)納入權(quán)利要求書(shū)中記載的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種微型揚(yáng)聲器，包括磁路系統(tǒng)和振動(dòng)系統(tǒng)；所述磁路系統(tǒng)包括盆架、置于所述盆架收容空間之內(nèi)的磁鐵和覆蓋于所述磁鐵表面的華司；所述振動(dòng)系統(tǒng)包括音圈和與音圈粘結(jié)固定的振膜；所述音圈包括音圈引線；所述盆架包括基部和沿垂直方向突出的側(cè)部，其特征在于:所述盆架基部對(duì)應(yīng)音圈的位置設(shè)置有凹槽；所述音圈和所述盆架的基部為矩形結(jié)構(gòu)；所述音圈出線端的引線位于所述音圈的短軸；所述盆架基部短軸的凹槽深度大于長(zhǎng)軸凹槽的深度；所述凹槽上方具有端線距離大于所述音圈底部水平長(zhǎng)度的開(kāi)口部，將所述音圈在垂直方向的投影完全覆蓋。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述盆架基部緊鄰側(cè)部部分的端面對(duì)稱(chēng)設(shè)置有朝向所述音圈的向下的凹面；所述盆架基部的凹面底端沿水平方向自然延伸，與所述盆架側(cè)部的內(nèi)表面形成凹槽。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述凹槽的橫截面呈倒直角梯形。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述引線是所述音圈的兩個(gè)端部，其入線端相對(duì)于所述音圈底部更靠近所述盆架的底部。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述盆架基部短軸的凹槽深度為0.lmm-0.3mm，長(zhǎng)軸的凹槽深度為 0.02mm-0.1mm。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述盆架基部短軸的凹槽深度為0.2mm，長(zhǎng)軸的凹槽深度為0.05mm。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述盆架的凹槽結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)適用于單磁路結(jié)構(gòu)的微型揚(yáng)聲器。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述微型揚(yáng)聲器通過(guò)仿真磁感應(yīng)強(qiáng)度變化幅度小于10%。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于:所述微型揚(yáng)聲器通過(guò)仿真磁感應(yīng)強(qiáng)度變化幅度為2%。
【文檔編號(hào)】H04R9-06GK204291363SQ201420742973
【發(fā)明者】邵明輝, 楊健斌 [申請(qǐng)人]歌爾聲學(xué)股份有限公司