專利名稱：傳輸屏幕的屏幕件及其制造方法、傳輸屏幕以及后投影的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法、用于傳輸屏幕的屏幕件、傳輸屏幕以及后投影。
背景技術(shù)：
最近幾年，對(duì)后投影作為用于家庭影院、大屏幕電視等的監(jiān)視器的適合顯示器的需求逐漸增大。
在用于后投影的傳輸屏幕中，通常使用雙凸透鏡基片。然而，此種類型屏幕的問(wèn)題在于，雖然其橫向視角較大，但其垂直視角較小(即，具有視角偏向)。
為了解決此問(wèn)題，已經(jīng)提出了一種傳輸屏幕，其利用顯微透鏡陣列板(顯微透鏡基片)代替雙凸透鏡基片，并包括設(shè)置在顯微透鏡陣列板的發(fā)射面?zhèn)让娴暮谏仃囈约霸O(shè)置在發(fā)射面?zhèn)让?參見(jiàn)例如，日本的公開專利申請(qǐng)?zhí)朜o2003-177476)處顯微透鏡陣列板整個(gè)面積上的光線漫射層。在此傳輸屏幕中，其水平視角和垂直視角通過(guò)設(shè)置在矩陣中的顯微透鏡進(jìn)行控制，且入射光線通過(guò)光線漫射層漫射。這樣可以增大傳輸屏幕的視角。
然而，在此傳輸屏幕中，由于進(jìn)入光線漫射層的光線(光子)與漫射介質(zhì)頻繁碰撞，進(jìn)入光線漫射層的光線(光子)通過(guò)光線漫射層反射并很容易返回到其背面?zhèn)?即，入射面?zhèn)?。此外，由于與漫射介質(zhì)等碰撞增大，這就構(gòu)成消光度。因此，具有的問(wèn)題在于，傳輸屏幕的光線使用效率降低。此外，在此傳輸屏幕中，即使在光線漫射層設(shè)置在黑色矩陣(在黑色矩陣的光線發(fā)射面)上的部分，也出現(xiàn)高頻率的光線漫射。因此，盡管存在黑色矩陣，但在顯示的圖像中仍有不能獲得充分對(duì)比度的情況。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一在于提供一種具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的傳輸屏幕。
此外，本發(fā)明的另一目的在于提供一種制造用于容易和可靠地構(gòu)成上述傳輸屏幕的傳輸屏幕的屏幕件的方法。
此外，本發(fā)明的另一目的在于提供一種具有上述傳輸屏幕的后投影屏幕。
為了達(dá)到上述目的，在本發(fā)明的一個(gè)方面，本發(fā)明提供一種制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法，所述方法包括步驟制備具有光線入射面和相對(duì)光線入射面的光線發(fā)射面的透鏡基片，透鏡基片的光線入射面形成有多個(gè)用于聚集入射光線的透鏡部分；由透鏡基片的光線發(fā)射面上的第一層形成光線遮蔽層，以便在通過(guò)透鏡基片的透鏡部分傳遞光線的光線路徑上，光線遮蔽層具有多個(gè)開口；以及形成用于漫射已通過(guò)透鏡基片的每個(gè)透鏡部分傳遞的光線的多個(gè)光線漫射部分；其中光線漫射部分形成步驟包括通過(guò)施加包括負(fù)光敏聚合物的材料到光線遮蔽層以在光線遮蔽層上形成第二層；通過(guò)使光線從透鏡基片的光線入射面進(jìn)入透鏡基片以曝光第二層，以便通過(guò)每個(gè)透鏡部分聚集光線，然后通過(guò)聚集的光線照射第二層；以及顯影第二層，以便已通過(guò)聚集的光線曝光的第二層的部分保持原樣不變。
這樣可以通過(guò)本發(fā)明的方法，利用用于傳輸屏幕的屏幕件提供容易和可靠地具有優(yōu)良視角特性以及光線使用效率的傳輸屏幕。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選光線遮蔽層形成步驟包括通過(guò)將包括正光敏聚合物的材料施加到透鏡基片的光線發(fā)射面，在透鏡基片的光線發(fā)射面上形成第一層；通過(guò)使光線從透鏡基片的光線入射面進(jìn)入透鏡基片曝光第一層，以便通過(guò)每個(gè)透鏡部分聚集光線，然后通過(guò)聚集的光線照射第一層；以及顯影第一層，以便去除已通過(guò)聚集的光線曝光的第一層的部分，從而形成多個(gè)開口。
這樣可以通過(guò)本發(fā)明方法制造的利用用于傳輸屏幕的屏幕件，容易和可靠地提供具有優(yōu)良視角特性以及光線使用效率的傳輸屏幕。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選透鏡基片的每個(gè)透鏡部分都設(shè)計(jì)成以便進(jìn)入每個(gè)透鏡部分的光線都聚焦在超出光線遮蔽層的透鏡基片的光線發(fā)射面的側(cè)面上。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的光線使用效率。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選每個(gè)光線漫射部分都形成為凸出部分，所述凸出部分從位于對(duì)應(yīng)光線遮蔽層開口位置處的光線遮蔽層的表面凸出。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的光線使用效率。此外，還可以通過(guò)傳輸屏幕顯著改進(jìn)投影圖像的對(duì)比度。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選當(dāng)從透鏡基片的光線入射面的頂部觀看時(shí)，由凸出部分所占的總面積與透鏡部分所占的總面積之比在5到99％的范圍內(nèi)。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的光線使用效率。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選呈凸出形式的多個(gè)光線漫射部分彼此獨(dú)立地形成。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的光線使用效率。此外，還可以通過(guò)傳輸屏幕顯著改進(jìn)投影圖像的對(duì)比度。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選當(dāng)從透鏡基片的光線入射面的頂部觀看時(shí)，光線漫射部分所占的總面積與透鏡部分所占的總面積之比在5到99％的范圍內(nèi)。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的視角特性和光線使用效率。此外，還可以通過(guò)傳輸屏幕顯著改進(jìn)投影圖像的對(duì)比度。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選用于傳輸屏幕的屏幕件具有主表面，而在垂直于用于傳輸屏幕的屏幕件的主表面方向，每個(gè)光線漫射部分長(zhǎng)度為2到450μm。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的光線使用效率。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選用于傳輸屏幕的屏幕件具有主表面，而每個(gè)透鏡部分的焦點(diǎn)在垂直于用于傳輸屏幕的屏幕件的主表面方向基本位于對(duì)應(yīng)的光線漫射部分的中心部分。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的光線使用效率。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選透鏡基片采用設(shè)置有對(duì)應(yīng)透鏡基片的多個(gè)透鏡部分的凹面部分的基片進(jìn)行制造。
這樣可以容易和可靠地獲得設(shè)置每個(gè)都具有所需尺寸和形狀的多個(gè)透鏡部分的透鏡基片。結(jié)果，可以改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的生產(chǎn)率，而獲得的傳輸屏幕具有穩(wěn)定的特性和高可靠性。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選透鏡基片的光線入射面具有形成多個(gè)透鏡部分的可用面積，其中當(dāng)從透鏡基片的光線入射面頂部觀看時(shí)，透鏡部分所占的總面積與透鏡基片的可用面積之比在90％或更多。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有通過(guò)采用本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的光線使用效率。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選每個(gè)透鏡部分都形成顯微透鏡。
這樣可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的視角特性。即，除了其水平視角外，還可以增加傳輸屏幕的垂直視角。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選形成多個(gè)顯微透鏡，以便當(dāng)從透鏡基片的光線入射面頂部觀看時(shí)，以無(wú)規(guī)則方式設(shè)置。
這樣可以有效地防止波紋出現(xiàn)在投影圖像中。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選多個(gè)顯微透鏡的曲率半徑彼此基本相同。
這樣可以容易形成設(shè)置有多個(gè)開口的光線漫射部分和光線遮蔽層。結(jié)果，可以顯著改進(jìn)用于傳輸屏幕的屏幕件的生產(chǎn)率。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選每個(gè)顯微透鏡的直徑在10到500μm的范圍內(nèi)。
這樣可以獲得充分分辨率的投影圖像，同時(shí)保持用于傳輸屏幕的屏幕件的高生產(chǎn)率。
在根據(jù)本發(fā)明制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法中，優(yōu)選每個(gè)開口的直徑在9到500μm的范圍內(nèi)。
這樣可以獲得充分的光線滲透性(光線使用效率)，同時(shí)進(jìn)一步改進(jìn)投影圖像的對(duì)比度。
在本發(fā)明的另一方面，本發(fā)明旨在提供一種用于傳輸屏幕的屏幕件。本發(fā)明用于傳輸屏幕的屏幕件采用上述限定的制造本發(fā)明用于傳輸屏幕的屏幕件的方法制造。
在本發(fā)明的另一方面，本發(fā)明旨在提供一種傳輸屏幕。傳輸屏幕包括上述限定的本發(fā)明用于傳輸屏幕的屏幕件。
這樣可以提供具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的傳輸屏幕。
優(yōu)選本發(fā)明的傳輸屏幕還包括具有菲涅耳(Fresnel)透鏡的菲涅耳透鏡部分，所述菲涅耳透鏡部分具有發(fā)射面并且所述菲涅耳透鏡形成于菲涅耳透鏡部分的發(fā)射面中，其中用于傳輸屏幕的屏幕件設(shè)置在菲涅耳透鏡部分的發(fā)射面的側(cè)面上。
這樣可以提供具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的傳輸屏幕。
本發(fā)明的再一方面，本發(fā)明旨在提供一種后投影。在一個(gè)實(shí)施方式中，本發(fā)明的后投影包括上述限定的本發(fā)明用于傳輸屏幕的屏幕件。
這樣可以提供設(shè)置有具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的用于傳輸屏幕的屏幕件的后投影。
在另一實(shí)施方式中，本發(fā)明的后投影包括上述限定的本發(fā)明的傳輸屏幕。
這樣可以提供設(shè)置有具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的傳輸屏幕的后投影。
優(yōu)選本發(fā)明的后投影還包括投影光學(xué)單元；以及光線導(dǎo)向鏡。
這樣可以提供設(shè)置有具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的后投影。


參照相應(yīng)的附圖對(duì)下面優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行具體說(shuō)明，將使本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)變得更加清晰和容易理解。
圖1是顯示在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式中用于傳輸屏幕的屏幕件的縱向截面視圖。
圖2是顯示具有圖1所示傳輸屏幕的顯微透鏡基片的平面視圖。
圖3是顯示在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式中，設(shè)置有圖1所示用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的縱向截面視圖。
圖4是顯示具有用于利用制造顯微透鏡基片的顯微透鏡的凹面部分的基片的縱向截面視圖。
圖5A-5D是顯示制造具有用于圖4所示的顯微透鏡的凹面部分的基片的方法的縱向截面視圖。
圖6A-6I是顯示制造圖1所示用于傳輸屏幕的屏幕件的方法的一個(gè)實(shí)施例的縱向截面視圖。
圖7是顯示施用本發(fā)明的傳輸屏幕的后投影簡(jiǎn)圖。
圖8是顯示在根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式中，用于本發(fā)明的傳輸屏幕的屏幕件和傳輸屏幕的截面簡(jiǎn)圖。
具體實(shí)施例方式
在下文中，將參照相應(yīng)的附圖對(duì)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式用于制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法、用于傳輸屏幕的屏幕件、傳輸屏幕以及后投影的屏幕件進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
首先，將具體說(shuō)明本發(fā)明用于傳輸屏幕的屏幕件和傳輸屏幕的構(gòu)成。
圖1是顯示在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式中用于傳輸屏幕的屏幕件的縱向截面視圖。圖2是顯示具有設(shè)置有圖1所示傳輸屏幕的顯微透鏡基片的平面視圖。圖3是顯示在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式中，設(shè)置有圖1所示用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的縱向截面視圖。在這點(diǎn)上，在下述說(shuō)明中，圖1和圖3中左側(cè)和右側(cè)分別稱為“光線入射側(cè)面(或光線入射面)”以及“光線發(fā)射側(cè)面(或光線發(fā)射面)”。
用于傳輸屏幕的屏幕件1為構(gòu)成將在后面說(shuō)明的傳輸屏幕10的部件。如圖1所示，用于傳輸屏幕的屏幕件1包括具有聚集入射光線作用的顯微透鏡基片(透鏡基片)3；由具有光線遮蔽(阻塞)作用的材料制作的黑色矩陣(光線遮蔽層)4；以及每個(gè)都具有通過(guò)漫反射作用漫射入射光線作用的光線漫射部分5。
顯微透鏡基片3具有光線入射面和相對(duì)光線入射面的光線發(fā)射面。此外，顯微透鏡基片3具有樹脂層31，以及大量形成于顯微透鏡基片3的光線入射面(也就是說(shuō)，樹脂層31的入射側(cè)的表面)上的顯微透鏡(透鏡部分)32。
樹脂層31主要由為具有預(yù)定折射率的透明樹脂材料構(gòu)成。
每個(gè)顯微透鏡32都形成為凸起部分凸向顯微透鏡基片3的光線入射面的凸透鏡。此外，每個(gè)顯微透鏡32都設(shè)計(jì)為，以便傳輸顯微透鏡32的光線聚焦在超出黑色矩陣(光線遮蔽層)4的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面?zhèn)让嫔?即，顯微透鏡基片3設(shè)計(jì)為以便每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f位于超出黑色矩陣(光線遮蔽層)4的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面?zhèn)让嫔?。換言之，從垂直于顯微透鏡基片3的主表面方向進(jìn)入顯微透鏡基片3的平行光線La(從后面說(shuō)明的菲涅耳透鏡部分2入射的平行光線La)通過(guò)顯微透鏡基片3的每個(gè)顯微透鏡32聚集，并聚焦在超出黑色矩陣(光線遮蔽層)4的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面?zhèn)让嫔?即，圖1中的焦點(diǎn)f)。由于每個(gè)顯微透鏡32都以此方式將光線聚集在超出黑色矩陣(光線遮蔽層)4的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面?zhèn)让嫔?，所以可以使光線具有特別優(yōu)良的使用效率。為了更具體地說(shuō)明，將在下面說(shuō)明在光線漫射部分5聚集從顯微透鏡32發(fā)射的光線，用于傳輸屏幕的屏幕件1起到好像光線源位于超出黑色矩陣4的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面上的每個(gè)光線漫射部分5上的作用。這樣可以有效地將進(jìn)入光線漫射部分5的光線漫射到顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面?zhèn)让嫔?，同時(shí)有效地防止通過(guò)顯微透鏡32聚集的光線(光子)再次返回到顯微透鏡基片3的光線入射面?zhèn)让嫔?。結(jié)果，可以使用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線使用效率特別優(yōu)良，從而可以使設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10特別優(yōu)良。
在優(yōu)選方式中，每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f離開黑色矩陣(即，在黑色矩陣4的光線發(fā)射側(cè)面的表面)1到250μm的范圍，更優(yōu)選離開黑色矩陣4為2到50μm的范圍。在每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f位于上述范圍的顯微透鏡基片3的光線入射面?zhèn)让嫔蠒r(shí)，根據(jù)包含在光線漫射部分5中的漫射介質(zhì)51的類型，從光線漫射部分5返回的光線量變大，從而有不能獲得足夠光線使用效率的可能性。另一方面，在每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f位于上述范圍的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面?zhèn)让嫔蠒r(shí)，根據(jù)將在后面說(shuō)明的光線漫射部分5的高度等，由光線漫射部分5產(chǎn)生的光線漫射變得不充分，從而有不能充分獲得改進(jìn)光線使用效率效果的可能性。
在優(yōu)選方式中，每個(gè)顯微透鏡32的直徑都在10到500μm的范圍，更優(yōu)選在30到300μm的范圍，而更加優(yōu)選在50到100μm的范圍。通過(guò)限制每個(gè)顯微透鏡32的直徑在上述范圍，可以進(jìn)一步增加用于傳輸屏幕(傳輸屏幕10)的屏幕件1的生產(chǎn)率，同時(shí)保持投影在屏幕上的圖像的充分分辨率。在這點(diǎn)上，優(yōu)選顯微透鏡基片3中相鄰顯微透鏡32之間的間距在10到500μm的范圍，更優(yōu)選的距離在30到300μm的范圍，而更加優(yōu)選的距離在50到100μm的范圍。
此外，在優(yōu)選方式中，構(gòu)成用于傳輸屏幕的屏幕件1的多個(gè)顯微透鏡32的曲率半徑為彼此基本相同，而更優(yōu)選構(gòu)成用于傳輸屏幕的屏幕件1的幾乎所有顯微透鏡32的曲率半徑彼此基本相同。這樣，可以采用后面說(shuō)明的方法(即，制造用于傳輸屏幕的屏幕件的方法)更容易、確定地形成黑色矩陣4和光線漫射部分5。
此外，不特別限制顯微透鏡32的設(shè)置形式。設(shè)置形式既可以是顯微透鏡32以規(guī)則形式設(shè)置的設(shè)置形式，也可以是顯微透鏡32以光學(xué)無(wú)規(guī)則形式設(shè)置的設(shè)置形式(當(dāng)從顯微透鏡基片3的光線入射面頂上觀看時(shí)(當(dāng)從用于傳輸屏幕的屏幕件1的主表面觀看時(shí))顯微透鏡32無(wú)規(guī)則地設(shè)置)。然而，在優(yōu)選方式中，顯微透鏡32如圖2無(wú)規(guī)則設(shè)置。通過(guò)以無(wú)規(guī)則方式設(shè)置顯微透鏡32，可以有效地防止液晶等和菲涅耳透鏡的光線值的干涉，因此，幾乎可以完全防止出現(xiàn)波紋。這樣就可以獲得具有高顯示質(zhì)量的優(yōu)良傳輸屏幕10。
此外，在優(yōu)選方式中，當(dāng)從顯微透鏡基片3的光線入射面頂上觀看時(shí)(即，圖2所示的方向)，在形成顯微透鏡32的可用區(qū)域中所有顯微透鏡32所占面積(投影面積)相對(duì)整個(gè)可用面積的比為90％或更多。更優(yōu)選的比為96％或更多。在可用區(qū)域中所有顯微透鏡32所占面積相對(duì)整個(gè)可用面積的比為90％或更多的情況下，可以減少直接光線穿過(guò)不是顯微透鏡32所占的面積的面積，這樣可以進(jìn)一步增加屏幕件1的光線使用效率。
如上所述，黑色矩陣4和光線漫射部分5形成于顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面上。
黑色矩陣4由具有光線遮蔽(阻塞)作用的材料制作，并以層的形式形成。通過(guò)將此黑色矩陣4施加到顯微透鏡基片3，可以吸收外部光線(即，在形成投影圖像中不合要求的外部光線)，這樣可以使投影到屏幕上的圖像具有優(yōu)良的對(duì)比度。
黑色矩陣4在通過(guò)顯微透鏡基片3的顯微透鏡32傳遞光線的光線通道上具有多個(gè)開口41。這樣可以使顯微透鏡32聚集的光線通過(guò)黑色矩陣4的開口41進(jìn)入光線漫射部分5。
每個(gè)開口41的尺寸沒(méi)有特別限制。然而，在優(yōu)選方式中，開口41的直徑在9到500μm的范圍，更優(yōu)選在9到450μm的范圍，而更加優(yōu)選在20到90μm的范圍。通過(guò)限制每個(gè)開口41的直徑在上述范圍，可以使已通過(guò)顯微透鏡32傳遞的光線有效地進(jìn)入后面說(shuō)明的光線漫射部分5，并可以使投影到屏幕上的圖像具有優(yōu)良的對(duì)比度。
光線漫射部分5具有通過(guò)漫反射作用漫射入射光線的作用。通過(guò)設(shè)置有此光線漫射部分5，可以改進(jìn)視角特性。此外，每個(gè)光線漫射部分5都具有形成于超出黑色矩陣4的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面上的區(qū)域。由于光線漫射部分5具有此構(gòu)造，可以有效地指引入射光線進(jìn)入光線漫射部分5到達(dá)顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面的側(cè)面(即，相對(duì)光線入射面?zhèn)让娴姆较?。這樣可以顯著改進(jìn)設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10的視角特性(即，可以適當(dāng)?shù)卦龃竽苡^看投射到屏幕上的圖像的視角)。在此實(shí)施方式中，光線漫射部分5構(gòu)成為以便漫射介質(zhì)51分散進(jìn)具有優(yōu)良光線滲透性的基本透明的材料(例如，丙烯酸類樹脂、聚碳酸酯樹脂等)中。二氧化硅、玻璃、樹脂等微粒(珠粒)形式都可以用于漫射介質(zhì)51。例如，雖然沒(méi)有特別限制漫射介質(zhì)51的平均顆粒直徑。但在優(yōu)選方式中，漫射介質(zhì)51的平均顆粒直徑在1.0到50μm的范圍，更優(yōu)選在2.0到10μm的范圍。此外，如果需要，例如，可以在施加光敏聚合物52后進(jìn)行熱處理如預(yù)焙處理。
此外，光線漫射部分5設(shè)置在至少相對(duì)應(yīng)黑色矩陣4的開口41的部分上，每個(gè)光線漫射部分5都形成從黑色矩陣4表面凸出的凸出部分。如果光線漫射部分5具有此方式的凸出部分，可以改進(jìn)設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10的光線使用效率。更詳細(xì)地說(shuō)明，在光線漫射部分(光線漫射層)以具有均勻厚度的層的形式形成于黑色矩陣上的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面的側(cè)面上的情況下，光線(光子)與漫射介質(zhì)碰撞的概率(頻率)增加，進(jìn)入光線漫射部分內(nèi)的光線(光子)具有再次返回到顯微透鏡基片的光線發(fā)射面的側(cè)面的可能性。這樣可能出現(xiàn)消光，因此光線使用效率降低。另一方面，在光線漫射部分5在相對(duì)應(yīng)開口41的部分具有凸出部分的情況下，可以有效地將進(jìn)入光線漫射部分5的光線漫射到顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面的側(cè)面，同時(shí)有效地防止由于進(jìn)入光線漫射部分5和漫射介質(zhì)51內(nèi)部的光線(光子)的過(guò)度碰撞使消光變得明顯，并防止通過(guò)顯微透鏡32聚集的光線(光子)再次返回到顯微透鏡基片的光線入射面的側(cè)面。結(jié)果，可以改進(jìn)傳輸屏幕10(即，用于傳輸屏幕的屏幕件1)的視角特性。此外，在光線漫射部分5具有此凸出部分的情況下，用于傳輸屏幕的屏幕件1可以構(gòu)成為，以便具有光線漫射部分5為相對(duì)低的高度的區(qū)域，或光線漫射部分5不形成于相鄰?fù)钩霾糠种g的區(qū)域(在圖1所示的結(jié)構(gòu)中，用于傳輸屏幕的屏幕件1具有光線漫射部分5不形成于相鄰?fù)钩霾糠种g的區(qū)域)。這樣可以更有效地起到黑色矩陣(光線遮蔽層)4的作用，因此，可以顯著地改進(jìn)投影到屏幕的圖像的對(duì)比度。在這點(diǎn)上，即使在用于傳輸屏幕的屏幕件1具有每個(gè)都在顯微透鏡基片的光線發(fā)射面處的黑色矩陣4上具有均勻厚度的光線漫射部分，也可以通過(guò)降低(減少)光線漫射部分的高度(厚度)(例如，1μm)，以防止出現(xiàn)上述問(wèn)題。然而，在此情況下，很難有效地漫射進(jìn)入到光線漫射部分內(nèi)部的光線。
在優(yōu)選方式中，當(dāng)從顯微透鏡基片3的光線入射面頂部(即，用于傳輸屏幕的屏幕件1的頂部)觀看時(shí)，凸出部分所占總面積(投影面積)相對(duì)顯微透鏡32所占總面積的比在5到99％的范圍內(nèi)。更優(yōu)選比在5到95％的范圍內(nèi)，更加優(yōu)選比在30到70％的范圍內(nèi)。通過(guò)限制凸出部分所占總面積的比在上述范圍，可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10的光線使用效率。此外，可以進(jìn)一步改進(jìn)投影圖像的對(duì)比度。如果凸出部分所占總面積的比低于上述給定值的下限，則很難有效地傳播進(jìn)入光線漫射部分5的光線，從而具有很難獲得設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10的足夠視角特性的可能性。另一方面，如果凸出部分所占總面積的比高于上述給定值的上限，則傾向于在光線漫射部分5(凸出部分)內(nèi)出現(xiàn)消光，從而使其光線使用效率下降(降低)。此外，在此情況下，當(dāng)從用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線發(fā)射面頂部觀看時(shí)，由于覆蓋有光線漫射部分5(凸出部分)的面積相對(duì)黑色矩陣4表面(除了開口41之外的黑色矩陣4的區(qū)域)的比變大，所以，投射到屏幕的圖像對(duì)比度傾向于變低。因此，在優(yōu)選方式中，開口41的面積基本與形成的凸出部分的投影面積相同，以便凸出部分分別相對(duì)應(yīng)開口41(即，覆蓋黑色矩陣4部分的面積較小)。更具體地說(shuō)，當(dāng)從用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線入射面頂部觀看時(shí)(即，當(dāng)從圖2所示的方向觀看時(shí))，在開口41和凸出部分分別所占的總面積相對(duì)顯微透鏡32所占總面積的比分別為A％和B％，優(yōu)選滿足關(guān)系0.2≤A/B≤1.55。更優(yōu)選滿足關(guān)系0.5≤A/B≤1.2。這樣使上述效果變得更明顯。此外，根據(jù)后面說(shuō)明的方法(制造用于本發(fā)明的傳輸屏幕的屏幕件的方法)，可以相對(duì)容易地獲得滿足上述條件的用于傳輸屏幕的屏幕件1。
在圖1所示的結(jié)構(gòu)中，用于傳輸屏幕的屏幕件1設(shè)置有多個(gè)光線漫射部分5。具體地說(shuō)，凸出部分形式的多個(gè)光線漫射部分5彼此獨(dú)立和可選擇地形成，以便每個(gè)光線漫射部分5相對(duì)應(yīng)每個(gè)黑色矩陣4的開口41。在多個(gè)光線漫射部分5以彼此獨(dú)立的方式設(shè)置的情況下，可以改進(jìn)用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線使用效率，并改進(jìn)投射到屏幕上的圖像的對(duì)比度。更具體地說(shuō)，在多個(gè)光線漫射部分5彼此獨(dú)立設(shè)置的情況下，可以將進(jìn)入光線漫射部分5的光線漫射到用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線發(fā)射面?zhèn)让妫瑫r(shí)更有效地防止由于進(jìn)入光線漫射部分5和漫射介質(zhì)51內(nèi)部的光線(光子)的過(guò)度碰撞使消光變得明顯，并防止通過(guò)顯微透鏡32聚集的光線(光子)再次返回到顯微透鏡基片的光線入射面的側(cè)面。結(jié)果，可以顯著改進(jìn)傳輸屏幕10(即，用于傳輸屏幕的屏幕件1)的視角特性。此外，在多個(gè)光線漫射部分5彼此獨(dú)立設(shè)置的情況下，用于傳輸屏幕的屏幕件1不具有黑色矩陣4不被相鄰光線漫射部分5之間的光線漫射部分5覆蓋的區(qū)域。這樣可以更有效地起到黑色矩陣(光線遮蔽層)4的作用，因此，可以顯著地改進(jìn)投影到屏幕的圖像的對(duì)比度。
在優(yōu)選方式中，當(dāng)從顯微透鏡基片3的光線入射面頂部(即，用于傳輸屏幕的屏幕件1的頂部)觀看時(shí)，光線漫射部分5所占總面積(投影面積)相對(duì)顯微透鏡32所占總面積的比在5到99％的范圍內(nèi)。更優(yōu)選比在5到95％的范圍內(nèi)，更加優(yōu)選比在30到70％的范圍內(nèi)。通過(guò)限制光線漫射部分5所占總面積(投影面積)的比在上述范圍，可以進(jìn)一步改進(jìn)設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10的視角特性和光線使用效率。此外，可以進(jìn)一步改進(jìn)投影到屏幕的圖像的對(duì)比度。如果光線漫射部分5所占總面積的比低于上述給定值的下限，則很難有效地漫射進(jìn)入光線漫射部分5的光線，從而具有很難獲得設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10的足夠視角特性的可能性。另一方面，如果光線漫射部分5所占總面積的比高于上述給定值的上限，則傾向于在光線漫射部分5內(nèi)出現(xiàn)消光，從而使其光線使用效率下降(降低)。此外，在此情況下，當(dāng)從用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線發(fā)射面頂部觀看時(shí)，由于覆蓋有光線漫射部分5的面積相對(duì)黑色矩陣4表面的比變大，所以，投射到屏幕的圖像對(duì)比度傾向于變低。因此，在優(yōu)選方式中，開口41的面積基本與形成的光線漫射部分5的投影面積相同，以便凸出部分分別相對(duì)應(yīng)開口41(即，覆蓋黑色矩陣4的部分的面積較小)。更具體地說(shuō)，當(dāng)從用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線入射面頂部觀看時(shí)(即，當(dāng)從圖2所示的方向觀看時(shí))，在開口41和光線漫射部分5分別所占的總面積相對(duì)顯微透鏡32所占總面積的比分別為A％和C％，優(yōu)選滿足關(guān)系0.2≤A/C≤1.5。更優(yōu)選滿足關(guān)系0.5≤A/C≤1.2。這樣使上述效果變得更明顯。此外，根據(jù)后面說(shuō)明的方法(制造用于本發(fā)明傳輸屏幕的屏幕件的方法)，可以相對(duì)容易地獲得滿足上述條件的用于傳輸屏幕的屏幕件1。
如上所述，在本實(shí)施方式中，用于傳輸屏幕的屏幕件1設(shè)計(jì)為，以便每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f位于黑色矩陣4上用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線發(fā)射面?zhèn)让嫔?。此外，在?yōu)選方式中，每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f基本位于在垂直于用于傳輸屏幕的屏幕件1的主表面方向相對(duì)應(yīng)光線漫射部分5的中心部分。因此，進(jìn)入光線漫射部分5內(nèi)部的光線以適當(dāng)?shù)念l率與漫射介質(zhì)51碰撞。因此，可以有效地漫射進(jìn)入光線漫射部分5內(nèi)部的光線(光子)，同時(shí)有效地防止光線的消光。因此，可以進(jìn)一步改進(jìn)用于傳輸屏幕的屏幕件1(即，傳輸屏幕10)的光線使用效率。此外，由于光線漫射部分5反射的光線漫射到光線漫射部分5的周圍，因此，可以獲得更寬的傳輸屏幕10(用于傳輸屏幕的屏幕件1)的視角。
在優(yōu)選方式中，每個(gè)光線漫射部分5(凸出部分)的頂端(頂點(diǎn))對(duì)應(yīng)每個(gè)顯微透鏡32的光學(xué)軸L(換言之，每個(gè)凸出部分的頂點(diǎn)位于對(duì)應(yīng)得顯微透鏡32的光學(xué)軸L上)。因此，由于顯微透鏡32聚集的光線與相應(yīng)的光線漫射部分5基本各向同性地漫射，因此，可以獲得設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10的良好視角特性。
此外，在優(yōu)選方式中，光線漫射部分5的高度h(即，光線漫射部分5在垂直于用于傳輸屏幕的屏幕件1的主表面的方向的長(zhǎng)度)在2到450μm的范圍，更優(yōu)選在2到250μm的范圍。更加優(yōu)選在5到50μm的范圍。這樣可以更可靠地防止由于光線漫射部分5反射的光線返回到顯微透鏡基片3的光線入射面造成的消光，因此，可以獲得傳輸屏幕10(用于傳輸屏幕的屏幕件1)的高光線使用效率。
其次，將說(shuō)明設(shè)置有用于傳輸屏幕的屏幕件1的傳輸屏幕10。
如圖3所示，傳輸屏幕10設(shè)置有菲涅耳透鏡部分2和上述用于傳輸屏幕的屏幕件1。菲涅耳透鏡部分2設(shè)置在用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線入射面的側(cè)面上(即，在用于圖像的光線入射側(cè)面上)，而已通過(guò)菲涅耳透鏡部分2傳遞的光線進(jìn)入用于傳輸屏幕的屏幕件1。
菲涅耳透鏡部分2設(shè)置有多個(gè)以基本同心的方式形成于菲涅耳透鏡部分2的光線發(fā)射面上的棱鏡的菲涅耳透鏡21。菲涅耳透鏡部分2偏轉(zhuǎn)用于從投影透鏡(在圖中未示出)投影圖像的光線，并將平行于用于傳輸屏幕的屏幕件1的主表面方向的垂直方向的平行光線La輸出到用于傳輸屏幕的屏幕件1的光線入射面的側(cè)面。
在以上述結(jié)構(gòu)構(gòu)成的傳輸屏幕10中，來(lái)自投影透鏡的光線通過(guò)菲涅耳透鏡部分2反射變成平行光線La。然后，平行光線La通過(guò)顯微透鏡基片3的每個(gè)顯微透鏡32聚集，聚集的光線穿過(guò)黑色矩陣4的每個(gè)開口41進(jìn)入光線漫射部分5。進(jìn)入每個(gè)光線漫射部分5的光線聚焦在相應(yīng)光線漫射部分5的基本中心部分的焦點(diǎn)f上并漫射，從而使傳輸屏幕10的觀測(cè)者(觀看者)觀測(cè)到(看到)作為平面圖像的光線。
其次，將說(shuō)明上述用于傳輸屏幕的屏幕件1的制造方法。
圖4是顯示具有用于利用制造顯微透鏡基片的顯微透鏡的凹面部分的基片的縱向截面視圖。圖5是顯示制造具有用于圖4所示的顯微透鏡的凹面部分的基片的方法的縱向截面視圖。圖6是顯示制造圖1所示用于傳輸屏幕的屏幕件的方法的一個(gè)實(shí)施例的縱向截面視圖。這樣，在下列說(shuō)明中，圖6中的下側(cè)和上側(cè)分別稱為“光線入射側(cè)(或光線入射面)”和“光線發(fā)射側(cè)(或光線發(fā)射面)”。
在說(shuō)明制造本發(fā)明用于傳輸屏幕的屏幕件的方法之前，將首先說(shuō)明具有可以用于制造顯微透鏡基片的顯微透鏡的凹面部分的基片的結(jié)構(gòu)和及其制造方法。
如圖4所示，具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6具有多個(gè)無(wú)規(guī)則設(shè)置在基片5上的凹面部分(用于顯微透鏡)61。
通過(guò)采用此具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6，可以獲得多個(gè)顯微透鏡32以上述光學(xué)無(wú)規(guī)則順序設(shè)置的顯微透鏡基片3。
在詳述中，術(shù)語(yǔ)“光學(xué)無(wú)規(guī)則順序”意思是多個(gè)顯微透鏡32無(wú)規(guī)律或隨機(jī)設(shè)置，以便可以充分防止和抑制光學(xué)干涉如波紋的出現(xiàn)。
下面，將參照?qǐng)D5說(shuō)明制造具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片的方法。這樣，雖然實(shí)際在基片上有大量用于顯微透鏡的凹面部分形成，但為簡(jiǎn)化其說(shuō)明，只有其一部分放大顯示。
首先，在制造具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6中制備基片7。
在優(yōu)選方式中，具有均勻厚度而沒(méi)有彎曲和瑕疵的基片用于基片7。此外，在優(yōu)選方式中，具有通過(guò)清洗等清潔的表面的基片用于基片7。
雖然堿石灰玻璃、結(jié)晶體玻璃(crystalline glass)、石英玻璃、鉛玻璃、鉀玻璃、硼鈦酸鹽玻璃、無(wú)堿玻璃等都可以提出作為用于基片7的材料，但堿石灰玻璃和結(jié)晶體玻璃(例如，新陶瓷等)為其中之優(yōu)選。通過(guò)使用堿石灰玻璃、結(jié)晶體玻璃或無(wú)堿玻璃，可以容易地加工用于基片7的材料，因?yàn)橛脡A石灰玻璃或石英玻璃相對(duì)便宜，因此從制造成本的觀點(diǎn)考慮比較有利。
<A1>如圖5A所示，在制備的基片7的表面上形成掩膜8(掩膜形成過(guò)程)。然后，在基片7的后面上形成后面保護(hù)膜89(即，相對(duì)形成掩膜8的面的側(cè)面)。不必說(shuō)，掩膜8和后面保護(hù)膜89可以同時(shí)形成。
在優(yōu)選方式中，掩膜8允許后面說(shuō)明的初始孔81通過(guò)利用激光束等的照射在其中形成，并具有蝕刻加工的抵抗力(后面說(shuō)明)，換言之，在優(yōu)選方式中，掩膜8構(gòu)成為以便其具有的蝕刻速度接近等于或小于基片7的蝕刻速度。
從此觀點(diǎn)看，例如金屬如Cr、Au、Ni、Ti、Pt等、含有從這些金屬中選擇的兩種或更多種金屬的合金、這些金屬的氧化物(金屬氧化物)、硅、樹脂等都可以提出作為上述掩膜8的材料。另外，掩膜8有可以由通過(guò)不同材料如Cr/Au或鉻氧化物/Cr薄板形成的多層的層結(jié)構(gòu)。
形成掩膜8的方法沒(méi)有特別的限制。在掩膜8由金屬材料(包括合金)如Cr和Au或金屬氧化物如鉻氧化物構(gòu)成的情況下，掩膜8可以通過(guò)例如蒸發(fā)方法、噴鍍法等適當(dāng)?shù)匦纬?。另一方面，在掩?由硅形成的情況下，掩膜8可以通過(guò)例如噴鍍法、CVD法等適當(dāng)?shù)匦纬伞?br> 在掩膜8由鉻氧化物或鉻作為其主要成分形成的情況下，初始孔81可以通過(guò)初始孔形成過(guò)程(后面說(shuō)明)方便地形成，并可以在蝕刻加工中更安全地保護(hù)基片7。此外，當(dāng)掩膜8已經(jīng)由鉻氧化物或鉻作為其主要成分形成時(shí)，在初始孔形成過(guò)程中(后面說(shuō)明)，可以用例如二氟化氫銨(NH4HF2)溶液作為蝕刻劑。由于包含二氟化氫銨的溶液沒(méi)有毒，因此可以更安全地防止其在工作期間對(duì)人和環(huán)境的影響。
雖然掩膜8的厚度可以根據(jù)構(gòu)成掩膜8的材料改變，但優(yōu)選范圍在0.01到2.0μm，更優(yōu)選范圍在0.03到0.2μm。如果厚度在上述給定范圍的下限以下，則在后面說(shuō)明的初始孔形成過(guò)程中具有形成的初始孔81變形的可能性。此外，也具有在蝕刻步驟中(后面說(shuō)明)濕蝕刻加工期間基片7的掩膜部分不能獲得充分保護(hù)的可能性。另一方面，如果厚度在上述給定范圍的上限以上，除了在初始孔形成過(guò)程(后面說(shuō)明)中的穿透初始孔81形成困難外，根據(jù)掩膜8的構(gòu)成材料等，還具有由于掩膜8的內(nèi)應(yīng)力掩膜8傾向于很容易去除的情況。
后面保護(hù)膜89設(shè)置為用于在接下來(lái)的操作中保護(hù)基片7的后面。通過(guò)后面保護(hù)膜89可以適當(dāng)?shù)胤乐够?后面的侵蝕、消耗等。由于后面保護(hù)膜89利用與掩膜8同樣的材料形成，因此可以以與形成掩膜8同樣的方式，在掩膜8形成的同時(shí)形成。
<A2>接著，如圖5B所示，將在蝕刻(后面說(shuō)明)中作為掩膜開口使用的多個(gè)初始孔81通過(guò)物理方法或利用激光束照射無(wú)規(guī)則形成于掩膜8中(初始孔形成過(guò)程)。
可以用任意方法形成初始孔81，但在優(yōu)選方式中，初始孔81通過(guò)物理方法或激光束照射形成。這樣，可以以高生產(chǎn)率制造具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片。更具體地說(shuō)，凹面部分可以容易地形成在具有用于顯微透鏡的凹面部分的相對(duì)大尺寸的基片上。
形成初始孔81的物理方法包括例如沖擊加工如噴丸法、噴砂設(shè)備等、蝕刻、擠壓、點(diǎn)打印、輕叩法、研磨法等。在初始孔81通過(guò)沖擊加工形成的情況下，即使基片7具有相對(duì)大的面積(即，用于形成顯微透鏡32的區(qū)域面積)可以在短時(shí)間高效率地形成初始孔81。
此外，在初始孔81通過(guò)利用激光束照射形成的情況下，沒(méi)有特別限制使用的激光束種類，但可以提出紅寶石激光器、半導(dǎo)體激光器、YAG激光器、毫微微秒激光器、玻璃激光YVO4激光器、Ne-He激光器、Ar激光器、二氧化碳激光器、受激準(zhǔn)分子激光器等。此外，激光的波形可以利用如SHG(第二諧波發(fā)生)、THG(第三諧波發(fā)生)、FHG(第四諧波發(fā)生)等。在初始孔81通過(guò)利用激光束照射形成的情況下，可以方便和精確地控制初始孔81的尺寸，相鄰初始孔81之間的距離等。此外，在初始孔81通過(guò)利用激光束照射形成的情況下，通過(guò)控制照射條件，不僅可以形成沒(méi)有形成后面說(shuō)明的初始凹面部分71的初始孔81，而且可以形成具有很小形狀、尺寸或深度變化的初始凹面部分71，并可以方便和安全地形成初始孔81的這些尺寸。
在優(yōu)選方式中，初始孔81在掩膜8的整個(gè)表面上均勻地形成。此外，在優(yōu)選方式中，初始孔81以小孔設(shè)置有預(yù)定間隔的方式形成，以便在基片7的表面上沒(méi)有平面部分，而當(dāng)在步驟<A3>中進(jìn)行濕蝕刻加工時(shí)，所述表面覆蓋有幾乎沒(méi)有空間的凹面部分61(后面說(shuō)明)。
更具體地說(shuō)，例如，在優(yōu)選方式中，當(dāng)從基片5的頂部觀看時(shí)，形成的初始孔81的形狀接近為圓形，且每個(gè)初始孔81具有2到10μm的平均直徑。此外，在優(yōu)選方式中，初始孔81以每平方厘米(cm2)1千到100萬(wàn)個(gè)孔的比率形成于掩膜8上，更優(yōu)選為每平方厘米(cm2)1萬(wàn)到50萬(wàn)個(gè)孔。此外，不必說(shuō)，初始孔81的形狀不局限于為圓形。
如圖5B所示，當(dāng)初始孔81形成于掩膜8上時(shí)，除初始孔81外，初始凹面部分71可以通過(guò)去除基片7的部分表面形成。這樣可以增加當(dāng)進(jìn)行蝕刻加工(后面說(shuō)明)時(shí)與蝕刻劑的接觸面積，從而可以開始適宜的腐蝕。此外，通過(guò)調(diào)節(jié)初始凹面部分71的深度，可以調(diào)節(jié)凹面部分61的深度(即，透鏡的最大厚度)。雖然沒(méi)有特別限制初始凹面部分71的深度，但在優(yōu)選方式中，為5.0μm或更少，更優(yōu)選的范圍在0.1到0.5μm。在初始孔81的形成通過(guò)利用激光束照射進(jìn)行的情況下，可以保證減少與初始孔81一起形成的初始凹面部分71的深度變化。這樣可以減少構(gòu)成具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6的凹面部分61深度的變化，因此可以減少最終獲得的顯微透鏡基片3中的顯微透鏡32的尺寸和形狀的變化。結(jié)果，可以減少每個(gè)顯微透鏡32的透鏡直徑、聚焦距離和厚度。更具體地說(shuō)，也可以在下面的步驟中適當(dāng)?shù)匦纬珊谏仃?的開口1和光線漫射部分5。
此外，初始孔81不僅可以通過(guò)物理方法或利用激光束照射，而且可以通過(guò)例如當(dāng)掩膜8形成于基片7上時(shí)，事先將具有預(yù)定形狀的外部物體設(shè)置在基片7上，然后在具有外部物體的基片5上形成掩膜8以通過(guò)設(shè)計(jì)在掩膜8中形成缺陷，以便缺陷作為初始孔81使用。
這樣，在本發(fā)明中，與通過(guò)傳統(tǒng)的照相印刷術(shù)方法在掩膜8中形成開口相比，通過(guò)物理方法或利用激光束的照射在掩膜8中形成初始孔81，可以方便和廉價(jià)地?zé)o規(guī)則在掩膜8中形成開口(初始孔81)。此外，物理方法或利用激光束可以方便地制作大基片。
<A3>其次，如圖5C所示，通過(guò)將蝕刻加工施加到利用形成初始孔81的掩膜8的基片7，在基片7上無(wú)規(guī)則形成大量的凹面部分61(蝕刻加工)。
蝕刻方法沒(méi)有特別的限制，可以提出濕蝕刻加工、干蝕刻加工等作為實(shí)施例。在下面的說(shuō)明中，將說(shuō)明使用濕蝕刻加工作為實(shí)施例的情況。
如圖5C所示，通過(guò)將濕蝕刻加工施加到覆蓋有形成初始孔81的掩膜8的基片7，從沒(méi)有掩膜8存在的部分腐蝕基片7，從而使大量的凹面部分61形成于基片7上。如上所述，由于形成于掩膜8的初始孔81無(wú)規(guī)則設(shè)置，所以形成的凹面部分61無(wú)規(guī)則地置在基片7的表面上。
此外，在本實(shí)施方式中，當(dāng)于步驟<A2>中在掩膜8中形成初始孔81時(shí)，初始凹面部分71形成于基片7的表面上。這樣，當(dāng)在蝕刻加工基片期間，可以使與蝕刻劑的接觸面積增加，從而可以開始適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行腐蝕。
此外，通過(guò)利用濕蝕刻加工可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行凹面部分61的形成。在包含氫氟酸(氟化氫)(即，氫氟酸基蝕刻劑)的蝕刻劑用作蝕刻劑的情況下，例如，可以更有選擇性地蝕刻基片7，這樣可以形成適合的凹面部分61。
在掩膜8主要由鉻構(gòu)成的情況下(即，掩膜8由包含Cr的材料作為其主要成分組成)，二氟化氫銨的溶液特別適合于作為氫氟酸基的蝕刻劑。由于包含二氟化氫銨的溶液(4wt％或更少的其水溶液)沒(méi)有毒，因此可以更安全地防止其在工作期間對(duì)人和環(huán)境的影響。這樣，在使用二氟化氫銨的溶液作為蝕刻劑的情況下，例如，過(guò)氧化氫可以包含在蝕刻劑中。這樣可以加速蝕刻速度。
此外，濕蝕刻加工使加工采用比干蝕刻加工更簡(jiǎn)單的設(shè)備，并可以每次加工大量的基片。這樣可以增加基片的生產(chǎn)率，并可以以低成本提供具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6。
<A4>其次，如圖5D所示去除掩膜8(掩膜去除加工)，此時(shí)，后面保護(hù)膜隨著掩膜8的去除一起被去除。
在掩膜8主要由鉻構(gòu)成的情況下，掩膜8的去除可以通過(guò)利用例如硝酸銨鈰和高氯酸的混合溶液進(jìn)行。
上述加工的結(jié)果，如圖5D和4所示，可以獲得具有用于大量凹面部分61無(wú)規(guī)則形成于基片7上的顯微透鏡的凹面部分的基片6。
在優(yōu)選方式中，凹面部分61相對(duì)密集地形成于基片5上。更具體地說(shuō)，在優(yōu)選方式中，當(dāng)從基片7的頂部觀看時(shí)，所有在可用面積中的凹面部分61所占面積相對(duì)整個(gè)可用面積的比為90％或更多。即，具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6具有形成所有凹面部分61的通常面積。這樣可以獲得上述適合的顯微透鏡基片3。
在基片7上無(wú)規(guī)則形成凹面部分61的方法沒(méi)有特別限制。在凹面部分61通過(guò)上述方法形成的情況下，即，通過(guò)物理方法或采用激光束照射，在掩膜8中形成初始孔81的基片7上形成凹面部分61的方法，然后，利用掩膜8進(jìn)行蝕刻加工，可以獲得以下效果。
即，與通過(guò)傳統(tǒng)的印刷照相法在掩膜8中形成開口的情況相比，通過(guò)物理方法或采用激光束照射，在掩膜8中形成初始孔81，可以方便和便宜地在掩膜8中形成預(yù)定圖形的開口(初始孔81)。這樣可以增加具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6的生產(chǎn)率，從而可以以低成本提供具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6。
此外，根據(jù)上述方法，可以方便地進(jìn)行大尺寸基片的加工。此外，根據(jù)此方法，在制造此大尺寸基片的情況下，不需要如同傳統(tǒng)方法一樣連接多個(gè)基片，從而可以消除連接縫隙的外觀。這樣可以通過(guò)簡(jiǎn)單的方法以低成本制造具有用于顯微透鏡的凹面部分的高質(zhì)量的大尺寸基片(即，顯微透鏡基片)。
此外，當(dāng)在步驟<A4>中去除掩膜8后，新的掩膜形成于基片7上，然后，重復(fù)進(jìn)行包括掩膜形成加工、初始孔形成加工、濕蝕刻加工以及掩膜去除加工的一系列加工。在下文中，將說(shuō)明具體的實(shí)施例。
下面，將說(shuō)明作為本發(fā)明用于制造傳輸屏幕的屏幕件方法的一個(gè)實(shí)施例的上述利用具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6，制造用于傳輸屏幕的屏幕件1的方法。
<B1>首先，如圖6A所示，將未聚合(未固化)的樹脂33施加到形成具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6的凹面部分61的表面上。在本實(shí)施方式中，在此步驟，間隔裝置9設(shè)置在沒(méi)有形成具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6凹面部分66的區(qū)域上，然后，用平板11推(擠壓)樹脂33。因此，可以更穩(wěn)定地控制形成顯微透鏡基片3的厚度，因此，可以更穩(wěn)定地控制最終獲得的用于傳輸屏幕的屏幕件1中的各個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)。
在將間隔裝置9用于此實(shí)施方式的情況下，沒(méi)有特別限制間隔裝置9的形狀，但在優(yōu)選方式中，為基本球形或基本圓柱形。此外，在間隔裝置9具有此形狀的情況下，在優(yōu)選方式中，間隔裝置9的直徑在10到300μm，更優(yōu)選在30到200μm。更加優(yōu)選在30到170μm。
這樣，在施加樹脂33和用平板11進(jìn)行的推步驟之前，可以將脫模劑等施加到形成凹面部分61的具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6表面或當(dāng)推樹脂33時(shí)樹脂33接觸的平板11的表面。這樣可以在下列步驟中方便和可靠地從具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6和平板11分離出顯微透鏡基片3。
<B2>接著，硬化(聚合)樹脂33，然后去除平板11(參見(jiàn)圖6)。這樣，獲得設(shè)置有樹脂層31的顯微透鏡基片3和多個(gè)由填充在每個(gè)都作為凸透鏡的多個(gè)凹面部分61構(gòu)成的顯微透鏡32。
加工樹脂33的方法沒(méi)有特別限制，并且根據(jù)樹脂的種類選擇合適樹脂的方法。例如，可以提出光線照射如紫外線、加熱、電子束照射等。
<B3>接著，黑色矩陣4形成于如上述制造的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面上。
首先，如圖6C所示，將包括具有光線遮蔽(阻塞)作用的正光敏聚合物的第一材料施加到顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面上以形成第一層42。作為將第一材料施加到顯微透鏡基片3表面上的方法，可以使用例如，浸漬涂層法、印刷刮墨刀法、旋轉(zhuǎn)涂層法、光處理涂層法、以及各種涂層法如噴濺涂層、靜電涂層、電鍍涂層、滾子涂層等。第一材料可以由具有光線遮蔽(阻塞)作用的樹脂(聚合物)構(gòu)成，或可以為具有光線遮蔽(阻塞)作用的材料分散或溶解到具有低光線遮蔽(阻塞)作用的樹脂材料中的材料。如果需要，例如，當(dāng)施加第一材料后(即，形成第一層42后)，可以進(jìn)行如預(yù)焙加工的熱處理。
<B4>接著，如圖6D所示，用于曝光的光線Lb在垂直于顯微透鏡基片3的光線照射面方向照射到顯微透鏡基片3。用于曝光的照射光線Lb通過(guò)穿過(guò)每個(gè)顯微透鏡32進(jìn)行聚集。每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f附近中的第一層42曝光，而與第一層42中不是焦點(diǎn)f附近的部分不曝光或稍微曝光(即，曝光度很小)。這樣，只有各個(gè)焦點(diǎn)f附近中的第一層42(正光敏聚合物)曝光。
然后進(jìn)行顯影。在此情況下，由于第一層42包括正光敏聚合物，所以，各個(gè)焦點(diǎn)f附近中的第一層42融化并通過(guò)顯影去除。結(jié)果，如圖6E所示，其中在對(duì)應(yīng)顯微透鏡32的光學(xué)軸L的部分上形成的開口41的黑色矩陣4形成，顯影方法根據(jù)第一材料的組成(第一層的構(gòu)成材料)等任意選擇。例如，在此實(shí)施方式中正光敏聚合物的顯影可以利用堿性水溶液如氫氧化鉀等的溶液進(jìn)行。
此外，如果需要，當(dāng)曝光正光敏聚合物42后，可以進(jìn)行如預(yù)焙加工的熱處理。
<B5>接著，光線漫射部分5形成于對(duì)應(yīng)以此方式形成的黑色矩陣4的開口41的部分上。
首先，如圖6F所示，將第二材料施加到顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面上(即，形成黑色矩陣4的面上)以形成第二層53。第二材料至少包括負(fù)光敏聚合物，在此實(shí)施方式中，第二材料為漫射介質(zhì)51分散進(jìn)負(fù)光敏聚合物52中的材料。例如，作為施加第二材料的方法，可以使用例如浸漬涂層法、印刷刮墨刀法、旋轉(zhuǎn)涂層法、光處理涂層法、以及各種涂層法如噴濺涂層、靜電涂層、電鍍涂層、滾子涂層等。
例如CSP-SO25(主要由富士膠卷ARCH制造，made by FUJI FILMARCH)等可以作為漫射介質(zhì)51使用。
此外，例如，二氧化硅、玻璃樹脂等顆粒(珠粒)形式都可以作為負(fù)光敏聚合物52使用。雖然沒(méi)有特別限制漫射介質(zhì)5 1的平均顆粒直徑，但優(yōu)選漫射介質(zhì)51的平均顆粒直徑在1.0到50μm的范圍，更優(yōu)選在2.0到10μm的范圍。此外，如果需要，例如，可以在施加第二材料后(即，形成第二層53后)進(jìn)行熱處理如預(yù)焙處理。
<B6>接著，如圖6G所示，用于曝光的光線Lc在垂直于顯微透鏡基片3的光線入射面方向照射。用于曝光的照射光線Lc通過(guò)穿過(guò)每個(gè)顯微透鏡32聚集，并聚焦在對(duì)應(yīng)各個(gè)顯微透鏡32的光學(xué)軸L的焦點(diǎn)(即，焦點(diǎn)f)。每個(gè)顯微透鏡32的焦點(diǎn)f附近中的第二層53曝光，而第二層53中對(duì)應(yīng)于中不是焦點(diǎn)f附近的部分不曝光或稍微曝光(即，曝光度很小)。這樣，只有各個(gè)焦點(diǎn)f附近中的第二層53(負(fù)光敏聚合物)曝光。
然后進(jìn)行顯影。在此情況下，由于光敏聚合物42為負(fù)光敏聚合物，所以，曝光的光敏聚合物52中對(duì)應(yīng)于不是各個(gè)焦點(diǎn)f附近的部分融化并通過(guò)顯影去除。結(jié)果，如圖6H所示，光線漫射部分5形成于相對(duì)應(yīng)的顯微透鏡32的光學(xué)軸L的部分上，即，對(duì)應(yīng)黑色矩陣4的開口41的部分。
這樣，在本發(fā)明中，通過(guò)透鏡部分(顯微透鏡)聚集的光線照射到由包括負(fù)光敏聚合物的第二材料制作的第二層，然后第二層被顯影，以便已通過(guò)聚集的光線曝光的第二層部分保持原樣，從而形成光線漫射部分。這樣可以很容易和可靠地獲得具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的傳輸屏幕(用于傳輸屏幕的屏幕件)。更具體地說(shuō)明，通過(guò)利用透鏡部分聚集的光線進(jìn)行曝光，可以在對(duì)應(yīng)光線遮蔽層(黑色矩陣)的開口的部分上有選擇地形成光線漫射層(光線漫射部分)。結(jié)果，在獲得的傳輸屏幕(用于傳輸屏幕的屏幕件)中，可以將透鏡部分聚集的光線(光子)有效地漫射到透鏡基片的光線發(fā)射面，同時(shí)有效地防止光線的消光，從而可以改進(jìn)設(shè)置有本發(fā)明方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕的有效使用效率和視角特性。此外，根據(jù)本發(fā)明，如同圖中所示的結(jié)構(gòu)一樣，可以很容易和可靠地形成光線漫射部分，以便對(duì)應(yīng)開口41的部分變?yōu)閺暮谏仃?凸出的凸出部分。此外，根據(jù)本發(fā)明，如同圖中所示的結(jié)構(gòu)一樣，可以在對(duì)應(yīng)開口41的部分上很容易和可靠地形成多個(gè)光線漫射部分5，以便光線漫射部分彼此單獨(dú)地形成。
這樣，如果需要，可以在曝光正光敏聚合物后進(jìn)行熱處理如預(yù)焙處理。
此外，當(dāng)用于曝光的光線照射到顯微透鏡基片3上時(shí)，例如，用于曝光的光線的光源和顯微透鏡基片3之間的位置關(guān)系可以隨著時(shí)間改變。即，當(dāng)光線照射到顯微透鏡基片3上時(shí)，光源和顯微透鏡基片3可以相對(duì)移動(dòng)。因此，例如，即使在形成相對(duì)大的光線漫射部分5的情況下，也可以有效地形成光線漫射部分5。
<B7>然后，通過(guò)從用于傳輸屏幕的屏幕件1去除具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6來(lái)獲得用于傳輸屏幕的屏幕件1(參見(jiàn)圖6I)。由于具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6可以重復(fù)使用，以通過(guò)此方式去除具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6來(lái)制造用于傳輸屏幕的屏幕件1，所以，基于用于傳輸屏幕的屏幕件1的制造成本和制造的用于傳輸屏幕的屏幕件1的質(zhì)量穩(wěn)定性，優(yōu)選采用此方法。
這樣，不必從用于傳輸屏幕的屏幕件1去除具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6。換言之，傳輸屏幕10可以設(shè)置有具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6。
如上所述，在本發(fā)明的制造方法中，由于黑色矩陣4和光線漫射部分5通過(guò)由顯微透鏡32聚集的用于曝光的光線照射光敏聚合物形成，所以，可以形成具有開口41的光線漫射部分5和黑色矩陣4，且可以有選擇地形成具有微細(xì)位置精度的開口41和光線漫射部分5。因此，獲得的用于傳輸屏幕的屏幕件1(傳輸屏幕10)具有優(yōu)良的視角特性和有效使用效率。此外，根據(jù)本發(fā)明，用于傳輸屏幕的屏幕件1可以構(gòu)成為，以便設(shè)置有光線漫射部分5的高度相對(duì)低的區(qū)域，或光線漫射部分5不在相鄰?fù)钩霾糠种g形成的區(qū)域。這樣可以更有效地起到黑色矩陣(光線遮蔽層)4的作用，因此，可以顯著改進(jìn)投影到屏幕的圖像對(duì)比度。
此外，在顯微透鏡基片3中的多個(gè)顯微透鏡32具有彼此基本同樣的曲率半徑的情況下，每個(gè)顯微透鏡32聚集的光線聚焦在基本同樣的平面上。因此，通過(guò)將用于曝光的光線均勻地照射到顯微透鏡基片3的光線入射面上，可以形成黑色矩陣(光線遮蔽層)4的開口41和具有彼此基本同樣尺寸的光線漫射部分5。
在下文中，將對(duì)上述使用傳輸屏幕的后投影做出說(shuō)明。
圖7是顯示根據(jù)本發(fā)明后投影結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)圖。
如圖7所示，后投影300具有設(shè)置在外殼340中的投影光學(xué)單元310、光線導(dǎo)向鏡320和傳輸屏幕10的結(jié)構(gòu)。
由于后投影300使用上述具有優(yōu)良視角特性和光線使用效率的傳輸屏幕10作為其傳輸屏幕10，所以，其形成具有高顯示質(zhì)量的優(yōu)良后投影。
此外，由于顯微透鏡32特別無(wú)規(guī)則地設(shè)置在上述用于傳輸屏幕的屏幕件1中，所以，后投影300很難產(chǎn)生如波紋的問(wèn)題。
如上所述，應(yīng)該注意，即使根據(jù)本發(fā)明制作用于傳輸屏幕的屏幕件的方法、用于傳輸屏幕的屏幕件、傳輸屏幕和后投影已經(jīng)參照相應(yīng)的附圖對(duì)優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明也不局限于這些實(shí)施方式。
例如，每個(gè)構(gòu)成用于傳輸屏幕的屏幕件、傳輸屏幕和后投影部件(元件)都可以用具有同樣或相似作用的元件代替。
此外，在上述實(shí)施方式中，雖然已經(jīng)說(shuō)明了每個(gè)顯微透鏡(透鏡部分)32都具有在超出黑色矩陣4的顯微透鏡基片3的光線發(fā)射面的側(cè)面上的焦點(diǎn)，但透鏡部分的焦點(diǎn)也可以位于超出黑色矩陣4的顯微透鏡基片3中(參見(jiàn)圖8)。
此外，在上述實(shí)施方式中，雖然已經(jīng)說(shuō)明了利用具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6制造的基片作為顯微透鏡基片(透鏡基片)3使用，但任何透鏡基片(通過(guò)任何方法制造的透鏡基片)都可以作為顯微透鏡基片3使用。
此外，在上述實(shí)施方式中，雖然已經(jīng)說(shuō)明了除了制造具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片的方法的初始孔形成加工中的初始孔81外，初始凹面部分71形成于基片7上，但也可以不需要形成此初始凹面部分71。通過(guò)選擇初始孔81的形成條件(例如，激光的能量強(qiáng)度、光束直徑、照射時(shí)間等)，除初始孔81外，可以有選擇地形成每個(gè)都具有所需形狀的初始凹面部分71，或只有初始孔81，以便不形成初始凹面部分71。
此外，在上述實(shí)施方式中，雖然已經(jīng)說(shuō)明了形成黑色矩陣(光線遮蔽層)4和光線漫射部分5，同時(shí)具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6制作為粘貼(靠近)到顯微透鏡基片3，但也可以形成黑色矩陣(光線遮蔽層)4和光線漫射部分5，例如，同時(shí)從顯微透鏡基片3去除具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6。
此外，已經(jīng)說(shuō)明了當(dāng)從顯微透鏡基片3的頂部觀看時(shí)，每個(gè)都具有基本圓形的顯微透鏡32無(wú)規(guī)則地設(shè)置，但顯微透鏡32的形狀和設(shè)置不局限于上述方式。例如，顯微透鏡32可以以格子圖形設(shè)置，或可以形成蜂窩圖形。
此外，已經(jīng)說(shuō)明了傳輸屏幕10設(shè)置有用于上述實(shí)施方式中的傳輸屏幕的屏幕件和菲涅耳透鏡21，本發(fā)明的傳輸屏幕10不是必需設(shè)置有菲涅耳透鏡21。例如，在實(shí)際情況中，傳輸屏幕10也可以只由本發(fā)明用于傳輸屏幕的屏幕件1構(gòu)成。
此外，已經(jīng)說(shuō)明了顯微透鏡基片3(透鏡基片)設(shè)置有顯微透鏡32作為上述實(shí)施方式中的透鏡部分的結(jié)構(gòu)，透鏡部分也不局限于顯微透鏡32。例如，透鏡部分可以為雙凸透鏡。通過(guò)利用雙凸透鏡，可以簡(jiǎn)化透鏡部分的制造步驟，因此，可以改進(jìn)傳輸屏幕10的生產(chǎn)率。在雙凸透鏡作為透鏡部分的情況下，帶狀光線遮蔽層(黑條)代替黑色矩陣4形成于透鏡基片的光線發(fā)射面。在這種情況下，光線漫射部分5設(shè)置在至少對(duì)應(yīng)構(gòu)成黑條的相鄰帶之間的空間部分。即使在此結(jié)構(gòu)中，也可以獲得與上述方式同樣的作用和效果。即，根據(jù)本發(fā)明，可以有效地指引進(jìn)入光線漫射部分5的光線(入射光線)到透鏡基片的光線發(fā)射面，同時(shí)充分地漫射入射光線。因此，即使在透鏡基片設(shè)置有雙凸透鏡作為透鏡部分的情況下，也可以獲得優(yōu)良的視角特性(即，除其水平視角外，還可以增加傳輸屏幕的垂直視角)。
此外，已經(jīng)說(shuō)明了整個(gè)光線漫射部分5作為凸出部分形成，即，每個(gè)光線漫射部分5都基本只由上述實(shí)施方式中的凸出部分構(gòu)成，但光線漫射部分也可以具有除了凸出部分之外的區(qū)域(參見(jiàn)圖8)。
此外，已經(jīng)說(shuō)明了當(dāng)在上述實(shí)施方式中形成光線漫射部分5后，具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6從顯微透鏡基片3去除，具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片6也可以在形成黑色矩陣4或光線漫射部分5之前形成，或可以容納(結(jié)合)在傳輸屏幕10中，而不從顯微透鏡基片3去除。
實(shí)施例(實(shí)施例1)制造具有配備有用于顯微透鏡的凹面部分的用于顯微透鏡的凹面部分的基片，然后，以下列方式利用具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片制造顯微透鏡基片。
首先，制備具有1.2m×0.7m和4.8m厚的矩形堿石灰玻璃基片。
堿石灰玻璃基片浸泡在包含4wt％二氟化氫銨和8wt％過(guò)氧化氫的清洗液體中以進(jìn)行6μm的蝕刻加工，然后清洗其表面。
然后，用純水清洗并用氮(N2)氣(用于去除純水)進(jìn)行干燥。
接著，每個(gè)都具有0.03μm厚的鉻膜(掩膜和后面保護(hù)膜)通過(guò)噴鍍方法形成于堿石灰玻璃基片上。即，每個(gè)都由鉻膜制作的掩膜和后面保護(hù)膜形成于堿石灰玻璃基片的兩個(gè)表面上。
接著，對(duì)掩膜進(jìn)行激光加工以在掩膜的中心部分113cm×65cm的區(qū)域內(nèi)形成大量的初始孔。
這樣，利用YAG激光器在1mW的能量強(qiáng)度、3μm的光束直徑、以及60×10-9秒的條件下進(jìn)行激光加工。
這樣，初始孔在上述掩膜的整個(gè)區(qū)域形成無(wú)規(guī)則的圖形。初始孔的平均直徑為5μm，初始孔的形成密度為40,000孔/cm2。
此外，此時(shí)，每個(gè)都具有大約0.1μm深度和受損壞層(或受影響層)的凹面部分形成于堿石灰玻璃基片的表面。
接著，堿石灰玻璃基片經(jīng)過(guò)濕蝕刻加工，從而在堿石灰玻璃基片上形成大量的凹面部分。大量形成的凹面部分基本具有彼此同樣的曲率(35μm)。
這樣，包含4wt％二氟化氫銨和8wt％過(guò)氧化氫的水溶液作為蝕刻劑用于濕蝕刻，而基片的浸泡時(shí)間為5小時(shí)。
接著，通過(guò)利用硝酸銨鈰和高氯酸的混合溶液進(jìn)行蝕刻加工以去除氧化鉻膜(掩膜和后面保護(hù)膜)。
然后，用純水清洗并用N2氣(用于去除純水)進(jìn)行干燥。
結(jié)果，可以獲得大量用于顯微透鏡的凹面部分無(wú)規(guī)則形成于堿石灰玻璃基片上的具有用于顯微透鏡的凹面部分的薄片狀基片。當(dāng)從獲得的具有凹面部分的基片的頂部觀看時(shí)，所有凹面部分在形成凹面部分的可用面積中所占面積與整個(gè)可用面積的比為97％。可以獲得任意相鄰兩個(gè)點(diǎn)之間的許多距離(即，在凹面部分和相鄰凹面部分之間)，并可以計(jì)算這些距離的標(biāo)準(zhǔn)偏差。通過(guò)此計(jì)算獲得的標(biāo)準(zhǔn)偏差為許多距離的平均直徑的35％。
其次，將脫模劑(GF-6110)施加到上述獲得的形成凹面部分的具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片，將未聚合(未固化)的紫外線(UV)固化樹脂(UV-固化樹脂)(V-2403(由日本鋼化學(xué)有限公司生產(chǎn)))施加到同樣面的側(cè)面。此時(shí)，基本球形的間隔裝置(每個(gè)都具有150μm的直徑)設(shè)置在上述未形成具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片的區(qū)域(即，不可用的透鏡區(qū))。
接著，用由無(wú)堿玻璃組成的平板擠壓(推)UV-固化樹脂。此時(shí)，進(jìn)行此加工以便空氣不會(huì)進(jìn)入到平板和UV-固化樹脂之間。在此情況下，當(dāng)推UV-固化樹脂時(shí)，將脫模劑(GF-6110)事先施加到UV-固化樹脂已經(jīng)接觸的平板的面上。
然后，通過(guò)照射10,000mJ/cm2的紫外線通過(guò)平板，UV-固化樹脂被固化以獲得顯微透鏡基片。獲得的顯微透鏡基片的折射率為1.5。此外，獲得的顯微透鏡基片的樹脂層厚度為40μm，而多個(gè)顯微透鏡的每個(gè)的曲率半徑和直徑分別為35μm和70μm。此外，當(dāng)從顯微透鏡基片的光線入射面的頂部觀看時(shí)，顯微透鏡所占總面積(投影面積)與顯微透鏡基片的可用面積比為97％。
接著，去除平板。
接下來(lái)，將包括正光敏聚合物(PC405G(JSR公司制造))和光線遮蔽材料(炭黑)的第一材料施加到具有滾子涂機(jī)的顯微透鏡基片的光線發(fā)射面(即，相對(duì)形成顯微透鏡的面的面)以形成第一層。第一材料的光線遮蔽材料含量為20wt％。
接著，對(duì)顯微透鏡基片施用90℃的預(yù)焙處理30分鐘。
接著，將作為80mJ/cm2平行光線的紫外線從相對(duì)形成凹面部分的面的面照射到具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片。在此情況下，照射的紫外線通過(guò)各個(gè)顯微透鏡聚集，并選擇性地在顯微透鏡焦點(diǎn)f附近曝光第一層(光敏聚合物)。
接著，采用0.5wt％的氫氧化鉀水溶液作為顯影流體，將顯影過(guò)程施加到用于傳輸屏幕的屏幕件40秒鐘。
接著，用純水清洗并用氮(N2)氣(用于去除純水)進(jìn)行干燥。此外，將200℃、30分鐘的后烘干施用到顯微透鏡基片。這樣，形成具有多個(gè)對(duì)應(yīng)各個(gè)顯微透鏡開口的黑色矩陣。黑色矩陣的厚度為2μm，開口的直徑為45μm。
接著，包括負(fù)光敏聚合物(CSP-SO25(由富士膠卷ARCH制造))、光線漫射介質(zhì)(每個(gè)都具有5μm直徑的石英珠粒)的第二材料施用到黑色矩陣已經(jīng)利用滾子涂機(jī)形成于其上的面上以形成第二層。此外，第二層的光線漫射介質(zhì)含量為25wt％。
接下來(lái)，對(duì)顯微透鏡基片施用90℃的預(yù)焙處理30分鐘。
接著，將作為100mJ/cm2平行光線的紫外線從相對(duì)形成凹面部分的面的面照射到具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片。在此情況下，照射的紫外線通過(guò)各個(gè)顯微透鏡聚集，并選擇地在顯微透鏡焦點(diǎn)f附近曝光第二層(光敏聚合物)。
接著，采用CD-2000(由富士膠卷ARCH制造)作為顯影流體，將顯影過(guò)程施加到用于傳輸屏幕的屏幕件40秒鐘。
接著，用純水清洗并用氮(N2)氣(用于去除純水)進(jìn)行干燥。此外，將200℃、30分鐘的后烘干加工施用到顯微透鏡基片。這樣，在對(duì)應(yīng)多個(gè)開口的部分上形成凸形光線漫射部分(凸出部分)。形成的光線漫射部分的高度為5μm。這樣，形成的光線漫射部分形成為凸出部分，而不形成于短于每個(gè)凸出部分的頂點(diǎn)的高度的部分(不形成凸出部分)的平面部分(其表面平行于顯微透鏡基片的光線發(fā)射表面)不形成于黑色矩陣上。
接著，通過(guò)從屏幕件上去除具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片，獲得用于傳輸屏幕的屏幕件。
在以此方式獲得的用于傳輸屏幕的屏幕件中，當(dāng)平行光線從形成顯微透鏡的面進(jìn)入到用于傳輸屏幕的屏幕件中時(shí)，每個(gè)顯微透鏡的焦點(diǎn)f位于在光線發(fā)射方向離開黑色矩陣的光線發(fā)射面3μm的部分。此外，當(dāng)從用于傳輸屏幕的屏幕件頂部觀看時(shí)，作為凸出部分的光線漫射部分所占總面積(投影面積)相對(duì)顯微透鏡所占總面積的比為70％。此外，當(dāng)從用于傳輸屏幕的屏幕件頂部觀看時(shí)，開口所占總面積(投影面積)相對(duì)顯微透鏡所占總面積的比為50％。
通過(guò)組裝上述制造的用于傳輸屏幕的屏幕件和通過(guò)擠壓模塑成形制造的菲涅耳透鏡部分，可以獲得如圖3所示的傳輸屏幕。
(實(shí)施例2)除了每個(gè)掩模和后面保護(hù)膜形成為氧化鉻膜外，以與實(shí)施例1同樣的方式制造傳輸屏幕。在此情況下，掩模和后面保護(hù)膜利用噴鍍法形成。氧化鉻膜的厚度為0.03μm。
(實(shí)施例3)除了每個(gè)掩模和后面保護(hù)膜形成為鉻/氧化鉻膜的層壓件(氧化鉻層壓在鉻的外表面的層壓件)外，以與實(shí)施例1同樣的方式制造傳輸屏幕。在此情況下，掩模和后面保護(hù)膜利用噴鍍法形成。鉻膜的厚度為0.02μm，氧化鉻膜的厚度為0.02μm。
(實(shí)施例4)除了每個(gè)掩模和后面保護(hù)膜形成為氧化鉻/鉻膜的層壓件(鉻層壓在氧化鉻的外表面的層壓件)外，以與實(shí)施例1同樣的方式制造傳輸屏幕。在此情況下，掩模和后面保護(hù)膜利用噴鍍法形成。氧化鉻膜的厚度為0.02μm，鉻膜的厚度為0.02μm。
(比較實(shí)施例1)以上述利用上述實(shí)施例1制造的具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片同樣的方法制造顯微透鏡基片。
接著，去除用于擠壓UV-固化樹脂的平板，作為光線遮蔽材料的碳黑分散進(jìn)PC-403(由JSR公司制造)的合成物中，利用滾子涂機(jī)施加到顯微透鏡基片的光線發(fā)射面(即，曝光的顯微透鏡表面)。然后，將90℃、30分鐘的熱處理施用到顯微透鏡基片，從而固化合成物并形成光線遮蔽涂層。
接著，將利用照相平版法(即，通過(guò)將具有預(yù)定圖形的光線照射到已經(jīng)形成光線遮蔽涂層的顯微透鏡基片的面上)形成的掩膜和蝕刻加工施用到顯微透鏡基片。然后，將200℃、60分鐘的熱處理施加到顯微透鏡基片以固化合成物，從而形成在對(duì)應(yīng)光線遮蔽涂層上的各個(gè)顯微透鏡的部分上具有開口的黑色矩陣。形成的黑色矩陣的厚度為2μm，開口的直徑為45μm。
接著，將光線漫射介質(zhì)(直徑為5um的二氧化硅珠粒)分散進(jìn)負(fù)光敏聚合物(CSPSO25(JSR公司制造))的合成物施加到利用滾子涂機(jī)已經(jīng)形成的黑色矩陣的整個(gè)面上。然后，將200℃、60分鐘的熱處理施用到顯微透鏡基片，從而固化合成物并形成層狀的光線漫射部分。形成的光線漫射部分(光線漫射層)的厚度為6μm。
接著，通過(guò)從屏幕件上去除具有用于顯微透鏡的凹面部分的基片，獲得用于傳輸屏幕的屏幕件。
通過(guò)組裝上述制造的用于傳輸屏幕的屏幕件和通過(guò)擠壓模塑成形制造的菲涅耳透鏡部分，獲得傳輸屏幕。
(比較實(shí)施例2)首先，制備具有1.2m×0.7m和4.8m厚的矩形堿石灰玻璃基片。
堿石灰玻璃基片浸泡在包含4wt％二氟化氫銨和8wt％過(guò)氧化氫的清洗液體中以進(jìn)行6μm的蝕刻加工，從而清洗其表面。
然后，用純水清洗并用氮(N2)氣(用于去除純水)進(jìn)行干燥。
接著，每個(gè)都具有0.03μm厚的鉻膜(掩膜和后面保護(hù)膜)通過(guò)噴鍍方法形成于堿石灰玻璃基片上。即，每個(gè)都由鉻膜制作的掩膜和后面保護(hù)膜形成于堿石灰玻璃基片的表面上。
接著，對(duì)掩膜進(jìn)行激光加工以在掩膜中心部分113cm×65cm的區(qū)域內(nèi)彼此平行地形成大量的直線槽(孔)。相鄰直線槽之間的間距為70μm。
這樣，利用YAG激光器在1mW的能量強(qiáng)度、3μm的光束直徑、以及60×10-9秒的條件下進(jìn)行激光加工。接著，堿石灰玻璃基片經(jīng)過(guò)濕蝕刻加工，從而在堿石灰玻璃基片上形成槽狀凹面部分。形成的槽狀凹面部分具有彼此基本同樣的曲率(35μm)此時(shí)，包含4wt％二氟化氫銨和8wt％過(guò)氧化氫的水溶液作為蝕刻劑用于濕蝕刻，而基片的浸泡時(shí)間為5小時(shí)。
接著，通過(guò)利用硝酸銨鈰和高氯酸的混合溶液進(jìn)行蝕刻加工以去除氧化鉻膜(掩膜和后面保護(hù)膜)。
然后，用純水清洗并用N2氣(用于去除純水)進(jìn)行干燥。
結(jié)果，可以獲得大量用于雙凸透鏡的凹面部分(槽)形成于堿石灰玻璃基片上的具有用于雙凸透鏡的凹面部分的薄片狀基片。
接著，將脫模劑(GF-6110)施加到上述獲得的形成凹面部分的具有用于雙凸透鏡的凹面部分的基片，并將未聚合(未固化)的紫外線(UV)固化樹脂(UV-固化樹脂)(V-2403(由日本鋼化學(xué)株式會(huì)社生產(chǎn)))施加到同樣面的側(cè)面。此時(shí)，基本球形的間隔裝置(每個(gè)都具有30μm的直徑)設(shè)置在上述未形成的具有用于雙凸透鏡的凹面部分的基片的凹面部分的上面區(qū)域。
接著，用由無(wú)堿玻璃組成的平板擠壓(推)UV-固化樹脂。此時(shí)，進(jìn)行此加工以便空氣不會(huì)進(jìn)入到平板和UV-固化樹脂之間。在此情況下，當(dāng)推UV-固化樹脂時(shí)，將脫模劑(GF-6110)事先施加到UV-固化樹脂已經(jīng)接觸的平板的面上。
然后，通過(guò)照射10,000mJ/cm2的紫外線通過(guò)平板，固化UV-固化樹脂以獲得雙凸透鏡基片。獲得的雙凸透鏡基片的折射率為1.5。此外，獲得的雙凸透鏡基片的樹脂層厚度為150μm，而多個(gè)雙凸透鏡的每個(gè)曲率半徑分別為35μm。
接著，去除用于擠壓UV-固化樹脂的平板，作為光線遮蔽材料的碳黑分散進(jìn)PC-403(由JSR公司制造)的合成物利用滾子涂機(jī)施加到雙凸透鏡基片的光線入射面(曝光的雙凸透鏡基片的表面，即，形成雙凸透鏡的面)。然后，將200℃、60分鐘的熱處理施加到雙凸透鏡基片，從而固化合成物并形成光線遮蔽涂層。
接著，將利用照相平版法(即，通過(guò)將具有預(yù)定圖形的光線照射到已經(jīng)形成光線遮蔽涂層的雙凸透鏡基片的面上)形成的掩膜和蝕刻加工施用到雙凸透鏡基片，從而形成在對(duì)應(yīng)光線遮蔽涂層上的各個(gè)雙凸透鏡的部分上具有開口的黑帶(光線遮蔽層)。形成的黑帶的厚度為2μm，開口的寬度為35μm。
接著，將光線漫射介質(zhì)(每個(gè)都具有5μm直徑的石英珠)分散進(jìn)負(fù)光敏聚合物(CSPSO25(富士膠卷ARCH制造))的合成物施加到利用滾子涂機(jī)已經(jīng)形成的黑帶的整個(gè)面上。然后，將200℃、60分鐘的熱處理施用到顯微透鏡基片，從而固化合成物并形成層狀的光線漫射部分。形成的光線漫射部分(光線漫射層)的厚度為40μm。
接著，通過(guò)從屏幕件上去除具有用于雙凸透鏡的凹面部分的基片，獲得用于傳輸屏幕的屏幕件。
通過(guò)組裝上述制造的用于傳輸屏幕的屏幕件和通過(guò)擠壓模塑成形制造的菲涅耳透鏡部分，獲得傳輸屏幕。
(傳輸屏幕的評(píng)價(jià))測(cè)量實(shí)施例1到4和比較實(shí)施例1和2每個(gè)制造的傳輸屏幕的光線使用效率。用于光線使用效率的測(cè)量在傳輸這些實(shí)施例每個(gè)的傳輸屏幕的光線量相對(duì)沒(méi)有任何傳輸屏幕的光線量的比利用具有累計(jì)球的分光光度計(jì)予以測(cè)量的條件下進(jìn)行。
結(jié)果，在實(shí)施例1到4每個(gè)制造的傳輸屏幕中，可以獲得70％的優(yōu)良光線使用效率。另一方面，在比較實(shí)施例1和2制造的傳輸屏幕中，僅僅分別可以獲得55％和52％的光線使用效率。
(后投影的制造及其評(píng)價(jià))如圖7所示的后投影利用實(shí)施例1到4和比較實(shí)施例1和2中每個(gè)制造的傳輸屏幕進(jìn)行制造(裝配)。
當(dāng)樣品圖像顯示在獲得的后投影的每個(gè)中的傳輸屏幕上時(shí)，對(duì)在水平和垂直兩個(gè)方向的視角進(jìn)行測(cè)量。
視角的測(cè)量在用測(cè)角光度計(jì)以5度的間隔進(jìn)行測(cè)量的條件下進(jìn)行。
結(jié)果，可以確定，設(shè)置有實(shí)施例1中獲得的傳輸屏幕的后投影具有水平方向(光線量變?yōu)橐话氲慕嵌?的視角為22°和垂直方向的視角為22°的優(yōu)良視角特性。此外，在此后投影中，圖像為明亮顯示且不會(huì)出現(xiàn)波紋。此外，在設(shè)置有實(shí)施例2中獲得的各自傳輸屏幕的后投影中，也可以獲得同樣的效果。
另一方面，在設(shè)置有比較實(shí)施例1和2中獲得的各自傳輸屏幕的后投影中，不能獲得充分的特性。
即，在設(shè)置有比較實(shí)施例1中獲得的各自傳輸屏幕的后投影中，垂直和水平方向的視角分別為18°、18°。此外，在設(shè)置有比較實(shí)施例2中獲得的各自傳輸屏幕的后投影中，垂直和水平方向的視角分別為8°、23°。在比較實(shí)施例1和2中獲得的具有傳輸屏幕的后投影分別具有較差的視角特性。此外，在比較實(shí)施例1和2每個(gè)的后投影中，與本發(fā)明(即，實(shí)施例1到4的后投影)的每個(gè)后投影相比，投影到傳輸屏幕的圖像較黑。
權(quán)利要求
1.一種制造用于傳輸屏幕的屏幕件方法，所述方法包括步驟制備具有光線入射面和相對(duì)光線入射面的光線發(fā)射面的透鏡基片，透鏡基片的光線入射面形成有多個(gè)用于聚集入射光線的透鏡部分；由透鏡基片的光線發(fā)射面上的第一層形成光線遮蔽層，以便在通過(guò)透鏡基片的透鏡部分傳遞光線的光線路徑上，光線遮蔽層具有多個(gè)開口；以及形成用于漫射已通過(guò)透鏡基片的每個(gè)透鏡部分傳遞的光線的多個(gè)光線漫射部分；其中光線漫射部分形成步驟包括通過(guò)施加包含負(fù)光敏聚合物的材料到光線遮蔽層以在光線遮蔽層上形成第二層；通過(guò)使光線從透鏡基片的光線入射面進(jìn)入透鏡基片以曝光第二層，以便通過(guò)每個(gè)透鏡部分聚集光線，然后通過(guò)聚集的光線照射第二層；以及顯影第二層，以便已通過(guò)聚集的光線曝光的第二層的部分保持原樣不變。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于光線遮蔽層形成步驟包括通過(guò)將包括正光敏聚合物的材料施加到透鏡基片的光線發(fā)射面，在透鏡基片的光線發(fā)射面上形成第一層；通過(guò)使光線從透鏡基片的光線入射面進(jìn)入透鏡基片以曝光第一層，以便通過(guò)每個(gè)透鏡部分聚集光線，然后通過(guò)聚集的光線照射第一層；以及顯影第一層，以便去除已通過(guò)聚集的光線曝光的第一層的部分，從而形成多個(gè)開口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于透鏡基片的每個(gè)透鏡部分都設(shè)計(jì)成以便進(jìn)入每個(gè)透鏡部分的光線都聚焦在超出光線遮蔽層的透鏡基片的光線發(fā)射面的側(cè)面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于每個(gè)光線漫射部分都形成為凸出部分，所述凸出部分從位于對(duì)應(yīng)光線遮蔽層開口位置處的光線遮蔽層的表面凸出。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于當(dāng)從透鏡基片的光線入射面頂部觀看時(shí)，由凸出部分所占的總面積與透鏡部分所占的總面積之比在5到99％的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，呈凸出形式的多個(gè)光線漫射部分彼此獨(dú)立地形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于當(dāng)從透鏡基片的光線入射面頂部觀看時(shí)，光線漫射部分所占的總面積與透鏡部分所占的總面積之比在5到99％的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于用于傳輸屏幕的屏幕件具有主表面，每個(gè)光線漫射部分的長(zhǎng)度在垂直于用于傳輸屏幕的屏幕件的主表面方向?yàn)?到450μm的范圍內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于用于傳輸屏幕的屏幕件具有主表面，而每個(gè)透鏡部分的焦點(diǎn)在垂直于用于傳輸屏幕的屏幕件的主表面方向基本位于相應(yīng)光線漫射部分的中心部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于透鏡基片采用設(shè)置有對(duì)應(yīng)透鏡基片的多個(gè)透鏡部分的凹面部分的基片制造。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于透鏡基片的光線入射面具有形成多個(gè)透鏡部分的可用面積，其中當(dāng)從透鏡基片的光線入射面頂部觀看時(shí)，透鏡部分所占的總面積與透鏡基片的可用面積之比為90％或更多。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，每個(gè)透鏡部分都形成顯微透鏡。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于多個(gè)顯微透鏡形成為以便當(dāng)從透鏡基片的光線入射面頂部觀看時(shí)，以無(wú)規(guī)則方式設(shè)置。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，多個(gè)顯微透鏡的曲率半徑彼此基本相同。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，每個(gè)顯微透鏡的直徑在10到500μm的范圍內(nèi)。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，每個(gè)開口的直徑在9到500μm的范圍內(nèi)。
17.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述方法制造的用于傳輸屏幕的屏幕件。
18.一種包括權(quán)利要求17所述用于傳輸屏幕的屏幕件的傳輸屏幕。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的傳輸屏幕，還包括具有多個(gè)菲涅耳透鏡的菲涅耳透鏡部分，所述菲涅耳透鏡部分具有發(fā)射面并且所述多個(gè)菲涅耳透鏡形成于發(fā)射面上，其中傳輸屏幕設(shè)置在菲涅耳透鏡部分的發(fā)射面的側(cè)面上。
20.一種包括權(quán)利要求17所述的用于傳輸屏幕的屏幕件的后投影。
21.一種具有傳輸屏幕的后投影，所述傳輸屏幕包括權(quán)利要求18所述的用于傳輸屏幕的屏幕件。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的后投影，還包括投影光學(xué)單元；以及光線導(dǎo)向鏡。
全文摘要
一種制造用于傳輸屏幕的屏幕件(1)的方法，包括步驟制備顯微透鏡基片(3)，其光線入射面形成有多個(gè)顯微透鏡(32)的；通過(guò)將包括正光敏聚合物的材料施加到顯微透鏡基片(3)的光線發(fā)射面上制作的第一層形成黑色矩陣(4)，將黑色矩陣形成在顯微透鏡基片(3)的光線發(fā)射面上，以便黑色矩陣(4)在通過(guò)顯微透鏡基片(3)的顯微透鏡(32)傳遞光線的光線路徑上具有多個(gè)開口(41)；以及形成用于漫射通過(guò)由第二層制作的顯微透鏡基片(3)的每個(gè)顯微透鏡(32)傳遞的光線的多個(gè)光線漫射部分(5)，其中所述第二層由將包括負(fù)光敏聚合物的材料施加到黑色矩陣(4)上進(jìn)行制造。
文檔編號(hào)H04N5/74GK1595284SQ20041007680
公開日2005年3月16日 申請(qǐng)日期2004年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月8日
發(fā)明者清水信雄 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社