專利名稱：制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總地涉及一種移動(dòng)通信終端。更具體地，本發(fā)明涉及制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法。
背景技術(shù)：
通常，術(shù)語“移動(dòng)通信終端”指的是隨用戶攜帶以在用戶與通信伙伴之間進(jìn)行通信 (諸如語音通信或文本信息發(fā)送/接收)的設(shè)備。近年來已經(jīng)經(jīng)歷了移動(dòng)通信技術(shù)上的創(chuàng)新進(jìn)展，使得用戶能通過移動(dòng)通信終端來下載由移動(dòng)通信服務(wù)供應(yīng)商提供的各種內(nèi)容并將該內(nèi)容存儲(chǔ)在移動(dòng)通信終端中用于在移動(dòng)通信終端上使用或者在線享用這些內(nèi)容。移動(dòng)通信服務(wù)在它們的早期階段提供簡(jiǎn)單的語音通信或文本信息發(fā)送/接收，現(xiàn)在能夠附加地進(jìn)行大量信息的實(shí)時(shí)發(fā)送/接收，從各種游戲內(nèi)容和靜止圖像/電影的發(fā)送 /接收到視頻通信。移動(dòng)通信服務(wù)在分配的頻帶中提供，該分配的頻帶可以在地理上不同和/或在不同服務(wù)供應(yīng)商之間不同。近來，通過單個(gè)移動(dòng)通信終端已經(jīng)可獲得在不同頻帶中提供的移動(dòng)通信服務(wù)。同時(shí)，隨著在其早期階段集中在語音通信或短信息發(fā)送的移動(dòng)通信服務(wù)現(xiàn)在多樣化為從游戲內(nèi)容和靜止圖像/電影的傳輸?shù)揭曨l通信，終端制造者已經(jīng)不斷努力以提供具有大屏幕的越來越小的終端。也就是，移動(dòng)通信終端需要易于攜帶，并且在視頻通信或觀看電影期間使得用戶以足夠大的屏幕享受多媒體服務(wù)。在便攜性和使用多媒體服務(wù)的便利方面，具有觸摸屏的便攜終端迅速地得到廣泛使用，該觸摸屏能夠提供鍵盤功能作為輸入器件并提供顯示功能作為輸出器件。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題為了通過單個(gè)移動(dòng)通信終端使用在不同頻帶中提供的移動(dòng)通信服務(wù)，移動(dòng)通信終端必須裝備有在各個(gè)頻帶中操作的天線。然而，由于天線的本性，在不同頻帶中操作的天線之間產(chǎn)生的干擾會(huì)導(dǎo)致在縮小的終端中安裝多個(gè)天線上的許多困難。此外，近來的趨勢(shì)朝向內(nèi)置天線(其設(shè)置在終端的殼體中)，已經(jīng)加劇了這些困難。此外，由于天線的特性會(huì)受到相鄰電路器件或者終端殼體的形狀以及在不同頻帶操作的天線之間的干擾的顯著影響，所以通過不可避免地引入大量試驗(yàn)的試錯(cuò)過程(trial and error process)來設(shè)計(jì)用于新型終端的天線。換句話說，對(duì)于新型號(hào)終端，用戶僅能直觀地識(shí)別終端的外觀和功能變化。然而，為了設(shè)計(jì)用于新型號(hào)終端的天線器件以具有足夠的性能，終端的電路布局和殼體的形狀以及天線器件的設(shè)計(jì)經(jīng)歷了許多反復(fù)試驗(yàn)。天線設(shè)計(jì)過程中進(jìn)行的反復(fù)試驗(yàn)需要許多工時(shí)并且昂貴，從而增加了終端的制作成本。此外，天線一般需要共振頻率的1/4波長(zhǎng)或1/2波長(zhǎng)的電長(zhǎng)度(electricallength)。在高頻帶(例如，在約1. 8GHz或2. IGHz的頻帶)操作的天線相對(duì)易于縮小尺寸。 相反，在低頻帶(例如，在約800MHz的頻帶)操作的天線比在高頻帶操作的天線需要更大的實(shí)體安裝空間。因此，在多頻帶天線的設(shè)計(jì)中，在獲得安裝空間并且保證在低頻帶操作的天線相對(duì)于在高頻帶操作的天線的獨(dú)立操作特性方面存在許多困難。技術(shù)方案本發(fā)明的方面解決了至少上述問題和/或缺點(diǎn)并且提供了至少以下描述的優(yōu)點(diǎn)。 因此，本發(fā)明的方面提供了用于制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法，其有助于縮小移動(dòng)通信終端的尺寸。本發(fā)明的另一方面提供了一種用于制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法，其使得即使當(dāng)移動(dòng)通信終端的型號(hào)改變時(shí)天線器件的特性易于被控制。本發(fā)明的另一方面提供了一種用于制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法，其通過更容易地控制天線器件的特性能夠減少設(shè)計(jì)天線器件所需的工時(shí)和成本。此外，本發(fā)明的另一方面提供了一種用于制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法， 其能夠保證在各個(gè)多頻帶操作的天線的獨(dú)立操作特性并且有助于縮小移動(dòng)通信終端的尺寸。根據(jù)本發(fā)明的方面，提供了一種用于制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法。該方法包括根據(jù)可用的頻帶來選擇輻射圖案；選擇和制造用于調(diào)節(jié)所選擇的輻射圖案的共振頻率的磁介質(zhì)模塊(magneto dielectric module)；選擇和制造用于調(diào)節(jié)所選擇的輻射圖案的共振頻率的介質(zhì)模塊(dielectric module)；從圖案選擇步驟中選定的輻射圖案中選擇和制造具有終端所需的大量共振頻率的輻射圖案；以及選擇磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊中的至少一個(gè)并將其安裝在輻射圖案中，從而將輻射圖案的共振頻率調(diào)諧為終端所需的共振頻率。選擇和制造輻射圖案可以包括通過在嵌入于終端中的電路板上形成印刷電路來形成輻射圖案。在選擇和安裝磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊中至少一個(gè)到輻射圖案中的步驟中，如果選擇了至少一個(gè)磁介質(zhì)模塊，所選擇的磁介質(zhì)模塊可以鄰近輻射圖案的饋電端(feeding end)安裝。每個(gè)磁介質(zhì)模塊通過以下步驟制造形成由磁介質(zhì)材料制成的主體；以及在主體的外周表面上安裝導(dǎo)體。導(dǎo)體可以為圍繞主體纏繞一次或兩次的螺旋形，或者可以提供為圍繞主體的外周表面。磁介質(zhì)材料可以具有2 9的磁導(dǎo)率。在選擇和安裝磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊的至少一個(gè)到輻射圖案中的步驟中，如果選擇了至少一個(gè)介質(zhì)模塊，所選擇的介質(zhì)模塊可以與輻射圖案的饋電端間隔開并可以鄰近輻射圖案的端部安裝。介質(zhì)模塊可以具有1 10的介電常數(shù)。選擇和安裝磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊中的至少一個(gè)到輻射圖案中可以進(jìn)一步包括通過表面安裝在輻射圖案中安裝分離的輻射體(radiator)，該輻射體通過在金屬片上執(zhí)行金屬片加工(metal sheet working)來制造。該方法還可以包括，在選擇和制造輻射圖案之后，形成另一輻射圖案，該另一輻射圖案與輻射圖案相鄰并且間隔開。該另一輻射圖案可以是由從接地(ground)或輻射圖案泄漏的電流饋電的間隙耦合線(gap coupling line)。
該方法還可以包括，在選擇和制造輻射圖案之后，形成鄰近輻射圖案的另一輻射圖案以及用于將該另一輻射圖案選擇性地連接到輻射圖案的開關(guān)模塊。至少一對(duì)其他輻射圖案可以被單獨(dú)形成，開關(guān)模塊可以將該對(duì)其他輻射圖案中的一個(gè)連接到輻射圖案。另一輻射圖案可以形成為與電路板的接地連接。如果終端的規(guī)格改變，也就是另一型號(hào)的終端被制造，則通過重復(fù)進(jìn)行選擇和制造輻射圖案以及選擇和安裝磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊中的至少一個(gè)到輻射圖案中，能夠制造適合于新型號(hào)的天線器件。從以下結(jié)合附圖并公開了發(fā)明的示范性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其他方面、 優(yōu)點(diǎn)和重要特征對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員將變得明顯。本發(fā)明的有益效果用于制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法能夠通過使用在第一和第二選擇步驟中選定的一個(gè)或多個(gè)磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊而容易地控制在圖案形成步驟中形成的輻射圖案的操作特性，尤其是其共振頻率。因此，輻射圖案的操作特性能夠通過從已經(jīng)選定的磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊中選擇適合的一個(gè)而控制，另一型號(hào)的移動(dòng)通信終端的天線器件能夠通過從先前選擇的輻射圖案中選擇另一個(gè)而容易地制造。因此，能夠減少天線器件設(shè)計(jì)過程中的反復(fù)試驗(yàn)，并且能夠減少設(shè)計(jì)新天線器件所需的工時(shí)和成本。換句話說，雖然在初始階段輻射圖案、磁介質(zhì)模塊、介質(zhì)模塊和輻射體的過程會(huì)需要許多時(shí)間和精力，但是這些在設(shè)計(jì)和測(cè)試以及基于測(cè)試結(jié)果的重新設(shè)計(jì)的過程中也要進(jìn)行，它們?cè)诔Ｒ?guī)天線制造過程中已經(jīng)被重復(fù)進(jìn)行。通過改變?cè)谇笆鲞^程中選擇的元件的組合，能夠制造新的天線器件，從而減少設(shè)計(jì)或測(cè)試新天線器件所需的工時(shí)和成本。此外，磁介質(zhì)模塊具有降低輻射圖案的共振頻率的作用，有助于縮小天線器件的尺寸。換句話說，隨著共振頻率減小需要更大的電的和物理的輻射圖案，但是通過安裝磁介質(zhì)模塊，相同尺寸的輻射圖案能夠獲得更低的共振頻率，由此縮小天線器件的尺寸。此外，當(dāng)印刷電路圖案形式的二維QD)輻射圖案的操作特性僅利用磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊來控制時(shí)，在改進(jìn)天線器件的帶寬或效率上存在限制。然而，通過安裝由金屬片加工制造的輻射體到輻射圖案中，可以改善天線器件的帶寬和效率。這是可行的，因?yàn)橥ㄟ^在2D形狀的天線器件中增加輻射體能夠形成三維(3D)輻射結(jié)構(gòu)。另外，通過安裝間隙耦合線或分離的輻射圖案和開關(guān)模塊，能夠在除了選定的輻射圖案的共振頻帶之外的頻帶獲得共振頻率，從而有助于實(shí)現(xiàn)在多頻帶操作的天線器件。


從以下結(jié)合附圖的描述，本發(fā)明的某些示范性實(shí)施例的上述和其他的方面、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更加明顯，附圖中圖1為根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法的流程圖；圖2為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的輻射圖案的平面圖，在制造天線器件的過程中該輻射圖案用于選擇控制共振頻率的磁介質(zhì)模塊；圖3為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在低頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形；
圖4為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在高頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形；圖5為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的天線器件的原型的透視圖，該天線器件用于測(cè)量輻射特性關(guān)于磁介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化的變化；圖6為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖5所示的天線器件在低頻帶中的輻射特性關(guān)于磁介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形；圖7為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖5所示的天線器件在高頻帶中的輻射特性關(guān)于磁介質(zhì)模塊的導(dǎo)磁率變化而發(fā)生的變化的圖形；圖8為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的天線器件的原型的透視圖，該天線器件用于測(cè)量根據(jù)是否使用磁介質(zhì)模塊以及磁介質(zhì)模塊的位置而發(fā)生的輻射特性變化；圖9為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)虛設(shè)被設(shè)置在圖8中示出的各種位置上， 取代磁介質(zhì)模塊時(shí)，天線器件在低頻帶中的輻射特性變化的圖形；圖10為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在圖8中示出的各種位置上時(shí)，天線器件在低頻帶中的輻射特性變化的圖形；圖11為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的輻射圖案的平面圖，該輻射圖案用于在制造天線器件的過程中選擇控制共振頻率的介質(zhì)模塊；圖12為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置時(shí)輻射圖案在低頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形；圖13為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置時(shí)輻射圖案在高頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形；圖14為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在低頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形；圖15為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在高頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形；圖16為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置Pl時(shí)天線器件在低頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形；圖17為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置Pl時(shí)天線器件在高頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形；圖18為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置P3時(shí)天線器件在低頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形；圖19為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置P3時(shí)天線器件在高頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形；圖20示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的能夠在制造天線器件的過程中添加到輻射圖案的輻射體；圖21為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)增加間隙耦合線時(shí)天線器件的輻射特性的圖形，從輻射體泄漏的電流饋電該間隙耦合線；圖22為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)增加間隙耦合線時(shí)天線器件的輻射特性的圖形，該間隙耦合線連接到接地并由從接地泄漏的電流饋電；圖23為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)增加間隙耦合線時(shí)天線器件的輻射特性的圖形，該間隙耦合線連接到接地并由從輻射體泄漏的電流和從接地泄露的電流饋電；圖M為根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例用于描述開關(guān)模塊的操作原理的視圖，該開關(guān)模塊能夠在制造天線器件的過程中添加到輻射圖案；圖25為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例在圖M所示的開關(guān)模塊操作之前和之后天線器件的輻射特性變化的圖形；圖沈示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例用于控制共振頻率以實(shí)現(xiàn)制造方法的選定的磁介質(zhì)模塊；圖27示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例從各種形狀的輻射體中選擇的輻射體，用于實(shí)現(xiàn)制造方法；圖觀示出由根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的制造方法制造的天線器件；圖四為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖觀所示的天線器件的輻射圖案的平面圖；圖30為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖觀所示的天線器件的磁介質(zhì)模塊的透視圖；圖31為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖觀所示的天線器件的輻射體的透視圖；以及圖32為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖觀所示的天線器件的輻射特性的圖形。應(yīng)當(dāng)注意在所有附圖中相似的附圖標(biāo)記用于指代相同或相似的元件、特征和結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式以下參照附圖的描述被提供用于幫助對(duì)于由權(quán)利要求及其等同物所定義的本發(fā)明的示范性實(shí)施例的充分理解。它包括各種具體細(xì)節(jié)以幫助理解，但這些應(yīng)被認(rèn)為僅是示范性的。因此，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將明白，能夠做出這里描述的實(shí)施例的各種變化和改進(jìn)而不脫離發(fā)明的范圍和精神。此外，為了清晰和簡(jiǎn)明，省略了對(duì)公知的功能和結(jié)構(gòu)的描述。在以下的描述和權(quán)利要求中使用的術(shù)語和詞匯不限于文獻(xiàn)的含義，而僅僅是被發(fā)明者使用以使得對(duì)本發(fā)明的理解能夠清楚和一致。因此，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員顯然的，本發(fā)明的示范性實(shí)施例的下文描述僅用于說明的目的而不是為了限制由權(quán)利要求及其等同物所定義的本發(fā)明。應(yīng)當(dāng)理解，單數(shù)形式也包括復(fù)數(shù)的對(duì)象，除非內(nèi)容清楚地指示另外的意思。因此， 例如，提及部件表面包括提及一個(gè)或多個(gè)這樣的表面。圖1為根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法的流程圖。參照?qǐng)D1，在制造方法10的步驟11中，獲得用于安裝天線器件的天線空間。在步驟12中，選擇輻射圖案。在步驟13中，選擇和/或制造磁介質(zhì)模塊或第一介質(zhì)模塊。在步驟14中，再次選擇和/或制造介質(zhì)模塊。在步驟15中，形成輻射圖案。在步驟16a中，形成第二輻射圖案。在步驟16b中，形成第三輻射圖案并且安裝開關(guān)模塊。在步驟17中，共振頻率被控制從而被調(diào)諧。此后，在步驟18中，通過在將被制造為實(shí)際產(chǎn)品的印刷電路板(PCB)上表面安裝(surface-mount)由前述步驟獲得的輻射圖案和磁介質(zhì)模塊來制造天線器件。在步驟13和步驟14中選擇和/或制造的磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊用于控制在步驟15 中形成的輻射圖案的共振頻率。在本發(fā)明的示范性實(shí)施例中，除了該輻射圖案之外，可以形成第二輻射圖案，以形成間隙耦合線，從而獲得除了輻射圖案的共振頻率之外的附加共振頻率。通過使用第三輻射圖案和開關(guān)模塊，可以變換輻射圖案的共振頻率。當(dāng)在步驟11中獲得天線空間時(shí)，在粗略地確定制造規(guī)格之后，獲得符合制造規(guī)格 (諸如，終端的外觀設(shè)計(jì))的用于在PCB上安裝天線器件的空間。在計(jì)劃終端的外觀設(shè)計(jì)階段可以分配此空間。通常，被分配到PCB的天線空間設(shè)置在PCB的上部或下部上以避免與其他電路器件干擾。同時(shí)，可以構(gòu)造內(nèi)置天線，使得輻射圖案113a形成在載體IOlb上(見圖5)或者 PCB形成在基板101上以直接在其上構(gòu)造輻射圖案113(見圖2)。在使用載體的內(nèi)置天線的情況下，形成發(fā)送單元的麥克風(fēng)或者形成接收單元的揚(yáng)聲器電話可以安裝在載體上，該載體通常設(shè)置在終端的上端部或下端部上。在其中輻射圖案形成在電路板上的內(nèi)置天線的情況下，輻射圖案通常形成在電路板的上端部或下端部上。一旦在步驟11中在終端或PCB上獲得了天線空間，在步驟12中根據(jù)將用于終端的移動(dòng)通信服務(wù)的可用頻帶來選擇粗略的輻射圖案。這里，“粗略的輻射圖案”根據(jù)獲得的天線空間和終端的可用頻帶被設(shè)計(jì)為類似于實(shí)際使用的最終輻射圖案。因此，粗略輻射圖案的具體設(shè)計(jì)需要根據(jù)電路布局和終端的殼體形狀等改變。應(yīng)當(dāng)注意，粗略輻射圖案可以通過使用導(dǎo)體形成在載體的外周表面上?？蛇x地，粗略輻射圖案可以通過在PCB上直接印刷導(dǎo)電材料而形成。根據(jù)終端的尺寸或形狀(例如，直板型、折疊型、滑動(dòng)型等)和終端的可用頻帶 (例如，SOOMhz左右的低頻帶或1. 8GHz或2. IGHz左右的高頻帶)，粗略的輻射圖案可以由幾種形式表示。更具體地，假設(shè)考慮到終端的便攜性，終端的尺寸在40 60mm(寬度)X 100 150mm(長(zhǎng)度)X 10 20mm(厚度)的范圍，那么終端的尺寸可以被分為三種尺寸也就是大、 中和小三者之一。終端的形狀和可用頻帶的某些示例已經(jīng)在上文描述。根據(jù)這種分類，用于小尺寸、直板型、可用頻帶為800MHz和1. 8GHz左右的雙頻帶的終端的天線器件所使用的輻射圖案可以被設(shè)計(jì)為兩個(gè)或三個(gè)類型。類似地，用于中尺寸、折疊型、可用頻帶為800MHz、 1. 8GHz和2. IGHz左右的三頻帶的終端的天線器件所使用的輻射圖案也可以被設(shè)計(jì)為兩個(gè)或三個(gè)類型。最終，根據(jù)終端的外觀和可用頻帶而能被使用的輻射圖案在有限數(shù)量的類型中選擇，例如，在天線器件的最初設(shè)計(jì)過程中的兩個(gè)或三個(gè)類型中選擇。由于天線器件所需的特性可以根據(jù)終端的具體設(shè)計(jì)而不同，所以即使當(dāng)終端形狀相同且使用相同的頻帶時(shí)， 天線設(shè)計(jì)者能夠從選定的輻射圖案中選擇適當(dāng)?shù)妮椛鋱D案并將適當(dāng)?shù)妮椛鋱D案應(yīng)用到終端。如果終端的尺寸、形狀和可用頻帶被分類并且每個(gè)類別的輻射圖案的數(shù)量限制為一個(gè)，那么輻射圖案必須被重新設(shè)計(jì)，即使如果發(fā)生設(shè)計(jì)條件上的微小變化，諸如終端的設(shè)計(jì)的變化。相似地，每個(gè)類別的過多輻射圖案會(huì)導(dǎo)致在選擇實(shí)際應(yīng)用到終端的輻射圖案上的困難。因此，考慮到這些，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)選擇適當(dāng)數(shù)量的輻射圖案，每個(gè)類別的輻射圖案的數(shù)量可以不必限于2或3。
在步驟13中，磁介質(zhì)模塊被選擇和/或制造用于控制在步驟12的圖案選擇中所選擇的輻射圖案的共振頻率。由于終端的具體設(shè)計(jì)或電路布局在步驟12的圖案選擇中沒有被充分考慮，所以即使當(dāng)選定的輻射圖案中的一個(gè)被選擇且被實(shí)際應(yīng)用于終端時(shí)，也需要控制選定的輻射圖案的輻射特性。因此，磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊在步驟13被選擇和/或制造并且在步驟14被再次選擇和/或制造，從而控制被實(shí)際應(yīng)用于終端的輻射圖案的輻射特性。圖2至圖10為用于描述根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例選擇磁介質(zhì)模塊的過程的視圖。首先，將描述選擇輻射圖案從而選擇磁介質(zhì)模塊的過程，該輻射圖案將被用于圖2 所示的在900 1000MHz頻帶和1. 8 1. 9GHz頻帶具有共振頻率的雙頻帶天線器件。圖2為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的輻射圖案的平面圖，在天線器件的制造過程中該輻射圖案用于選擇控制共振頻率的磁介質(zhì)模塊。參照?qǐng)D2，將要形成天線器件100的輻射圖案113包括天線空間111上使用導(dǎo)電材料的電路圖案，該天線空間111形成在電路板101的上端部上。接地G提供在電路板101 中，使得輻射圖案113的一部分被短路到接地G，饋電端115提供在輻射圖案113的端部。圖3為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在低頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形。圖4為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在高頻帶中的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形。參照?qǐng)D3和圖4，在應(yīng)用磁介質(zhì)模塊之前，輻射圖案113單獨(dú)的輻射特性由“P0”表
7J\ ο圖3和圖4示出當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的五個(gè)位置P1、P2、P3、P4和P5上時(shí)輻射圖案113的輻射特性的測(cè)試結(jié)果。通過將設(shè)置在輻射圖案113上的磁介質(zhì)模塊的介電常數(shù)和磁導(dǎo)率分別設(shè)定為1和12來進(jìn)行測(cè)試。在圖3和圖4中，當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在位置P3、P4和P5時(shí)，大的共振頻率變化發(fā)生在低頻帶，當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在位置P2、P4和P5時(shí)，大的共振頻率變化發(fā)生在高頻帶。 與將磁介質(zhì)模塊應(yīng)用到其之前的單獨(dú)輻射圖案113的共振頻率相比，當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在前述位置時(shí)共振頻率在低頻帶和高頻帶都降低。特別地，對(duì)于位置P4和P5，共振頻率在低頻帶和高頻帶降低了相似的量。位置P4和P5鄰近饋電端115，作為測(cè)量輻射圖案113的電場(chǎng)(E場(chǎng))和磁場(chǎng)(H場(chǎng))的結(jié)果，位置P4和P5處的H場(chǎng)比輻射圖案13的其他位置的更強(qiáng)。換句話說，為了通過使用磁介質(zhì)模塊來控制輻射圖案的共振頻率，期望將磁介質(zhì)模塊設(shè)置H場(chǎng)比輻射圖案的其他位置的H場(chǎng)更強(qiáng)的位置上。接著，通過使用天線器件200來測(cè)量關(guān)于磁介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而產(chǎn)生的輻射圖案的輻射特性變化，在天線器件200中輻射圖案113a由在載體IOlb的外周表面上的導(dǎo)體形成。圖5為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的天線器件的原型的透視圖，該天線器件用于測(cè)量關(guān)于磁介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的輻射特性變化。參照?qǐng)D5，示出了為了測(cè)量而制造的測(cè)試輻射圖案113a，其中輻射圖案113a也用于雙頻帶的天線器件200。安裝在輻射圖案113a上的磁介質(zhì)模塊201a設(shè)置在輻射圖案113a上的H場(chǎng)強(qiáng)的位置，該磁介質(zhì)模塊201a形成為方形桿(square rod)的伸長(zhǎng)形狀。隨著磁介質(zhì)模塊201a的磁導(dǎo)率從2到20的變化，測(cè)量輻射圖案113a的輻射特性變化。圖6為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的天線器件在低頻帶中的輻射特性關(guān)于圖5 所示的磁介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形。圖7為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的天線器件在高頻帶中的輻射特性關(guān)于圖5 所示的磁介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形。參照?qǐng)D6和圖7，示出在低頻帶和高頻帶關(guān)于磁介質(zhì)模塊201a的磁導(dǎo)率變化而產(chǎn)生的共振頻率變化。從圖6和圖7可以看出，在低頻帶和高頻帶兩者中，當(dāng)磁介質(zhì)模塊201a 的磁導(dǎo)率在2 9 ( S卩，mr2、mr3、mr6和mr9)的范圍內(nèi)時(shí)，都存在相對(duì)大的共振頻率變化。 然而，當(dāng)磁導(dǎo)率超過9(即，mrl2、mrl5和mr20)時(shí)，共振頻率與對(duì)應(yīng)于磁導(dǎo)率為9 ( S卩，mr9) 的共振頻率差別不大。因此，為了通過使用磁介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率來控制輻射圖案的共振頻率，期望將磁導(dǎo)率確定在2 9的范圍內(nèi)。在磁導(dǎo)率超過9的情況下，控制輻射圖案的共振頻率的有效性低。圖8為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的天線器件的原型的透視圖，該天線器件用于測(cè)量根據(jù)是否使用磁介質(zhì)模塊以及設(shè)置磁介質(zhì)模塊的位置而發(fā)生的輻射特性變化。參照?qǐng)D8，示出了示例，其中磁介質(zhì)模塊201通過圍繞由磁介質(zhì)材料制成的主體的外周表面纏繞導(dǎo)體成螺旋形來形成，磁介質(zhì)模塊201設(shè)置在倒F型天線圖案11 上的各個(gè)位置。與單獨(dú)依靠磁介質(zhì)材料相比，通過用導(dǎo)體纏繞或圍繞主體的外周表面，共振頻率可以被更有效地控制。圖9為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)虛設(shè)而不是磁介質(zhì)模塊被設(shè)置在圖8中示出的各個(gè)位置上時(shí)天線器件在低頻帶中的輻射特性變化的圖形。圖10為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)磁介質(zhì)模塊設(shè)置在圖8中示出的各個(gè)位置上時(shí)天線器件在低頻帶中的輻射特性變化的圖形。參照?qǐng)D9，示出了當(dāng)導(dǎo)體圍繞不使用磁介質(zhì)材料的虛設(shè)纏繞并設(shè)置在圖8所示的位置PI、P2和P3的每個(gè)時(shí)的共振頻率變化。參照?qǐng)D10，示出了當(dāng)導(dǎo)體圍繞由磁介質(zhì)材料制成的主體的外周表面纏繞以形成磁介質(zhì)模塊201并且磁介質(zhì)模塊201設(shè)置在圖8所示的位置P1、P2和P3的每個(gè)時(shí)的共振頻率變化。應(yīng)當(dāng)注意，在圖9和圖10中，由“Ant2”指示的測(cè)量值表示在設(shè)置虛設(shè)或磁介質(zhì)模塊201之前倒F型天線圖案11 的輻射特性。將圖9與圖10比較，可以看出，當(dāng)用導(dǎo)體卷繞虛設(shè)時(shí)共振頻率存在變化，但是通過在倒F型天線圖案11 上設(shè)置使用磁介質(zhì)材料的磁介質(zhì)模塊201，發(fā)生更大的共振頻率變化。從圖10也可以看出，隨著磁介質(zhì)模塊201更靠近饋電端設(shè)置，發(fā)生更大的共振頻率變化。圖沈示出了根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例用于控制共振頻率以實(shí)現(xiàn)制造方法的選定磁介質(zhì)模塊。參照?qǐng)D沈，示出了在前述測(cè)試之后被選擇的示范磁介質(zhì)模塊201。圖沈所示的磁介質(zhì)模塊201具有2mm(寬度)X4mm(長(zhǎng)度)X Imm(或2mm ；厚度)的尺寸并且導(dǎo)體圍繞磁介質(zhì)材料的外周表面纏繞一次或兩次。導(dǎo)體可以如圖8所示圍繞磁介質(zhì)材料的外周表面纏繞四次，但是考慮到諸如帶寬損失的電特性和通過表面安裝將磁介質(zhì)模塊201設(shè)置在輻射圖案上，磁介質(zhì)模塊201被選擇以滿足上述標(biāo)準(zhǔn)。如上所述，輻射圖案的共振頻率能夠通過使用磁介質(zhì)模塊來降低。也就是，即使當(dāng)使用相同尺寸的輻射圖案時(shí)，通過使用磁介質(zhì)模塊可以獲得更低的共振頻率。通常，低的可用頻帶可以增大天線的電長(zhǎng)度和物理長(zhǎng)度，阻礙了縮小尺寸的能力。在此情況下，通過安裝在具有小的電長(zhǎng)度和物理長(zhǎng)度的天線中(更具體地，在輻射圖案中)，磁介質(zhì)模塊可以降低共振頻率，從而有助于縮小內(nèi)置天線的尺寸。接著，將進(jìn)一步討論圖1的步驟14中的選擇，其涉及選擇和制造介質(zhì)模塊，該介質(zhì)模塊用于控制在圖1的步驟12中的圖案選擇中所選定的輻射圖案的共振頻率。在此步驟中，通過與步驟13中的選擇類似的過程來選擇和/或制造介質(zhì)模塊。圖11為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的輻射圖案的平面圖，該輻射圖案用于在制造天線器件的過程中選擇控制共振頻率的介質(zhì)模塊。參照?qǐng)D11，輻射圖案113a被示出為利用圖5所示的載體形成內(nèi)置天線。制造輻射圖案113a用于測(cè)量關(guān)于介質(zhì)模塊的位置而發(fā)生的輻射特性變化的測(cè)試。圖12和圖13示出在安裝介質(zhì)模塊之前的輻射特性PO以及在圖11所示的輻射圖案113a的位置設(shè)置介質(zhì)模塊之后的輻射特性PI、P2、P3、P4和P5。圖12為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置時(shí)輻射圖案在低頻帶的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形。圖13為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置時(shí)輻射圖案在高頻帶的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形。圖14為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在低頻帶的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形。圖15為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的位置時(shí)輻射圖案在高頻帶的操作特性的測(cè)試結(jié)果的圖形。參照?qǐng)D12至圖15，示出當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖2所示的印刷電路的輻射圖案113中的位置時(shí)輻射特性的測(cè)試的結(jié)果。應(yīng)當(dāng)注意，通過使用具有介電常數(shù)為10和磁導(dǎo)率為1的介質(zhì)模塊已經(jīng)獲得了圖12至圖15所示的輻射特性測(cè)試結(jié)果。在圖12和圖13中，可以看出，在使用載體的內(nèi)置天線200中，當(dāng)介質(zhì)模塊在低頻帶設(shè)置在Pl處而在高頻帶設(shè)置在P3處時(shí)，共振頻率發(fā)生了大的變化。在圖14和圖15中也可以看出，在印刷電路的輻射圖案113中設(shè)置介質(zhì)模塊對(duì)于共振頻率控制更有效。換句話說，當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在具有印刷電路中的輻射圖案的內(nèi)置天線100中時(shí)，大的共振頻率變化在低頻帶發(fā)生在P2和P3處而在高頻帶發(fā)生在Pl和P5處。對(duì)于發(fā)生大的共振頻率變化的介質(zhì)模塊的位置的分析表明，這些位置具有比輻射圖案中的其他位置更強(qiáng)的電場(chǎng)并且是與饋電端間隔開的位置，更具體地，是輻射圖案的與饋電端間隔開的端部。接著，介質(zhì)模塊設(shè)置在使用載體的內(nèi)置天線200中，測(cè)量共振頻率關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率的變化。圖16為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置Pl時(shí)天線器件在低頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形。圖17為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置Pl時(shí)天線器件在高頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形。圖18為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置P3時(shí)天線器件在低頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形。圖19為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在圖11所示的位置P3時(shí)天線器件在高頻帶中的輻射特性關(guān)于介質(zhì)模塊的磁導(dǎo)率變化而發(fā)生的變化的圖形。參照?qǐng)D16至圖19，示出包括測(cè)量結(jié)果的圖形。在圖16和17中，示出當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在Pl處時(shí)的測(cè)量結(jié)果，其對(duì)低頻帶的共振特性有大的影響。在圖18和19中，示出當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在P3處時(shí)的測(cè)試結(jié)果，其對(duì)高頻帶的共振特性有大的影響。這里，內(nèi)置天線200的設(shè)置在Pl和P3處的介質(zhì)模塊的介電常數(shù)從5逐漸變化到 40，以測(cè)量對(duì)于共振頻率的影響。從圖16和圖17可以看出，當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在內(nèi)置天線200的P2處并且其介電常數(shù)變化時(shí)，在低頻帶中，在介電常數(shù)為5(即，er5)時(shí)共振頻率發(fā)生大的變化，在介電常數(shù)超過5(即，erl0、er20和er40)時(shí)，與介電常數(shù)為5時(shí)的共振頻率相比，共振頻率發(fā)生很少的變化。在之前的測(cè)試中，當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在Pl處時(shí)在高頻帶發(fā)生很少的變化。然而，共振頻率在Pl處的變化由于介質(zhì)模塊的介電常數(shù)的變化而被檢測(cè)到。根據(jù)分析，該變化由低頻帶中的共振頻率引起的諧波分量(harmonic component)引起。從圖18和圖19可以看出，當(dāng)介質(zhì)模塊設(shè)置在內(nèi)置天線200的P3處并且其介電常數(shù)變化時(shí)，在高頻帶中當(dāng)介電常數(shù)超過10(即er20和er40)時(shí)共振頻率的變化是小的。之前的測(cè)試結(jié)果表明，當(dāng)介質(zhì)模塊的介電常數(shù)在1 10的范圍之外并且根據(jù)介質(zhì)模塊在輻射圖案中的位置而具有微小變化時(shí)，利用介電常數(shù)變化來控制共振頻率的有效性降低。介質(zhì)模塊也可以通過圍繞其外周表面纏繞導(dǎo)體而被圖案化，類似于上述的磁介質(zhì)模塊，通過以上試驗(yàn)可以選擇和/或制造三個(gè)或四個(gè)介質(zhì)模塊或更多介質(zhì)模塊。然而，磁介質(zhì)模塊的數(shù)量和介質(zhì)模塊的數(shù)量可以由本領(lǐng)域普通技術(shù)人員適當(dāng)?shù)剡x擇，類似于輻射圖案的數(shù)量。例如，輻射圖案的數(shù)量或磁介質(zhì)模塊的數(shù)量可以考慮制造者每年生產(chǎn)的終端的數(shù)量和每年發(fā)布的型號(hào)的數(shù)量而確定。一旦通過前述過程選擇輻射圖案、磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊，則通過圖1的步驟15 中的圖案形成來形成選定的輻射圖案，從選定的磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊中選擇適當(dāng)?shù)拇沤橘|(zhì)模塊和介質(zhì)模塊，從而獲得實(shí)際制造的終端所需的輻射特性?！矮@得輻射特性”指的是例如在圖1的步驟17中的共振頻率控制，這將被稱為“調(diào)諧步驟”。通過選擇選定的磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊中的至少一個(gè)來進(jìn)行共振頻率控制。如果不容易控制通過選定的磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊的組合形成的輻射圖案的特性，則實(shí)際輻射圖案通過在選定的輻射圖案中選擇另一個(gè)來形成，并且控制輻射圖案的共振頻率。如果需要可以改變實(shí)際形成的輻射圖案，但是終端實(shí)質(zhì)需要的輻射特性可以通過磁介質(zhì)模塊或介質(zhì)模塊的組合來獲得。由于印刷電路中的輻射圖案形成在平面上，所以它僅形成為二維QD)形狀。由于電路板的磁導(dǎo)率，這種限制使輻射圖案的發(fā)射/接收頻率帶寬變窄并且效率降低。為了解決這些問題，大多數(shù)商業(yè)移動(dòng)通信終端包括上述的使用載體的內(nèi)置天線。當(dāng)輻射圖案形成在載體的外周表面上時(shí)，載體以及輻射圖案不得不根據(jù)終端的設(shè)計(jì)或電路布局的改變而重新設(shè)計(jì)。這樣的缺點(diǎn)可以被印刷電路中的輻射圖案彌補(bǔ)，但是印刷電路中的輻射圖案使帶寬變窄或者效率降低。印刷電路中的輻射圖案的缺點(diǎn)也就是帶寬和效率問題可以通過將三維(3D)輻射體添加到印刷電路中的輻射圖案來解決。圖20示出了各種形狀的輻射體。圖20示出了根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例在制造天線器件的過程中能夠添加到輻射圖案的輻射體。參照?qǐng)D20，示出了輻射體的16個(gè)示范形狀。輻射體可以通過切割或彎曲金屬片的片金屬加工來制造，并安裝在輻射圖案上。優(yōu)選地，輻射體以允許表面安裝的規(guī)格制造，接地與實(shí)際輻射電磁波的部分之間的距離受到安裝輻射圖案控制，從而改善發(fā)射/接收頻率帶寬和效率。雖然圖20示出了 16種形狀的輻射體，但是，期望的是，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員適當(dāng)?shù)卮_定輻射體的數(shù)量，與上述輻射圖案或磁介質(zhì)模塊的數(shù)量類似。通過使用輻射體，天線器件的輻射特性可以在圖1的步驟17中的調(diào)諧中控制。換句話說，通過制造分離的輻射體并將其安裝在輻射圖案上，能夠提高帶寬或效率。圖27示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的從各種形狀的輻射體中選出的輻射體，用于實(shí)現(xiàn)制造方法。參照?qǐng)D27，示出用于改進(jìn)2D輻射圖案的帶寬或效率的實(shí)際制造的輻射體202。當(dāng)完成了共振頻率控制時(shí)，則完成了具有組合的天線器件，也就是輻射圖案、磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊的組合或者額外包括輻射體的組合。應(yīng)用到實(shí)際終端的天線器件基于完成的天線器件被批量制造。由于滿足終端的基本要求的輻射圖案、磁介質(zhì)模塊、介質(zhì)模塊和輻射體已經(jīng)制造成各種形狀，所以即使在設(shè)計(jì)終端的過程期間某些設(shè)計(jì)要求改變，天線器件的設(shè)計(jì)者也能夠通過使用已經(jīng)選定的元件來形成滿足改變的要求的天線器件。也就是，通過僅重復(fù)利用已經(jīng)選定的輻射圖案和磁介質(zhì)模塊來控制輻射特性(更具體地，共振頻率)的步驟，可以制造適合于終端的改變要求的天線器件。即使從開始制造完全新的終端，適合于新終端的天線器件也可以通過先前選定/ 制造的輻射圖案和磁介質(zhì)模塊的適當(dāng)組合來制造，而不需要重新設(shè)計(jì)輻射圖案和磁介質(zhì)模塊。也就是說，能夠省略在常規(guī)天線設(shè)計(jì)工藝中已經(jīng)被重復(fù)的輻射圖案的重新設(shè)計(jì)和制造以及對(duì)制造的輻射圖案的特性測(cè)試。此外，根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的制造方法能夠通過形成間隙耦合線或額外的輻射圖案和開關(guān)模塊(即，圖1的步驟16a和16b)來獲得除了已經(jīng)制造的輻射圖案的共振頻率之外的額外的共振頻率或者改變共振頻率。間隙耦合線指的是在印刷電路中鄰近輻射圖案(“第一輻射圖案”)形成的附加輻射圖案(“第二輻射圖案”)。第二輻射圖案能夠獲得附加的共振頻率，而不用改變第一輻射圖案的輻射特性，諸如第一輻射圖案的共振頻率。換句話說，天線器件通過以鄰近雙頻帶的第一輻射圖案的間隙耦合線的形式形成第二輻射圖案來制造，從而形成在三個(gè)不同頻帶操作的天線器件。由于第二輻射圖案可以形成為印刷電路的形式，所以第二輻射圖案可以在形成第一輻射圖案期間容易地形成，而不引起額外成本。間隙耦合線形式的第二輻射圖案鄰近第一輻射圖案的饋電端設(shè)置并且由從饋電端泄漏的電流饋電而沒有連接到接地(“第一方案”)；第二輻射圖案連接到接地并且由通過第一輻射圖案的饋電而在接地中形成的電流饋電(“第二方案”)；或者第二輻射圖案連接到接地并且鄰近第一輻射圖案的饋電端設(shè)置，該饋電端由形成在第一輻射圖案中的電流和形成在接地中的電流饋電(“第三方案”)。圖21為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)增加了由從輻射體泄漏的電流饋電的間隙耦合線時(shí)天線器件的輻射特性的圖形。參照?qǐng)D21，示出當(dāng)?shù)诙椛鋱D案以上述第一方案形成在圖2所示的輻射圖案中時(shí)天線器件的輻射特性的測(cè)量結(jié)果。如上所述，輻射圖案自身具有在900 1000MHz的頻帶中和在1. 8 1. 9GHz的頻帶中的共振頻率。然而，當(dāng)?shù)诙椛鋱D案以第一方案形成時(shí)，共振頻率也能夠在2. 6GHz左右的頻帶中獲得，而原來的共振頻率沒有大的變化。圖22為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)增加了間隙耦合線時(shí)天線器件的輻射特性的圖形，該間隙耦合線連接到接地并且由從接地泄漏的電流饋電。參照?qǐng)D22，示出了當(dāng)?shù)诙椛鋱D案以上述第二方案形成在圖2所示的輻射圖案中時(shí)天線器件的輻射特性的測(cè)量結(jié)果。如圖22中可見，當(dāng)?shù)诙椛鋱D案以第二方案形成時(shí)， 共振頻率也能夠在2. 0 2. 2GHz頻帶中獲得，原來的共振頻率具有小的變化。圖23為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)增加了間隙耦合線時(shí)天線器件的輻射特性的圖形，該間隙耦合線連接到接地并且由從輻射體泄漏的電流和從接地泄漏的電流饋 H1^ ο參照?qǐng)D23，示出了根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例當(dāng)?shù)诙椛鋱D案利用第三方案形成在圖2所示的輻射圖案中時(shí)天線器件的輻射特性的測(cè)量結(jié)果。如圖23中可見，當(dāng)使用第三方案形成第二輻射圖案時(shí)，共振頻率也在2. 4GHz左右的頻帶中獲得，而原來的共振頻率中低頻帶的共振頻率具有小的變化。這樣，附加共振頻率可以通過形成間隙耦合線來獲得，從而使終端的可用頻帶多樣化。圖M為用于描述根據(jù)發(fā)明示范性實(shí)施例的開關(guān)模塊的操作原理的圖形，該開關(guān)模塊可以在制造天線器件的過程中添加到輻射圖案中。圖25為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例在圖M所示的開關(guān)模塊操作之前和之后天線器件的輻射特性變化的圖形。參照?qǐng)D24，示出了通過使用附加輻射圖案(“第三輻射圖案”)313a和31 及開關(guān)模塊203來控制共振頻率的結(jié)構(gòu)。參照?qǐng)D25，示出了隨著圖M所示的開關(guān)模塊203的操作，天線器件的輻射特性的變化，更具體地，輻射圖案113的輻射特性的變化。第三輻射圖案313a和31 與接地相連地成對(duì)形成，但是它們不必形成為一對(duì)， 也不必連接到接地G，只要它們通過開關(guān)模塊203選擇性連接到輻射圖案(“第一輻射圖案”)113，該輻射圖案113已經(jīng)形成在電路板上的印刷電路中。如果第三輻射圖案313a和 313b中的任一個(gè)通過開關(guān)模塊203的操作而連接到第一輻射圖案113，即使沒有被連接到接地G，整個(gè)輻射圖案的電長(zhǎng)度和物理長(zhǎng)度變得不同于第一輻射圖案113自身的電長(zhǎng)度和物理長(zhǎng)度，從而使得共振頻率不同。即使當(dāng)增加了使用間隙耦合線或開關(guān)模塊的結(jié)構(gòu)時(shí)，輻射圖案的輻射特性也能夠通過在圖1的步驟17的調(diào)諧中使用磁介質(zhì)模塊、介質(zhì)模塊和輻射體來控制。圖觀示出通過根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的制造方法制造的天線器件。
圖四為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖28所示的天線器件的輻射圖案的平面圖。參照?qǐng)D觀，示出了通過前述工藝制造的天線器件300。參照?qǐng)D28和圖四，第一輻射圖案113和第二輻射圖案204形成在PCB 101上，用于形成第一輻射圖案113和第二輻射圖案204的天線空間111被提供在PCB 101的端部，接地G被提供在PCB 101的另一部分。第一輻射圖案113包括在其端部的饋電端115并且從其的一部分延伸的局部圖案連接到接地G。第二輻射圖案204連接到接地G，其的一部分鄰近第一輻射圖案113的一部分。 此方案是上述第二方案，即其中第二輻射圖案204由從第一輻射圖案泄漏的電流和從接地泄漏的電流兩者饋電。在第一輻射圖案113中設(shè)置單個(gè)磁介質(zhì)模塊201和單個(gè)輻射體202。這旨在通過控制由第一輻射圖案和第二輻射圖案實(shí)現(xiàn)的輻射特性來滿足天線器件(最終地，目標(biāo)終端) 所需的規(guī)格。圖30為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖觀所示的天線器件的磁介質(zhì)模塊的透視圖。參照?qǐng)D30，磁介質(zhì)模塊201從圖沈所示的磁介質(zhì)模塊中選出，其具有2mm(寬度)X4mm(長(zhǎng)度)X Imm(厚度)的尺寸并且用導(dǎo)體在其外周表面上纏繞一次。圖31為示出根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的圖觀所示的天線器件的輻射體的透視圖。參照?qǐng)D31，輻射體202將立體的輻射結(jié)構(gòu)提供給形成為平坦形狀的第一輻射圖案和第二輻射圖案，改善了可能被第一輻射圖案和第二輻射圖案限制的帶寬和效率。圖32為示出根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例的圖觀所示的天線器件的輻射特性的圖形。參照?qǐng)D32，示出了圖觀所示的天線器件的輻射特性的測(cè)量結(jié)果。如圖32所示，可以看到，圖觀所示的天線器件可以在四個(gè)頻帶中使用。天線器件的可用頻帶的數(shù)量可以根據(jù)輻射圖案的形式、是否使用間隙耦合線或開關(guān)模塊、或者使用的間隙耦合線或開關(guān)模塊的數(shù)量而改變。這樣，根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例制造天線器件的方法預(yù)先根據(jù)終端的外觀和可用頻帶來選擇可直接形成在PCB上的圖案構(gòu)造，諸如輻射圖案、間隙耦合線等，并且通過在計(jì)劃目標(biāo)終端階段從選定圖案構(gòu)造中選擇適合的一個(gè)同時(shí)通過使用磁介質(zhì)模塊、介質(zhì)模塊和輻射體而根據(jù)終端的規(guī)格來控制選定的圖案構(gòu)造的輻射特性來制造天線器件。用于控制輻射特性的元件諸如磁介質(zhì)模塊也是預(yù)先選定和/或制造的元件中的一個(gè)。因此，在制造新終端的過程中可以制造天線器件而不用重復(fù)設(shè)計(jì)、測(cè)試和基于測(cè)試結(jié)果的重新設(shè)計(jì)。雖然選定的圖案構(gòu)造可以在控制輻射特性(特別地，共振頻率)階段被局部改變， 但是這樣的改變旨在精細(xì)地控制天線器件的輻射特性并且比基于測(cè)試結(jié)果的重新設(shè)計(jì)更簡(jiǎn)單地進(jìn)行。雖然已經(jīng)參照本發(fā)明的某些示范性實(shí)施例示出和描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，可以在其中進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種改變，而沒有脫離本發(fā)明的由權(quán)利要求及其等同物所限定的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法，該方法包括 根據(jù)可用頻帶選擇輻射圖案；選擇和制造用于控制所選擇的輻射圖案的共振頻率的磁介質(zhì)模塊；選擇和制造用于控制所選擇的輻射圖案的共振頻率的介質(zhì)模塊；從所選擇的輻射圖案中選擇和制造具有所述終端所需的大量共振頻率的輻射圖案；以及根據(jù)用于所述終端的所述共振頻率來選擇和安裝所述磁介質(zhì)模塊和所述介質(zhì)模塊中至少一個(gè)到所述輻射圖案中，從而調(diào)諧所述輻射圖案的所述共振頻率。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中選擇和制造所述輻射圖案包括通過在嵌入于所述終端中的電路板上形成印刷電路來形成所述輻射圖案。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中在選擇和安裝所述磁介質(zhì)模塊和所述介質(zhì)模塊中至少一個(gè)到所述輻射圖案中的步驟中，如果選擇了至少一個(gè)所述磁介質(zhì)模塊，所選擇的磁介質(zhì)模塊鄰近所述輻射圖案的饋電端安裝。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中每個(gè)所述磁介質(zhì)模塊通過以下制造 形成由磁介質(zhì)材料制成的主體；以及在所述主體的外周表面上安裝導(dǎo)體。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中所述導(dǎo)體為圍繞所述主體纏繞一次或兩次的螺旋形。
6.如權(quán)利要求4所述的方法，其中所述導(dǎo)體提供為圍繞所述主體的外周表面。
7.如權(quán)利要求4所述的方法，其中所述磁介質(zhì)材料具有2 9的磁導(dǎo)率。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中在選擇和安裝所述磁介質(zhì)模塊和所述介質(zhì)模塊的至少一個(gè)到所述輻射圖案中的步驟中，如果選擇至少一個(gè)所述介質(zhì)模塊，所選擇的介質(zhì)模塊與所述輻射圖案的饋電端間隔開并鄰近所述輻射圖案的端部安裝。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中所述介質(zhì)模塊具有1 10的介電常數(shù)。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中選擇和安裝所述磁介質(zhì)模塊和所述介質(zhì)模塊中的至少一個(gè)到所述輻射圖案中包括通過表面安裝在所述輻射圖案上安裝分離的輻射體，該輻射體通過在金屬片上進(jìn)行片金屬加工來制造。
11.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括，在選擇和制造所述輻射圖案之后，形成另一輻射圖案，該另一輻射圖案與所述輻射圖案相鄰并間隔開。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中所述另一輻射圖案包括由從接地或所述輻射圖案泄漏的電流饋電的間隙耦合線。
13.如權(quán)利要求1所述是方法，還包括，在選擇和制造所述輻射圖案之后，形成鄰近所述輻射圖案的另一輻射圖案以及安裝用于將該另一輻射圖案選擇性地連接到所述輻射圖案的開關(guān)模塊。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中選擇和制造所述輻射圖案包括通過在嵌入于所述終端中的電路板上形成印刷電路來形成所述輻射圖案，所述另一輻射圖案形成在所述電路板上。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中獨(dú)立地形成至少成對(duì)的所述另一輻射圖案，所述開關(guān)模塊將所述成對(duì)的輻射圖案中的一個(gè)連接到所述輻射圖案。
16.如權(quán)利要求14所述的方法，其中所述另一輻射圖案形成為與所述電路板的接地連接。
17.如權(quán)利要求1所述的方法，其中如果所述終端的規(guī)格改變，則重復(fù)進(jìn)行選擇和制造所述輻射圖案以及選擇和安裝所述磁介質(zhì)模塊和所述介質(zhì)模塊中的至少一個(gè)到所述輻射圖案中。
全文摘要
一種制造移動(dòng)通信終端的天線器件的方法，該方法包括根據(jù)可用頻帶選擇輻射圖案；選擇和制造用于調(diào)節(jié)所選擇的輻射圖案的共振頻率的磁介質(zhì)模塊；選擇和制造用于調(diào)節(jié)所選擇的輻射圖案的共振頻率的介質(zhì)模塊；從圖案選擇步驟中選擇的輻射圖案中選擇和制造具有終端所需的大量共振頻率的輻射圖案；以及選擇磁介質(zhì)模塊和介質(zhì)模塊中的至少一個(gè)并將其安裝在輻射圖案中，從而將輻射圖案的共振頻率調(diào)諧為終端所需的共振頻率。
文檔編號(hào)H04B1/38GK102484311SQ201080033020
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月22日
發(fā)明者慎娥賢, 趙宰熏, 趙范袗, 邊俊豪, 鄭圣泰, 郭容秀, 金在炯, 金錫虎, 黃淳晧 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社