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      對位裝置的制作方法

      文檔序號:7681436閱讀:348來源:國知局
      專利名稱:對位裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種對位裝置,且特別涉及一種影像傳感器的對位裝置。
      背景技術(shù)
      現(xiàn)有用于影像傳感器的對位裝置通常是采用同軸式的移動平臺,例如是以齒輪帶動的沿特定方向轉(zhuǎn)動的傾斜平臺,以產(chǎn)生調(diào)整標的物的傾角的效果。此種平臺并未能將標的物的高度坐標加以限定,亦即當(dāng)調(diào)整標的物所在平臺的傾角時,亦會同時造成標的物所在的平臺的高度坐標亦隨之改變。此舉會造成使用者在進行對位時必須同時校正標的物所在平臺的高度,故而對使用者而言,此舉造成其操作上的復(fù)雜與困難,而不利于影像傳感器 的對位工藝的進行。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明提供一種對位裝置,其具有較佳的對位能力與穩(wěn)定性。本發(fā)明的一實施例提出一種對位裝置,包括一第一平臺、一第二平臺、一連接模塊以及一第一調(diào)整單元。第二平臺浮動地配置在第一平臺上。影像傳感器適于設(shè)置在第二平臺上。連接模塊連接在第一平臺與第二平臺之間,并限制第二平臺在第一平臺上方的一基準面上。第一調(diào)整單元耦接于第二平臺,且驅(qū)動第二平臺沿基準面轉(zhuǎn)動。在本發(fā)明的一實施例中,上述的連接模塊包括多個滾珠軸承以及多個彈性件。滾珠軸承設(shè)置在第一平臺上。彈性件連接在第一平臺與第二平臺的間,且彈性件驅(qū)動第二平臺抵靠在滾珠軸承上。在本發(fā)明的一實施例中,上述的第二平臺具有多個第一耦接部,而各滾珠軸承具有一基部與一第二耦接部,基部嵌設(shè)于第一平臺,第二耦接部位在基部上。第二耦接部形成上述的基準面,并分別對應(yīng)地耦接至第一耦接部。在本發(fā)明的一實施例中,上述的各第一耦接部的表面輪廓相符于與其對應(yīng)的第二耦接部的表面輪廓。在本發(fā)明的一實施例中,上述的各第一耦接部的表面輪廓與各第二耦接部的表面輪廓分別為一球面。在本發(fā)明的一實施例中,上述的第二平臺平行于第一平臺時,基準面為一平面。在本發(fā)明的一實施例中,上述的第二平臺不平行于第一平臺時,基準面為一球面。在本發(fā)明的一實施例中,上述的第一調(diào)整單元包括一框架以及多個調(diào)整爪,其中調(diào)整爪樞接在框架上且活動地抵靠在第二平臺的底部。在本發(fā)明的一實施例中,上述的各調(diào)整爪具有一樞接部,一調(diào)整部與一抵靠部,而樞接部在第一平臺的一法線上的正投影,位在抵靠部在此法線上的正投影與調(diào)整部在此法線上的正投影之間。在本發(fā)明的一實施例中,還包括一基座以及一第二調(diào)整單元。第一平臺、第一調(diào)整單元與框架分別設(shè)置在基座上。第二調(diào)整單元連接在基座與第一平臺的間。第二調(diào)整單元驅(qū)動第一平臺相對于基座平移。在本發(fā)明的一實施例中,上述的第二調(diào)整單元位在框架的一側(cè),而調(diào)整爪位在框架鄰近此側(cè)的另相對兩側(cè)。在本發(fā)明的一實施例中,還包括一光學(xué)校正模塊,設(shè)置在基座上且位在第一平臺的下方?;谏鲜?,在本發(fā)明的上述實施例中,對位裝置藉由彼此浮接的第一平臺與第二平臺,以及設(shè)置在兩平臺之間的連接模塊,而讓第二平臺能受調(diào)整單元驅(qū)動而相對于第一平臺轉(zhuǎn)動,且因連接模塊而被受限于基準面上。此舉讓第二平臺不會因轉(zhuǎn)動而造成與第一平臺之間發(fā)生相對位移,亦即提高第二平臺于移動時的穩(wěn)定性。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂,下文特舉實施例,并配合附圖作詳細說明如下。


      圖I依照本發(fā)明一實施例的一種對位裝置的示意圖。圖2與圖3是圖I的對位裝置的局部構(gòu)件示意圖。圖4是圖2的對位裝置中的部分構(gòu)件示意圖。圖5是圖I的對位裝置中第一平臺的示意圖。圖6是圖I的對位裝置中第二平臺的示意圖。圖7是圖5的第一平臺與圖6的第二平臺組裝后的側(cè)視圖。圖8是圖3的調(diào)整爪的側(cè)視圖。主要元件符號說明100 :對位裝置110:第一平臺120 :第二平臺122 :第一耦接部130 :基座132 :延伸臂140 :第一調(diào)整單元142 :框架142a:開口144 :調(diào)整爪144a :樞接部144b :調(diào)整部144c :抵靠部146 :測微計150 :第二調(diào)整單元160 :光學(xué)校正模塊170 :連接模塊172 :滾珠軸承
      172a :基部172b :第二耦接部174 :彈性件200 :影像傳感器Dl :方向LI :法線SI :基準面S2 :底部Tl :力矩
      具體實施例方式圖I是依照本發(fā)明一實施例的一種對位裝置的示意圖。圖2與圖3是圖I的對位裝置的局部構(gòu)件示意圖,在此,圖2與圖3分別以不同視角顯示對位裝置,以能清楚辨識其構(gòu)件之間的關(guān)系。圖4是圖2的對位裝置中的部分構(gòu)件示意圖。請同時參考圖I至圖4,在本實施例中,對位裝置100用以校正一影像傳感器200,以讓影像傳感器200與光學(xué)系統(tǒng)(例如是鏡頭組,在此未顯示)能彼此對位以完成組裝工藝。對位裝置100包括一第一平臺110、一第二平臺120、一基座130、一第一調(diào)整單元140、一第二調(diào)整單元150以及一光學(xué)校正模塊160。第二平臺120浮動地配置在第一平臺110上,而影像傳感器200,例如是一電荷耦合兀件(charge coupled device, CO)),其適于藉由真空裝置(未顯不)而固定在第二平臺120上。第二調(diào)整單元150連接在第一平臺110與基座130之間,而第一調(diào)整單元140設(shè)置在基座130上且耦接于第二平臺120,其中第二調(diào)整單元150例如是一高度調(diào)整器,用以調(diào)整第一平臺110相對于基座130的高度。在此第一平臺110相對于基座130的高度即是圖中所繪示的Z軸的距離。第一調(diào)整單元140例如是一傾角調(diào)整器,用以調(diào)整第二平臺120相對于第一平臺110的傾斜程度,即是第二平臺120分別以圖中所繪示的X軸與Y軸所產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動維度。此外,光學(xué)校正模塊160例如包括準直儀與傳感器,其中藉由準直儀所產(chǎn)生的準 直光線穿過第一平臺110與第二平臺120而投射至影像傳感器200(例如投射至電荷耦合元件上的封裝玻璃),再以傳感器感測被影像傳感器200所反射的光線,而得知影像傳感器200相對于光學(xué)系統(tǒng)的傾角。據(jù)此,使用者藉由操控第一調(diào)整單元140與第二調(diào)整單元150而調(diào)整影像傳感器200相對于光學(xué)系統(tǒng)的傾角,進而藉由對位裝置100達到影像傳感器200與光學(xué)系統(tǒng)間的對位效果。圖5是圖I的對位裝置中第一平臺的示意圖。圖6是圖I的對位裝置中第二平臺的示意圖。圖7是圖5的第一平臺與圖6的第二平臺組裝后的側(cè)視圖。請同時參考圖5至圖7。在本實施例中,對位裝置100還包括一連接模塊170,其連接在第一平臺110與第二平臺120之間,并限制第二平臺120在第一平臺110上方的一基準面SI上。進一步地說,連接模塊170包括多個滾珠軸承172與多個彈性件174,其中滾珠軸承172設(shè)置在第一平臺110上并形成上述的基準面SI。彈性件174連接在第一平臺110與第二平臺120之間。在此,彈性件174所提供的彈性力將第二平臺120朝向第一平臺110拉近,進而使第二平臺120抵靠在滾珠軸承172上。換句話說,第二平臺120在被第一調(diào)整單元140驅(qū)動而相對于第一平臺110轉(zhuǎn)動的過程中,藉由彈性件174的作用,而使其抵靠在滾珠軸承172上。此舉有效地避免已知技術(shù)中因第二平臺120相對于第一平臺110轉(zhuǎn)動所造成的兩個平臺110、120之間發(fā)生位移,而使第二平臺120在其調(diào)整過程中因維持在第一平臺110上的基準面SI,以提高第二平臺120的穩(wěn)定性。詳細而言,第二平臺120具有為在其底部S2的多個第一耦接部122,且這些第一耦接部122的表面輪廓為球面的局部。各滾珠軸承172具有一基部172a與一第二耦接部172b,其中基部172a嵌設(shè)至第一平臺110,而第二耦接部172b位在基部172a上且其表面輪廓亦為相符于第一耦接部122的球面。據(jù)此,藉由第一耦接部122與第二耦接部172b彼此對應(yīng)且活動地接合,因而第二平臺120得以在第一平臺110上無阻力地移動,且因彈性件174將第一平臺110與第二平臺120連接在一起,故而造成第二平臺120于其移動過程中不會因而產(chǎn)生相對于第一平臺110且沿著Z軸的相對位移。再者,當(dāng)?shù)谝黄脚_110與第二平 臺120彼此平行時(如圖7所示),第二平臺120所被彈性件174局限的基準面SI實質(zhì)上為一平面。相對地,當(dāng)?shù)诙脚_120相對于第一平臺110移動而使兩者不平行時,第二平臺120所被局限的基準面S I實質(zhì)上為一球面,亦即此時的第二平臺120是以滾珠軸承172的第二耦接部172b所形成的外接球面為基準而移動。請再參考圖2與圖3,在本實施例中,第一調(diào)整單元140包括一框架142以及多個調(diào)整爪144,其中框架142組裝在基座130的一延伸臂132上,且第一平臺110、第二平臺120與光學(xué)校正模塊160相對于框架142的正投影實質(zhì)上位在框架142的一開口 142a內(nèi)。圖8是圖3的調(diào)整爪的側(cè)視圖。請同時參考圖2、圖3與圖8,調(diào)整爪144配置在框架142上且各調(diào)整爪144具有一樞接部144a、一調(diào)整部144b與一抵靠部144c,其中樞接部144a樞接至框架142,調(diào)整部144b位在框架142外側(cè),抵靠部144c位在框架142內(nèi)側(cè)且活動地耦接至第二平臺120。再者,樞接部144a在第一平臺110的法線LI上的正投影,位在抵靠部144c在法線LI上的正投影與調(diào)整部144b在此法線LI上的正投影之間。換句話說,當(dāng)使用者驅(qū)動調(diào)整部144b時,會使調(diào)整部144b沿一方向Dl移動,此時調(diào)整部144b相對于樞接部144a產(chǎn)生力矩Tl而使抵靠部144c相對于樞接部144a轉(zhuǎn)動,進而使這些調(diào)整爪144能產(chǎn)生轉(zhuǎn)動第二平臺120的效果。此時亦可在框架142處設(shè)置分別耦接至調(diào)整部144b的多個測微計146 (micrometer),如此一來,使用者便能精確地操控多個調(diào)整爪144而調(diào)整第二平臺120相對于第一平臺110的傾角。此外,在本實施例中,第二調(diào)整單元150實質(zhì)上位在框架142的一側(cè),而調(diào)整爪144分別位在此框架142上鄰近第二調(diào)整單元150的另相對兩側(cè)。此舉讓使用者于操作對位裝置100時能位在第二調(diào)整單元150處,而利于使用者的左、右手能分別操作第一調(diào)整單元140的各個調(diào)整爪144,并因而提高對位裝置100于操作時的便利性。綜上所述,在本發(fā)明的上述實施例中,對位裝置藉由彼此浮接的第一平臺與第二平臺,以及設(shè)置在兩平臺之間的連接模塊,而讓第二平臺能受調(diào)整單元驅(qū)動而相對于第一平臺轉(zhuǎn)動,且因連接模塊而被受限于基準面上。此舉讓第二平臺因轉(zhuǎn)動而造成與第一平臺之間發(fā)生相對位移得以藉由連接模塊而補償,使其仍能維持在基準面上,進而提高第二平臺于移動時的穩(wěn)定性雖然本發(fā)明已以實施例揭示如上,然其并非用以限定本發(fā)明,任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員,當(dāng)可作些許的更動與潤飾,而不脫離本發(fā) 明的精神和范圍。
      權(quán)利要求
      1.一種對位裝置,用以校正一影像傳感器,該對位裝置包括 一第一平臺; 一第二平臺,浮動地配置在該第一平臺上,該影像傳感器適于設(shè)置在該第二平臺上; 一連接模塊,連接在該第一平臺與該第二平臺之間,并限制該第二平臺在該第一平臺上方的一基準面上;以及 一第一調(diào)整單元,耦接于該第二平臺,以驅(qū)動該第二平臺沿該基準面轉(zhuǎn)動。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的對位裝置,其中該連接模塊包括 多個滾珠軸承,設(shè)置在該第一平臺上;以及 多個彈性件,連接在該第一平臺與該第二平臺之間,該些彈性件驅(qū)動該第二平臺抵靠在該些滾珠軸承上。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對位裝置,其中該第二平臺具有多個第一耦接部,而各該滾珠軸承具有一基部與一第二耦接部,該基部嵌設(shè)于該第一平臺,該第二耦接部位在該基部上,而該些第二耦接部形成該基準面,并分別對應(yīng)地耦接至該些第一耦接部。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的對位裝置,其中各該第一耦接部的表面輪廓相符于與其對應(yīng)的該第二耦接部的表面輪廓。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對位裝置,其中各該第一耦接部的表面輪廓與各該第二耦接部的表面輪廓分別為一球面。
      6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的對位裝置,其中當(dāng)該第二平臺平行于該第一平臺時,該基準面為一平面。
      7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的對位裝置,其中當(dāng)該第二平臺不平行于該第一平臺時,該基準面為一球面。
      8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的對位裝置,其中該第一調(diào)整單元包括 一框架;以及 多個調(diào)整爪,樞接在該框架上且活動地抵靠在該第二平臺的底部。
      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對位裝置,其中各該調(diào)整爪具有一樞接部,一調(diào)整部與一抵靠部,而該樞接部在該第一平臺的一法線上的正投影,位在該抵靠部在該法線上的正投影與該調(diào)整部在該法線上的正投影之間。
      10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的對位裝置,還包括 一基座,該第一平臺、該第一調(diào)整單元與該框架分別設(shè)置在該基座上;以及 一第二調(diào)整單元,連接在該基座與該第一平臺之間,該第二調(diào)整單元驅(qū)動該第一平臺相對于該基座平移。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的對位裝置,其中該第二調(diào)整單元位在該框架的一側(cè),而該些調(diào)整爪位在該框架鄰近該第二調(diào)整單元的另相對兩側(cè)。
      12.根據(jù)權(quán)利要求I所述的對位裝置,還包括 一光學(xué)校正模塊,設(shè)置在該基座上且位在該第一平臺的下方。
      全文摘要
      一種對位裝置,包括第一平臺、第二平臺、連接模塊與調(diào)整單元。第二平臺浮動地配置在第一平臺上。影像傳感器適于設(shè)置在第二平臺上。連接模塊連接在第一平臺與第二平臺之間,并限制第二平臺在第一平臺上方的基準面上。調(diào)整單元耦接第二平臺,且驅(qū)動第二平臺沿基準面轉(zhuǎn)動。本發(fā)明對位裝置藉由彼此浮接的第一平臺與第二平臺,以及設(shè)置在兩平臺之間的連接模塊,而讓第二平臺能受調(diào)整單元驅(qū)動而相對于第一平臺轉(zhuǎn)動,且因連接模塊而被受限于基準面上。此舉讓第二平臺不會因轉(zhuǎn)動而造成與第一平臺之間發(fā)生相對位移,亦即提高第二平臺于移動時的穩(wěn)定性。
      文檔編號H04N5/335GK102811364SQ20111014421
      公開日2012年12月5日 申請日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月31日
      發(fā)明者謝明宗 申請人:華晶科技股份有限公司
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