攝像裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供攝像裝置，充分地確保從被攝體到達受光元件的光量。在基板（32）的表面（321）上形成發(fā)光層（63）。與表面相對的多個透鏡（24）聚集來自發(fā)光層照明的被攝體（200）的攝像光。在表面（321）與發(fā)光層間的第一電極層（61）形成對應(yīng)各透鏡的開口部（614）。由各透鏡聚光并通過開口部的攝像光入射受光元件（14）。在規(guī)定通過受光元件的受光面（16）的周邊上的點PA1和開口部（614）的周邊上的點（PA2）的第一直線、和相對于第一直線與透鏡的表面的交點（PA3）處的法線（LN）與第一直線（L1）呈線對稱的第二直線（L2）的情況下，從第二直線與覆蓋發(fā)光層的第二電極層（64）的表面的交點（PA4）觀察，發(fā)光層的發(fā)光區(qū)域（70）位于光軸（L0）的相反側(cè)。
【專利說明】攝像裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及對被攝體進行攝像的攝像裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)公開有為了進行生物體認證而拍攝生物體的靜脈圖像的各種技術(shù)。在例如專利文獻I中，已經(jīng)公開了如下的手指認證裝置:以隔著被攝體(被認證者的手指)相互對置的方式配置光源部和攝像部，由攝像部拍攝從光源部出射并透過了被攝體的光。
[0003]在專利文獻I的技術(shù)中，由于需要以隔著被攝體相對的方式配置光源部和攝像部，因而具有裝置的小型化困難這樣的問題。從解決以上問題的觀點而言，在例如專利文獻2中，公開了將光源層和檢測層層疊在基板的表面上的結(jié)構(gòu)的攝像裝置。由檢測層的各受光元件檢測從光源層射出并通過了被攝體的光。防止從光源層對檢測層直接照射的遮光層被設(shè)置于光源層與檢測層之間。
[0004]【現(xiàn)有技術(shù)文獻】
[0005]【專利文獻】
[0006]專利文獻1:日本特開2003-30632號公報
[0007]專利文獻2:日本特開2009-3821號公報
[0008]但是，在專利文獻2的技術(shù)中，具有難以充分地確保從被攝體入射至各受光元件的光量這樣的問題?？紤]到以上的情況，本發(fā)明的目的在于，充分地確保從被攝體到達受光元件的光量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]為了解決以上問題，本發(fā)明的攝像裝置具備:光透過性的第一基板(例如基板32)，第一基板包括第一面(例如表面321);多個透鏡，與第一面相對且聚集來自第一基板的相反側(cè)的入射光；發(fā)光層，位于第一面的表面上；以及多個受光兀件，隔著第一基板而設(shè)置在多個透鏡的相反側(cè)。由于從來自發(fā)光層的射出光照明的被攝體出射的入射光由多個透鏡聚光之后到達各受光元件，因而與不存在將從被攝體發(fā)出的入射光聚集的透鏡的專利文獻2的技術(shù)相比，能夠充分地確保從被攝體到達受光元件的光量。此外，本發(fā)明中的“多個透鏡”是攝像裝置具備的全部的透鏡的一部分(例如不助于聚光的虛擬透鏡(du_y lens)以外的透鏡)或者全部。同樣地，本發(fā)明中的“多個受光元件”是攝像裝置具備的全部的受光元件的一部分(例如不助于攝像的虛擬元件以外的受光元件)或者全部。
[0010]本發(fā)明的優(yōu)選方式所涉及的攝像裝置具備:遮光性的開口規(guī)定層(例如第一電極層61)，開口規(guī)定層設(shè)置于第一面與發(fā)光層之間，且開口規(guī)定層具有使多個透鏡聚集的光通過的多個第一開口部(例如開口部614)。在以上的結(jié)構(gòu)中，由于在發(fā)光層與各受光元件之間存在開口規(guī)定層，因而從發(fā)光層發(fā)出的出射光直接到達各受光元件的可能性降低。另外，如果采用將與發(fā)光層電連接的第一電極層直接用作開口規(guī)定層的結(jié)構(gòu)，則與單獨地形成第一電極層與開口規(guī)定層的情況相比，具有裝置構(gòu)成、制造工序被簡單化這樣的優(yōu)點。
[0011 ] 在具備開口規(guī)定部的攝像裝置的優(yōu)選例中，在包括多個透鏡中的一個透鏡的光軸的基準面內(nèi)，在規(guī)定了第一直線(例如第一直線LI)以及第二直線(例如第二直線L2)的情況下，從第二直線與覆蓋發(fā)光層的第二電極層的表面的交點(例如交點PA4)觀察，發(fā)光層的發(fā)光區(qū)域位于一個透鏡的光軸的相反側(cè)，第一直線通過對應(yīng)于一個透鏡的受光元件的受光面中的從光軸觀察的一側(cè)的周邊(例如點PAl)、和開口規(guī)定層中的對應(yīng)于一個透鏡的第一開口部中的從光軸觀察的另一側(cè)的周邊(例如點PA2 )，第二直線將第一直線與一個透鏡的表面的交點(例如點PA3)處的該表面的法線作為對稱軸而與第一直線呈線對稱。根據(jù)以上的方式，從發(fā)光層出射而在各透鏡的表面反射的光通過第一開口部而到達受光元件的可能性能降低。
[0012]本發(fā)明的優(yōu)選方式所涉及的攝像裝置:遮光層，遮光層設(shè)置于第一基板與多個受光元件之間，遮光層具有對應(yīng)于各透鏡的多個第二開口部(例如開口部46)。在以上的結(jié)構(gòu)中，由于在發(fā)光層和各受光兀件之間介裝遮光層，因而能夠降低從發(fā)光層發(fā)出的出射光直接到達各受光元件的可能性、由各透鏡聚集的光到達對應(yīng)于該透鏡以外的透鏡的受光元件的可能性。另外，優(yōu)選隔著第一基板而在與多個透鏡相反的一側(cè)設(shè)置光透過性的第二基板，在第二基板上形成遮光層的結(jié)構(gòu)。根據(jù)以上的結(jié)構(gòu)，具有能夠相互獨立地執(zhí)行在第一基板上形成發(fā)光層的工序和在第二基板上形成遮光層的工序這樣的優(yōu)點。具體而言，第二基板被接合于第一基板中的與第一面相反一側(cè)的第二面，遮光層被設(shè)置于第二基板中的與第一基板相反一側(cè)的表面上。
[0013]在具備遮光層的攝像裝置的優(yōu)選例中，在包括多個透鏡中的一個透鏡的光軸的基準面內(nèi)，在規(guī)定了第三直線(例如第三直線L3)以及第四直線(例如第四直線L4)的情況下，從第四直線與覆蓋發(fā)光層的第二電極層的表面的交點(例如交點PB4)觀察，發(fā)光層的發(fā)光區(qū)域位于一個透鏡的光軸的相反側(cè)，第三直線通過對應(yīng)于一個透鏡的受光元件的受光面中的從光軸觀察的一側(cè)的周邊(例如點PBl )、和遮光層中的對應(yīng)于一個透鏡的第二開口部中的從光軸觀察的另一側(cè)的周邊(例如點PB2 )，第四直線將第三直線與一個透鏡的表面的交點(例如點PB3)處的該表面的法線作為對稱軸而與第三直線呈線對稱。根據(jù)以上的方式，從發(fā)光層出射而在各透鏡的表面上反射的光通過第二開口部到達受光元件的可能性能降低。
[0014]以上的各方式所涉及的攝像裝置可以優(yōu)選地被用于各種電子設(shè)備。作為電子設(shè)備的具體示例，能夠例示出利用攝像裝置拍攝的靜脈圖像執(zhí)行生物體認證的生物體認證裝置、根據(jù)攝像裝置拍攝到的圖像推測血液中的酒精濃度等的生物體信息的生物體信息推斷
>J-U裝直。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本發(fā)明的第一實施方式所涉及的攝像裝置的截面圖。
[0016]圖2是攝像裝置的分解截面圖。
[0017]圖3是顯示攝像裝置的各元件的關(guān)系的俯視圖。
[0018]圖4是將發(fā)光元件層放大后的截面圖。
[0019]圖5是顯示絕緣層與發(fā)光區(qū)域的關(guān)系的俯視圖。
[0020]圖6是第二實施方式中的第一直線和第二直線的說明圖。[0021]圖7是第二實施方式中的發(fā)光元件層的截面圖。
[0022]圖8是顯示第二實施方式中的絕緣層與發(fā)光區(qū)域的關(guān)系的俯視圖。
[0023]圖9是第三實施方式中的第三直線和第四直線的說明圖。
[0024]圖10是第三實施方式中的發(fā)光元件層的截面圖。
【具體實施方式】
[0025]<第一實施方式>
[0026]圖1是本發(fā)明的第一實施方式所涉及的攝像裝置100的截面圖，圖2是攝像裝置100的分解截面圖。第一實施方式的攝像裝置100是在照射指定波長的照明光(以下稱為“攝像光”)的狀態(tài)下拍攝被攝體200的傳感裝置，攝像裝置100可以優(yōu)選地被用于例如拍攝生物體(典型代表人的手指)的靜脈圖像的生物體認證裝置(靜脈傳感器)。攝像光是例如近紅外光。如圖1以及圖2所示，第一實施方式的攝像裝置100具備受光部10、聚光部20、發(fā)光部30以及遮光部40。
[0027]發(fā)光部30介裝于受光部10與被攝體200之間。聚光部20介裝于發(fā)光部30與被攝體200之間，遮光部40介裝于發(fā)光部30與受光部10之間。概略地說，來自被攝體200的射入光在由聚光部20聚光之后到達受光部10，而該被攝體200由從發(fā)光部30出射的攝像光照明。
[0028]受光部10是拍攝被攝體200的主要部件，受光部10構(gòu)成為包括基板12和多個受光元件14?；?2是由例如半導體材料形成的板狀部件。多個受光元件14形成于基板12中的被攝體200側(cè)的表面121，如圖3所示，俯視時(即從垂直于基板12的方向觀察時)排列為矩陣狀。各受光元件14生成與入射大致圓形的受光面16的攝像光的光量相對應(yīng)的檢測信號。通過對各受光元件14生成的檢測信號進行圖像處理而生成被攝體200的圖像。例如周知的CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor,互補金屬氧化物半導體)傳感器、CCD (Charge Coupled Device,電荷稱合器件)傳感器優(yōu)選用作受光部10。
[0029]圖1的聚光部20是將從被攝體200到來的攝像光聚集的主要部分，聚光部20構(gòu)成為包括基板22和多個透鏡(微透鏡)24。如圖2所示，基板22是包括與被攝體200相對的表面221和表面221的相反側(cè)的表面222的光透過性(使攝像光透過的性質(zhì))的板狀部件。作為基板22優(yōu)選采用例如玻璃基板、石英基板。多個透鏡24形成于基板22的表面222。各透鏡24是將從被攝體200入射基板22的表面221的拍攝光聚集的凸透鏡。聚光部20的各透鏡24和受光部10的各受光元件14——對應(yīng)。具體而言，各透鏡24的光軸LO通過與該透鏡24對應(yīng)的受光元件14的受光面16 (典型地說，受光面16的中心)。因此，如圖3所示，多個透鏡24與各受光元件14同樣地俯視時排列為矩陣狀。在各透鏡24的制造中，可以采用例如使形成于基板22的多個的微細的抗蝕層熱變形而形成各透鏡24的方法(回流法)、通過利用了面積灰度掩模的光刻處理而形成各透鏡24的方法或者通過板狀部件的研磨、成型而一體地形成基板22和各透鏡24的方法等任意的制造技術(shù)。
[0030]圖1的發(fā)光部30是生成攝像光的主要部分，發(fā)光部30構(gòu)成為包括基板32和發(fā)光元件層34。如圖2所示，基板32是包括與聚光部20 (各透鏡24)相對的表面321和表面321的相反側(cè)的表面322的光透過性的板狀部件(例如玻璃基板、石英基板)。發(fā)光元件層34形成于基板32的表面321，發(fā)光元件層34作為照明被攝體200的攝像光的光源而起作用。[0031]圖4是將發(fā)光元件層34放大后的截面圖。如圖4所示，發(fā)光元件層34構(gòu)成為包括第一電極層61、絕緣層62、發(fā)光層63、第二電極層64以及密封層65。發(fā)光層63是通過電流的供給而出射攝像光的電光學層，發(fā)光層63由例如有機EL(Electroluminescence,電致發(fā)光)材料形成。
[0032]第一電極層61形成于基板32的表面321,第一電極層61作為電連接于發(fā)光層63的電極(陽極)而起作用。如圖4所示，第一電極層61是層壓了第一層611和第二層612的結(jié)構(gòu)。第一層611是使發(fā)光層63生成的攝像光向被攝體200側(cè)反射的光反射性的導電膜，第一層611由例如銀、招等導電材料形成于基板32的表面321。另一方面,第二層612是使攝像光透過的光透過性的導電膜，第二層612由例如ITCKIndium Tin Oxide，氧化銦錫)等光透過性的導電材料形成并覆蓋第一層611。
[0033]如圖3所示，在第一電極層61形成有俯視時圓形狀的多個開口部614。第一電極
層61的各開口部614和聚光部20的各透鏡24 (或者受光部10的各受光元件14)--對
應(yīng)。具體而言，各透鏡24的光軸LO通過與該透鏡24對應(yīng)的開口部614 (典型地說，開口部614的中心)。因此，如圖3所示，各開口部614與各透鏡24、各受光元件14同樣地俯視時排列為矩陣狀。即，第一電極層61形成為多個開口部614俯視時排列為矩陣狀的大致格子狀。各開口部614的 內(nèi)徑在各透鏡24的外徑以下。正如從以上的說明中可理解的那樣，第一電極層61 (第一層611)作為規(guī)定使聚光部20的各透鏡24聚集而成的攝像光向受光部10側(cè)通過的開口部614的開口規(guī)定層而起作用。發(fā)光層63所生成的攝像光不僅向被攝體200側(cè)行進，也向受光部10側(cè)行進，而從發(fā)光部63向受光部10側(cè)行進的攝像光由第一電極層61反射至被攝體200側(cè)。即，開口規(guī)定層(第一電極層61)也可以換句話說是防止從發(fā)光層63對受光部10直接照射攝像光(即，不經(jīng)由被攝體200的攝像光的照射)的遮光層。在形成開口部614 (選擇性地除去導電膜)時，可以任意地采用例如光刻處理等周知的制造技術(shù)。
[0034]圖4的絕緣層62由光透過性的絕緣材料(例如樹脂材料)形成。發(fā)光層63遍及形成有絕緣層62的表面321的整個區(qū)域，以大致恒定的膜厚連續(xù)。此外，為了提高發(fā)光層63的發(fā)光效率，也可以與發(fā)光層63 —起形成電荷注入層(空穴注入層、電子注入層)、電荷輸送層(空穴輸送層、電子輸送層)。
[0035]第二電極層64以覆蓋發(fā)光層63的方式遍及表面321的整個區(qū)域而連續(xù)地形成，第二電極層64作為與發(fā)光層63電連接且在與第一電極層61之間將電流供給發(fā)光層63的電極(陰極)而起作用。第二電極層64是使入射光的一部分透過而使另一部分反射的半透過反射性的導電膜。因此，在第一電極層61與第二電極層64之間，形成有將指定波長(近紅外區(qū)域)的攝像光選擇性地放大而使其向被攝體200側(cè)出射的共振器結(jié)構(gòu)。第二電極層64通過使例如銀、鋁等導電材料以非常薄的膜厚成膜而形成。但是，也可以采用將第二電極層64形成為光透過性的導電膜的構(gòu)成(不形成共振器結(jié)構(gòu)的構(gòu)成)。
[0036]密封層65是將以上說明的發(fā)光元件層34的各部分(第一電極層61、絕緣層62、發(fā)光層63、第二電極層64)密封而保護其不受外部氣體、水分侵入的主要部分，密封層65由光透過性的絕緣材料(例如樹脂材料)形成。聚光部20和發(fā)光部30由例如光透過性的粘結(jié)劑(圖示略)而相互固定。在圖1和圖4中，例示了以使發(fā)光部30的發(fā)光元件層34 (密封層65)的表面與聚光部20的各透鏡24的表面接觸的方式接合聚光部20和發(fā)光部30的結(jié)構(gòu)。但是，也可以通過使發(fā)光元件層34的表面與各透鏡24的表面相互空開間隔而對置的方式相互固定聚光部20和發(fā)光部30。
[0037]如圖4所示，第一電極層61和第二電極層64相互對置的區(qū)域中的在兩者間不存在絕緣層62的區(qū)域作為通過供給第一電極層61和第二電極層64之間的電流而使發(fā)光層63發(fā)光的發(fā)光區(qū)域70而起作用。另一方面，在第一電極層61和第二電極層64對置的區(qū)域中的在兩者間存在絕緣層62的區(qū)域中，由于第一電極層61和第二電極層64之間的電流由絕緣層62阻止，因而發(fā)光層63不發(fā)光。S卩，絕緣層62作為規(guī)定發(fā)光層63中的實際上使攝像光發(fā)光的發(fā)光區(qū)域70的主要部分而起作用。此外，雖然發(fā)光層63也形成于各開口部614的內(nèi)側(cè)的區(qū)域，但由于在開口部614的內(nèi)側(cè)不存在第一電極層61，因而發(fā)光層63不發(fā)光。
[0038]圖5是絕緣層62的平面形狀的示意圖。圖5中的IV-1V線的截面圖相當于圖4。如圖5所示，絕緣層62與聚光部20的各透鏡24 (或者受光部10的各受光元件14、第一電極層61的各開口部614)—一對應(yīng)。具體而言，正如從圖4以及圖5理解的那樣，絕緣層62形成為覆蓋第一電極層61的各開口部614的周邊(內(nèi)周邊)的圓環(huán)狀。即，絕緣層62的外周邊緣621位于開口部614的周邊的外側(cè)(與各透鏡24的光軸LO相反一側(cè))，絕緣層62的內(nèi)周邊緣622位于開口部614的周邊的內(nèi)側(cè)(各透鏡24的光軸LO側(cè))。如圖5所示，俯視時位于絕緣層62的外周邊緣621的外側(cè)(各透鏡24的光軸LO相反一側(cè))的區(qū)域作為發(fā)光區(qū)域70而被劃定。即，第一實施方式的發(fā)光區(qū)域70俯視時被劃定為對應(yīng)于排列為矩陣狀的多個透鏡24的各個間隙的區(qū)域的大致格子狀。
[0039]圖1和圖2的遮光部40是將由聚光部20的各透鏡24聚集的攝像光以外的雜散光遮蔽的部分，遮光部40構(gòu)成為包括基板42和遮光層44。如圖2所示，基板42是包括與發(fā)光部30相對的表面421和表面421的相反側(cè)的表面422的光透過性的板狀部件(例如玻璃基板、石英基板)。遮光層44是形成于基板42的表面422的遮光性(吸收攝像光或者使其反射的性質(zhì))的膜體。遮光層44由分散有例如炭黑等黑色劑(黑色顏料)的樹脂材料、鉻等遮光性的金屬材料形成。從防止由于遮光層44的表面上的反射而產(chǎn)生雜散光的觀點而言，低反射率的材料優(yōu)選作為遮光層44的材料。
[0040]如圖2和圖3所示，在遮光層44形成有多個圓形狀的開口部46。開口部46的內(nèi)徑在第一電極層61的開口部614的內(nèi)徑以下。遮光層44的各開口部46和聚光部20的各透鏡24 (或者受光部10的各受光元件14、第一電極層61的各開口部614) —一對應(yīng)。具體而言，各透鏡24的光軸LO通過對應(yīng)于該透鏡24的開口部46 (典型地說，開口部46的中心)。因此，如圖3所示，各開口部46與各透鏡24、各受光元件14同樣地俯視時排列為矩陣狀。
[0041]如圖1以及圖2所示，在表面422形成有遮光層44的基板42的表面421、和在表面上321形成有發(fā)光元件層34的基板32的表面322在互相地緊密附著的狀態(tài)下被接合。在基板42和基板32的接合中，可以利用例如光透過性的粘結(jié)劑(圖示略)。另外，形成有遮光層44的基板42的表面422和受光部10的基板12的表面121由例如光透過性的粘結(jié)劑18互相空開間隔而被接合。正如從以上的說明可理解的那樣，遮光層44設(shè)置于發(fā)光部30的基板32與受光部10的多個受光元件14之間。
[0042]在以上說明的結(jié)構(gòu)中，從發(fā)光部30的發(fā)光區(qū)域70出射的攝像光透過聚光部20(基板22以及各透鏡24)而照射于被攝體200，同時在被攝體200的內(nèi)部的靜脈中透過或者反射而入射至聚光部20，在由各透鏡24聚光的基礎(chǔ)上，通過第一電極層61的開口部614和遮光層44的開口部46而到達受光元件14的受光面16。因此，可以拍攝被攝體200的靜脈圖像。
[0043]正如以上說明的那樣，在第一實施方式中，由于在受光部10的各受光元件14與被攝體200之間設(shè)置有發(fā)光部30(發(fā)光層63)，因而與以隔著被攝體互相對置的方式設(shè)置光源部和攝像部的專利文獻I的技術(shù)相比，易于裝置的小型化。另外，在第一實施方式中，由于向被攝體200照射攝像光的發(fā)光區(qū)域70分布為平面狀，因而與將例如LED(Light EmittingDiode，發(fā)光二極管)等點光源用于被攝體200的照明的情況相比，可以減少對被攝體200的照射光量的不均(均勻地照明被攝體200)。而且，在第一實施方式中，由于來自由發(fā)光部30照明的被攝體200的攝像光由聚光部20的各透鏡24聚集的基礎(chǔ)上到達受光元件14，因而與不存在將攝像光聚光的要素的專利文獻2的技術(shù)相比，具有能夠充分地確保從被攝體200到達各受光元件14的光量這樣的優(yōu)點。
[0044]另外，在第一實施方式中，由于形成有對應(yīng)于各透鏡24的開口部614的遮光性(光反射性)的第一電極層61被設(shè)置于基板32的表面321與發(fā)光層63 (發(fā)光區(qū)域70)之間，因而從發(fā)光層63對各受光元件14直接照射攝像光被抑制。因此，具有能夠取得被攝體200的對比度高的良好的圖像這樣的優(yōu)點。在第一實施方式中，尤其是向發(fā)光層63供給電流的第一電極層61直接用作防止攝像光對各受光元件14直接照射的開口規(guī)定層(遮光層)，因而與單獨地形成第一電極層61和開口規(guī)定層的情況相比，也具有攝像裝置100的結(jié)構(gòu)、制造工序被簡化這樣的優(yōu)點。但是，也可以單獨地形成第一電極層61和開口規(guī)定層。
[0045]另外，在第一實施方式中，由于形成有對應(yīng)于各透鏡24的開口部46的遮光層44設(shè)置于聚光部20與受光部10之間，因而可以防止通過了該透鏡24以外的透鏡24的攝像光到達對應(yīng)于聚光部20的各透鏡24的受光元件14的狀況(光線串擾)。因此，具有能夠取得被攝體200的對比度高的良好的圖像這樣的優(yōu)點。
[0046]<第二實施方式>
[0047]以下將說明本發(fā)明的第二實施方式。此外，在以下例示的各方式中，對于作用、功能與第一實施方式同等的部分，將直接使用在第一實施方式的說明中參照的符號并適當省略各符號的詳細的說明。
[0048]在第一實施方式的結(jié)構(gòu)中，從發(fā)光層63的發(fā)光區(qū)域70出射而向被攝體200側(cè)行進的攝像光可能會在到達被攝體200以前在各透鏡24的表面被反射，并通過開口部614以及開口部46到達受光元件14 (以下，為方便起見，將這種現(xiàn)象稱為“透鏡反射光的直接受光”)。以下例不的第二實施方式以及第三實施方式是如下的實施方式:將與第一實施方式同樣的結(jié)構(gòu)作為前提，規(guī)定了發(fā)光區(qū)域70，以抑制透鏡反射光的直接受光。
[0049]圖6是顯示包括聚光部20的任意一個透鏡(以下稱為“指定透鏡”)24的光軸LO的平面(以下，稱為“基準面”)上的受光元件14、第一電極層61和指定透鏡24的位置關(guān)系的示意圖。如圖6所示，在第二實施方式中，第一直線LI和第二直線L2被規(guī)定于基準面內(nèi)。
[0050]第一直線LI是通過基準面內(nèi)的點PAl和點PA2的直線。點PAl是在基準面內(nèi)，對應(yīng)于指定透鏡24的受光元件14的受光面16中的、從指定透鏡24的光軸LO觀察，與一側(cè)(圖6中光軸LO的右側(cè))的周邊相對應(yīng)的地點(受光面16的周邊與基準面的交點)。另一方面，點PA2是在基準面內(nèi)，對應(yīng)于指定透鏡24的第一電極層61的開口部614中的、從指定透鏡24的光軸觀察，與另一側(cè)(圖6中光軸LO的左側(cè))的內(nèi)周邊相對應(yīng)的地點(開口部614的內(nèi)周邊與基準面的交點)。如以上那樣，由于點PAl與點PA2隔著指定透鏡24的光軸LO而位于相對側(cè)，因而第一直線LI在點PAl與點PA2之間與指定透鏡24的光軸LO交叉。
[0051]在基準面內(nèi)，設(shè)想通過第一直線LI與指定透鏡24的表面交叉的點PA3且垂直于在相對于指定透鏡24的表面的點PA3處的切線的直線(即，點PA3處的指定透鏡24的表面法線)LN。第二直線L2是以法線LN為對稱軸而與第一直線LI呈線對稱的關(guān)系的直線。即，第一直線LI與第二直線L2所成的角的平分線相當于法線LN。
[0052]圖7與圖4同樣是將發(fā)光元件層34放大后的截面圖。但是，從防止圖示的繁雜化的觀點出發(fā)，在圖7中，為方便起見，省略了陰影線。如圖7所示，在以上的條件下規(guī)定的第二直線L2與發(fā)光部30的第二電極層64的表面(或者發(fā)光層63或者第一電極層61的表面)的交點PA4被規(guī)定于基準面內(nèi)。由第二直線L2和第一直線LI規(guī)定的路徑相當于成為從發(fā)光區(qū)域70出射而在指定透鏡24的表面上反射的攝像光是否到達受光元件14的受光面16內(nèi)的界限的光路。即，從交點PA4的內(nèi)側(cè)(指定透鏡24的光軸LO側(cè))出射而在指定透鏡24的表面上反射的攝像光可能通過第一電極層61的開口部614而到達受光元件14的受光面
16。另一方面，從交點PA4的外側(cè)(指定透鏡24的光軸LO的相反側(cè))出射而在指定透鏡24的表面上反射的攝像光被第一電極層61遮擋、或者到達基板12中的受光面16的外側(cè)的區(qū)域，不到達受光元件14的受光面16。即，可以防止透鏡反射光的直接受光?？紤]到以上的傾向，在第二實施方式中，從交點PA4觀察，以位于指定透鏡24的光軸LO的相反側(cè)的方式劃定發(fā)光區(qū)域70。具體而言，從交點PA4觀察，以發(fā)光區(qū)域70位于指定透鏡24的光軸LO的相反側(cè)的方式選擇絕緣層62的尺寸、形狀。
[0053]圖8是發(fā)光區(qū)域70的平面的形狀的說明圖。如圖8所示，由以指定透鏡24的光軸LO為旋轉(zhuǎn)軸使基準面旋轉(zhuǎn)時的各基準面內(nèi)的交點PA4的軌跡劃定的區(qū)域Q被圖示在圖8中。區(qū)域Q按聚光部20的每個透鏡24被劃定，以對應(yīng)于各透鏡24的方式俯視時排列為矩陣狀。發(fā)光區(qū)域70被劃定在基板32的表面321中的除了各區(qū)域Q以外的大致格子狀的區(qū)域內(nèi)。即，發(fā)光區(qū)域70和各區(qū)域Q俯視時互不重復。在第一實施方式中，如前述那樣，由于由絕緣層62的外周邊緣621規(guī)定發(fā)光區(qū)域70的平面形狀，因而如圖8所示，對應(yīng)于各透鏡24的圓環(huán)狀的絕緣層62的外周邊緣621也可以換句話說是位于區(qū)域Q的外側(cè)。
[0054]在第二實施方式中，也可以實現(xiàn)與第一實施方式同樣的效果。另外，在第二實施方式中，從第二直線L2與第二電極層64的表面的交點PA4觀察，由于發(fā)光區(qū)域70位于指定透鏡24的光軸LO的相反側(cè)，因而可以抑制透鏡反射光的直接受光。
[0055]<第三實施方式>
[0056]圖9與圖6同樣是顯示包括聚光部20的任意一個透鏡(指定透鏡)24的光軸LO的基準面上的受光元件14、遮光層44和指定透鏡24的位置關(guān)系的示意圖。如圖9所示，在第三實施方式中，第三直線L3和第四直線L4被規(guī)定在基準面內(nèi)。
[0057]第三直線L3是通過基準面內(nèi)的點PBl和點PB2的直線。點PBl與第二實施方式的點PAl同樣，是與指定透鏡24對應(yīng)的受光元件14的受光面16的一側(cè)(圖9中光軸LO的右側(cè))的周邊相對應(yīng)的地點。另一方面，點PB2是在基準面內(nèi)，與指定透鏡24對應(yīng)的遮光層44的開口部46中的、從指定透鏡24的光軸LO觀察而對應(yīng)于另一側(cè)(圖9中光軸LO的左偵D的內(nèi)周邊的地點。因此，第三直線L3在點PBl與點PB2之間與指定透鏡24的光軸LO交叉。另一方面，第四直線L4與第二實施方式的第二直線L2同樣，是以第三直線L3與指定透鏡24的表面交叉的點PB3處的該表面的法線LN為對稱軸而與第三直線L3呈線對稱的關(guān)系的直線。
[0058]圖10與圖7同樣是將發(fā)光元件層34放大后的截面圖。如圖10所示，在以上的條件下規(guī)定的第四直線L4與發(fā)光部30的第二電極層64的表面的交點PB4被規(guī)定在基準面內(nèi)。從交點PB4的內(nèi)側(cè)(指定透鏡24的光軸LO側(cè))出射而在指定透鏡24的表面上反射的攝像光可能通過遮光層44的開口部46到達受光元件14的受光面16。另一方面，從交點PB4的外側(cè)(指定透鏡24的光軸LO的相反側(cè))出射而在指定透鏡24的表面上反射的攝像光被遮光層44遮擋、或者到達基板12中的受光面16的外側(cè)的區(qū)域，不到達受光元件14的受光面16。考慮到以上的傾向，在第三實施方式中，以從交點PB4觀察發(fā)光區(qū)域70被劃定于指定透鏡24的光軸LO的相反側(cè)的方式選擇絕緣層62的尺寸、形狀。另外，與圖8同樣，如果按聚光部20的每個透鏡24劃定相當于交點PB4的軌跡的區(qū)域Q，則發(fā)光區(qū)域70也可以換句話說是被劃定于基板32的表面321中的除了各區(qū)域Q以外的大致格子狀的區(qū)域內(nèi)。即，對應(yīng)于各透鏡24的圓環(huán)狀的絕緣層62的外周邊緣621位于區(qū)域Q的外側(cè)，發(fā)光區(qū)域70與各區(qū)域Q俯視時互不重疊。
[0059]在第三實施方式中，也可以實現(xiàn)與第一實施方式同樣的效果。另外，在第三實施方式中，從第四直線L4與第二電極層64的表面的交點PB4觀察，由于發(fā)光區(qū)域70位于指定透鏡24的光軸LO的相反側(cè)，因而與第二實施方式同樣，可以抑制透鏡反射光的直接受光。
[0060]<變形例>
[0061]上述的各方式可以被變形為多種多樣。以下將例示具體的變形方式。從以下的例示中任意地選擇的量種以上的方式可以被適當?shù)睾喜ⅰ?br> [0062](I)在上述的各方式中，在遍及基板32的整個區(qū)域地使發(fā)光層63連續(xù)地分布的結(jié)構(gòu)中，通過使絕緣層62介于第一電極層61與第二電極層64之間而劃定了發(fā)光區(qū)域70，但是用于劃定發(fā)光區(qū)域70的結(jié)構(gòu)不限于以上的例示。例如，也可以以成為具備上述的各方式中例示的條件的發(fā)光區(qū)域70的平面形狀的方式形成發(fā)光層63。例如，可以通過選擇性地除去由有機EL材料形成于基板32上的膜體的光刻技術(shù)、將有機EL材料選擇性地涂布在基板32的指定區(qū)域上的印刷技術(shù)(例如液滴吐出技術(shù))，從而可以形成任意的形狀的發(fā)光層63。
[0063](2)在上述的各方式中，雖然將發(fā)光部30的基板32和遮光部40的基板42作為單獨的部分，但也可以將基板32和基板42作為單一的基板。即，在單一基板的一個表面上形成發(fā)光兀件層34,在另一個表面上形成遮光層44。但是,在如上述那樣將發(fā)光部30的基板32和遮光部40的基板42形成為分離體的結(jié)構(gòu)中，具有能夠相互獨立地執(zhí)行在基板32上形成發(fā)光元件層34的工序和在基板42上形成遮光層44的工序的優(yōu)點。
[0064](3)在上述的各方式中，雖然例示了拍攝生物體認證用的靜脈圖像的攝像裝置100(靜脈傳感器)，但本發(fā)明的用途是任意的。本發(fā)明也能夠被應(yīng)用于例如根據(jù)攝像裝置100拍攝到的生物體的靜脈圖像推斷血液中的酒精濃度的酒精檢測裝置、從攝像裝置100拍攝的生物體的靜脈圖像推斷血糖值的血糖值推斷裝置。另外，也可以將本發(fā)明應(yīng)用于從印刷物讀取圖像的圖像讀取裝置。此外，在將本發(fā)明應(yīng)用于圖像讀取裝置時，可見光優(yōu)選被用作攝像光。
[0065]符號說明[0066]100攝像裝置200被攝體
[0067]10 受光部、12、22、32、42 基板
[0068]14受光元件16受光面
[0069]18粘合劑20聚光部
[0070]24透鏡30發(fā)光部
[0071]34發(fā)光兀件層40遮光層
[0072]44遮光層46開口部
[0073]61第一電極層614開口部
[0074]62絕緣層63發(fā)光層
[0075]64第二電極層65密封層[0076]70發(fā)光區(qū)域
【權(quán)利要求】
1.一種攝像裝置，其特征在于，具備: 光透過性的第一基板，所述第一基板包括第一面； 多個透鏡，與所述第一面相對且聚集來自所述第一基板的相反側(cè)的入射光； 發(fā)光層，位于所述第一面的表面上；以及 多個受光元件，隔著所述第一基板而設(shè)置在多個所述透鏡的相反側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像裝置，其特征在于， 所述攝像裝置具備:遮光性的開口規(guī)定層，所述開口規(guī)定層設(shè)置于所述第一面與所述發(fā)光層之間，且所述開口規(guī)定層具有使多個所述透鏡聚集的光通過的多個第一開口部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的攝像裝置，其特征在于， 所述開口規(guī)定層是與所述發(fā)光層電連接的第一電極層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的攝像裝置，其特征在于， 所述攝像裝置具備:覆蓋所 述發(fā)光層的第二電極層， 在包括多個所述透鏡中的一個透鏡的光軸的基準面內(nèi)，在規(guī)定了第一直線以及第二直線的情況下，從所述第二直線與所述第二電極層的表面的交點觀察，所述發(fā)光層的發(fā)光區(qū)域位于所述一個透鏡的光軸的相反側(cè)， 所述第一直線通過對應(yīng)于所述一個透鏡的所述受光元件的受光面中的從所述光軸觀察的一側(cè)的周邊、和所述開口規(guī)定層中的對應(yīng)于所述一個透鏡的第一開口部中的從所述光軸觀察的另一側(cè)的周邊， 所述第二直線將所述第一直線與所述一個透鏡的表面的交點處的該表面的法線作為對稱軸而與所述第一直線呈線對稱。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的攝像裝置，其特征在于， 所述攝像裝置具備:遮光層，所述遮光層設(shè)置于所述第一基板與多個所述受光元件之間，所述遮光層具有對應(yīng)于各所述透鏡的多個第二開口部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的攝像裝置，其特征在于， 所述攝像裝置具備:光透過性的第二基板，隔著所述第一基板設(shè)置于多個所述透鏡的相反側(cè)， 所述遮光層設(shè)置于所述第二基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的攝像裝置，其特征在于， 所述第二基板接合于所述第一基板中的與所述第一面相反側(cè)的第二面， 所述遮光層設(shè)置于所述第二基板中的與所述第一基板相反側(cè)的表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項所述的攝像裝置，其特征在于， 所述攝像裝置具備:覆蓋所述發(fā)光層的第二電極層， 在包括多個所述透鏡中的一個透鏡的光軸的基準面內(nèi)，在規(guī)定了第三直線以及第四直線的情況下，從所述第四直線與所述第二電極層的表面的交點觀察，所述發(fā)光層的發(fā)光區(qū)域位于所述一個透鏡的光軸的相反側(cè)， 所述第三直線通過對應(yīng)于所述一個透鏡的所述受光元件的受光面中的從所述光軸觀察的一側(cè)的周邊、和所述遮光層中的對應(yīng)于所述一個透鏡的第二開口部中的從所述光軸觀察的另一側(cè)的周邊， 所述第四直線將所述第三直線與所述一個透鏡的表面的交點處的該表面的法線作為對稱軸而與所述第 三直線呈線對稱。
【文檔編號】H04N5/225GK103685883SQ201310449958
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年9月25日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月26日
【發(fā)明者】土屋仁, 江口司, 石黑英人 申請人:精工愛普生株式會社