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      硅基三維立體集成接收前端的制作方法

      文檔序號:10491797閱讀:438來源:國知局
      硅基三維立體集成接收前端的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明是三維立體接收前端,包括上層集成輻射單元的MEMS天線,中層具有微屏蔽結構的MEMS濾波器,下層實現(xiàn)接收通道功能及性能的硅基轉接板;上、中、下三層通過TSV技術實現(xiàn)信號互連。本發(fā)明優(yōu)點:1)采用MEMS加工工藝,可實現(xiàn)天線和濾波器小型化;2)采用MEMS加工工藝,可與傳統(tǒng)集成電路工藝集成兼容;3)采用高阻硅基基板結構,內部可集成無源元件,實現(xiàn)多種功能,集成度高;4)所用濾波器采用微電子工藝加工克服傳統(tǒng)濾波器由于加工精度導致的頻飄問題;5)所用天線、濾波器、接收通道通過TSV技術實現(xiàn)垂直互連,減小體積;6)實現(xiàn)40GHz以內的硅基立體接收前端,微波性能優(yōu)良,實現(xiàn)接收前端的小型化和低成本化。
      【專利說明】
      硅基三維立體集成接收前端
      技術領域
      [0001]本發(fā)明涉及的是一種涉及微波、毫米波頻段的硅基三維立體接收前端,屬于微波、微電子、MEMS交叉技術領域。
      【背景技術】
      [0002]隨著現(xiàn)代通信及雷達系統(tǒng)技術發(fā)展,系統(tǒng)中需要大量高可靠性、小型化、低成本的集成模塊。三維立體集成技術為電子產品性能的提高、功能的豐富與完善、成本的降低創(chuàng)造了有利條件,所謂三維立體集成是指通過采用三維(X,Y, z方向)結構形式對各類芯片進行立體結構的三維集成技術,該技術借助三維疊層技術制作,系統(tǒng)之間溝通的電氣及散熱管道均采用縱向垂直布局。一直以來,數(shù)字電路尤其是大容量存儲領域在三維立體集成領域得到了長足發(fā)展,為人們展示了三維立體集成在性能和體積上的巨大優(yōu)勢,但是在微波毫米波領域,由于三維垂直傳輸帶來的性能惡化,尚在進行前沿性研究。本發(fā)明主要利用MEMS工藝研究TSV作為微波傳輸?shù)年P鍵技術,實現(xiàn)微波通道、天線以及濾波器的立體集成,減小射頻前端的體積。

      【發(fā)明內容】

      [0003]本發(fā)明的目的是提供一種新型基于MEMS工藝技術的三維立體接收前端的設計方法,不僅工作頻率較高,性能優(yōu)異,同時該接收前端體積小,厚度薄,可集成多種無源器件。
      [0004]本發(fā)明的技術解決方案:三維立體接收前端,其結構包括集成輻射單元的MEMS天線I,具有微屏蔽結構的MEMS濾波器2,實現(xiàn)接收通道功能及性能的硅基轉接板3;
      所述MEMS天線I包含輻射單元貼片,貼片表面金屬采用銅(Cu)材料,通過TSV過孔對輻射單元進行激勵,貼片單元底部娃基材料通過MEMS工藝挖腔處理;
      所述的具有微屏蔽結構的MEMS濾波器2包括上下兩層襯底,通過鍵合工藝形成一體,下層襯底包含耦合線諧振器和傳輸結構,上層襯底對濾波器形成密閉;
      所述的硅基轉接板3至少包括三層金屬布線,金屬采用銅(Cu)材料,硅基表面使用多層低介電常數(shù)的介質材料進行金屬層之間的隔離和表面鈍化保護,基板表面利用多層技術設計模塊所需的各類無源元件,轉接板表面采用微組裝工藝安裝實現(xiàn)接收功能的MMIC;硅基轉接板底部通過TSV將信號引入模塊底部,形成模塊射頻及低頻接口。
      [0005]接收前端上層為背腔式MEMS天線,采用硅基材料進行制作,頂部為輻射單元,天線背面通過腐蝕方法設計腔體,用于拓寬天線帶寬,提高天線增益。
      中層為微屏蔽式MEMS濾波器,該濾波器由上下兩層襯底組成,利用深刻蝕通孔技術、三維金屬互連技術、DRIE(深反應離子刻蝕)和各種鍵合工藝實現(xiàn)濾波器所需微腔體,減小了傳統(tǒng)的傳輸線型微波濾波器的尺寸,且易于和傳統(tǒng)IC(集成電路)工藝集成。
      [0006]底層為硅基轉接板,基板采用高阻硅作為襯底,硅基表面使用多層低介電常數(shù)的介質材料進行金屬層之間的隔離和表面鈍化保護,基板表面利用多層技術設計組件所需的各類無源元件如功分器、電阻、電容、濾波器,微波、數(shù)字芯片等各類分立元件采用微組裝的方法進行安裝,實現(xiàn)接收通道性能。
      [0007]上、中、下三層通過TSV技術完成微波信號三維互連,通過三維互連實現(xiàn)接收前端的立體構成,大大減小模塊體積。
      [0008]本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比,其顯著優(yōu)點為:
      1)采用MEMS加工工藝,可實現(xiàn)天線和濾波器小型化;
      2)采用MEMS加工工藝,可與傳統(tǒng)集成電路工藝集成兼容;
      3)采用高阻硅基基板結構,內部可集成無源元件,實現(xiàn)多種功能,集成度高;
      4)所用濾波器采用微電子工藝加工克服傳統(tǒng)濾波器由于加工精度導致的頻飄問題;
      5)所用天線、濾波器、接收通道通過TSV技術實現(xiàn)垂直互連,大大減小體積。
      【附圖說明】
      [0009]圖1是三維立體接收前端的結構示意圖(實施例)。
      [0010]圖2是三維立體接收前端的原理圖。
      [0011]圖中的101為MEMS天線貼片,102為天線基板背腔,103為濾波器上層襯底,104為濾波器下層襯底,105-1為天線與濾波器三維傳輸互連的TSV,105-2為濾波器與硅基轉接板三維傳輸互連的TSV,105-3為硅基轉接板與外部三維傳輸互連的TSV,106為實現(xiàn)接收功能的MMIC。
      【具體實施方式】
      [0012]對照附圖,三維立體接收前端,其特征在于:包括集成輻射單元的MEMS天線I,具有微屏蔽結構的MEMS濾波器2,實現(xiàn)接收通道功能及性能的硅基轉接板3;
      所述MEMS天線I包含輻射單元貼片,貼片表面金屬采用銅(Cu)材料,通過TSV過孔對輻射單元進行激勵,貼片單元底部娃基材料通過MEMS工藝挖腔處理;
      所述具有微屏蔽結構的MEMS濾波器2包括上下兩層襯底,通過鍵合工藝形成一體,下層襯底包含耦合線諧振器和傳輸結構,上層襯底對濾波器形成密閉;
      所述硅基轉接板3至少包括三層金屬布線,金屬采用銅(Cu)材料,硅基表面使用多層低介電常數(shù)的介質材料進行金屬層之間的隔離和表面鈍化保護,基板表面利用多層技術設計模塊所需的各類無源元件,轉接板表面采用微組裝工藝安裝實現(xiàn)接收功能的MMIC;
      硅基轉接板底部通過TSV將信號引入模塊底部,形成模塊射頻及低頻接口,MEMS天線I設在上層,具有微屏蔽結構的MEMS濾波器2設在中層,實現(xiàn)接收通道功能及性能的硅基轉接板3設在下層,上、中、下三層通過TSV技術實現(xiàn)信號互連。
      [0013]所述硅基基板表面采用微組裝方式將各類微波單片集成電路、數(shù)字集成電路安裝到硅基表面,從而具備完整接收前端功能。
      [0014]所述利用MEMS工藝,將天線、接收通道、濾波器在Z軸方向進行堆疊,改變平面式組件設計方法,減小體積。
      [0015]利用MEMS技術實現(xiàn)各類有源無源器件的立體集成,減小體積。
      [0016]TSV通孔不僅傳輸?shù)皖l信號,也進行微波信號傳輸,具有頻率特性。
      [0017]采用MEMS工藝集成天線。
      [0018]采用MEMS工藝構成濾波器,具有良好的電磁兼容性。
      [0019]對照圖2,硅基天線對射頻信號進行選擇,同時對不需要的頻率起到一定的濾波作用;BPFl對天線進來的頻率進行選擇,抑制過強的干擾信號,對低噪放有一定的保護作用,同時抑制鏡像頻率,提高接收機的輸出信噪比;LNA對選擇后的信號進行放大,保證接收機的噪聲系數(shù)和接收靈敏度;混頻器則起到提供射頻和中頻頻率組合作用,BPF2抑制諧波,選擇輸出中頻,經過放大進入下一級信號處理。
      實施例
      [0020]三維立體集成接收前端,其結構包括上層MEMS天線,該天線包含輻射單元貼片101,輻射單元貼片背面的背腔102,連接上中兩層的TSV過孔105-1。
      [0021]中層結構包括濾波器上層襯底103,濾波器下層襯底104上下兩層襯底,濾波器上層襯底103包括采用深刻蝕通孔技術、三維金屬互連技術、DRIE(深反應離子刻蝕)設計制作的微腔體,通過鍵合技術將濾波器下層襯底104層鍵合到濾波器上層襯底103層表面,實現(xiàn)濾波器的微屏蔽。濾波器與硅基轉接板三維傳輸互連的TSV 105-2為連接中層與下層之間的TSV過孔。
      [0022]下層結構包括實現(xiàn)接收功能的MMIC106和硅基轉接板與外部三維傳輸互連的TSV105-3以及底部的硅基轉接板,MMIC 106為具備各項功能的MMIC和數(shù)字芯片,用于實現(xiàn)接收通道各類功能,外部三維傳輸互連的TSV 105-3為連接下層基板與外界接口的TSV過孔,用于實現(xiàn)各類微波及數(shù)字接口。
      【主權項】
      1.三維立體接收前端,其特征在于:包括集成輻射單元的MEMS天線(I),具有微屏蔽結構的MEMS濾波器(2),實現(xiàn)接收通道功能及性能的硅基轉接板(3); 所述MEMS天線(I)包含輻射單元貼片,貼片表面金屬采用銅(Cu)材料,通過TSV過孔對福射單元進行激勵,貼片單元底部娃基材料通過MEMS工藝挖腔處理; 所述具有微屏蔽結構的MEMS濾波器(2)包括上下兩層襯底,通過鍵合工藝形成一體,下層襯底包含耦合線諧振器和傳輸結構,上層襯底對濾波器形成密閉; 所述硅基轉接板(3)至少包括三層金屬布線,金屬采用銅(Cu)材料,硅基表面使用多層低介電常數(shù)的介質材料進行金屬層之間的隔離和表面鈍化保護,基板表面利用多層技術設計模塊所需的各類無源元件,轉接板表面采用微組裝工藝安裝實現(xiàn)接收功能的MMIC; 硅基轉接板底部通過TSV將信號引入模塊底部,形成模塊射頻及低頻接口,MEMS天線(I)設在上層,具有微屏蔽結構的MEMS濾波器(2)設在中層,實現(xiàn)接收通道功能及性能的硅基轉接板(3)設在下層,上、中、下三層通過TSV技術實現(xiàn)信號互連。2.根據(jù)權利要求1所述三維立體接收前端,其特征在于:硅基基板表面采用微組裝方式將各類微波單片集成電路、數(shù)字集成電路安裝到硅基表面,從而具備完整接收前端功能。3.根據(jù)權利要求1所述三維立體接收前端,其特征在于:利用MEMS工藝,將天線、接收通道、濾波器在Z軸方向進行堆疊,改變平面式組件設計方法,減小體積。
      【文檔編號】H04B1/16GK105846841SQ201610159644
      【公開日】2016年8月10日
      【申請日】2016年3月21日
      【發(fā)明人】周駿, 郁元衛(wèi), 沈國策
      【申請人】中國電子科技集團公司第五十五研究所
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