專利名稱：有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法及有機(jī)電致發(fā)光裝置以及電子裝置的制作方法
專利說明有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法及有 機(jī)電致發(fā)光裝置以及電子裝置 [發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域]本發(fā)明涉及有機(jī)電致發(fā)光(在本說明書中記作EL)裝置及其制造方法。近年來作為代替液晶顯示器的自發(fā)發(fā)光型顯示器，正在加速開發(fā)使用有機(jī)物的發(fā)光元件。關(guān)于將有機(jī)物作為發(fā)光材料用的有機(jī)電致發(fā)光(在本說明書中記作EL)元件，主要報告了以下兩種方法如Appl.Phys.Lett.51(12)，21 September 1987的913頁所示，用蒸鍍法形成低分子的有機(jī)EL材料(發(fā)光材料)膜的方法；以及如Appl.Phys.Lett.71(1)，7 July 1997的34頁所示，涂敷高分子的有機(jī)EL材料的方法。
作為彩色化的裝置，在低分子系列材料的情況下，采用隔著掩模在所希望的像素上蒸鍍不同的發(fā)光材料形成的方法。另一方面，關(guān)于高分子類材料，采用噴墨法的形成微細(xì)圖形的彩色化引人注目。作為采用噴墨法的有機(jī)EL元件的形成方法，已知以下的眾所周知的例子特開平7-235378、特開平10-12377、特開平10-153967、特開平11-40358、特開平11-54270、特開平11-339957、US006087196。由于噴墨法能以高分辨率噴出、涂敷直徑為微米級的液滴，所以能形成有機(jī)EL材料的高精細(xì)圖形?？墒?，涂敷在基板上的微小液滴干燥得極快，另外，在基板上的涂敷區(qū)域的端部(上端、下端、右端、左端)，由于從涂敷在顯示區(qū)域的微小液滴蒸發(fā)的溶劑分子的分壓低，所以一般會快速干燥。另外，在由TFT元件進(jìn)行有源驅(qū)動的情況下，在TFT元件區(qū)域、或布線等的形狀、配置的關(guān)系方面，有時像素不能都沿X、Y方向等間隔地配置，在涂敷在各像素上的液滴的周圍產(chǎn)生局部的溶劑分子蒸發(fā)的分壓差。涂敷在這樣的像素上的有機(jī)材料液體的干燥時間的差引起像素內(nèi)、像素之間的有機(jī)薄膜的厚度不勻。這樣的膜厚不勻成為亮度不勻、發(fā)光顏色不勻等的顯示不勻的原因。
那么，作為本發(fā)明的目的在于，在將有機(jī)EL材料噴出、涂敷在電極上形成有機(jī)EL層的有機(jī)EL裝置的制造中，提供一種使涂敷在像素區(qū)域中的有機(jī)EL材料溶液的周圍環(huán)境均勻地干燥，在有效光學(xué)區(qū)域中的各像素之間及像素內(nèi)沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現(xiàn)象的有機(jī)EL裝置及有機(jī)EL裝置的制造方法。本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，是將包含有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物涂敷在多個電極上，借以在各電極上分別形成有機(jī)電致發(fā)光層，其特征在于設(shè)置由上述多個電極形成的有效光學(xué)區(qū)域，使包含有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物的涂敷區(qū)域比上述有效光學(xué)區(qū)域大。
采用上述制造方法，在有效光學(xué)區(qū)域中能使涂敷在有效光學(xué)區(qū)域內(nèi)的有機(jī)EL材料液體的周圍環(huán)境均勻地干燥，能使各像素之間及像素內(nèi)的膜厚均勻。另外，所謂有機(jī)電致發(fā)光層是指對發(fā)光有貢獻(xiàn)的層而言，包括空穴注入層、發(fā)光層、電子注入層等。另外，所謂有效光學(xué)區(qū)域，例如在有機(jī)EL裝置是顯示裝置的情況下，表示有效光學(xué)區(qū)域，另外在有機(jī)EL裝置是照明裝置的情況下，表示對照明有貢獻(xiàn)的區(qū)域。
本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法的特征在于最好在上述有效光學(xué)區(qū)域的周圍也設(shè)置涂敷區(qū)域。
采用上述制造方法，在有效光學(xué)區(qū)域中能抑制端部的像素內(nèi)液滴比內(nèi)側(cè)的像素內(nèi)液滴干燥得極端地快，能使有效光學(xué)像素之間的膜厚變得均勻。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法的特征在于在上述有效光學(xué)區(qū)域的周圍設(shè)置的涂敷區(qū)域最好是空區(qū)，在該空區(qū)中也涂敷有機(jī)EL材料溶液，形成有機(jī)EL薄膜層。
另外，最好在上述空區(qū)中形成由與上述電極同樣的材料構(gòu)成的層，將包含上述有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物涂敷在上述層上。
采用上述制造方法，即使在有效光學(xué)區(qū)域端部的像素中，也能使涂敷的有機(jī)EL材料液體的周圍環(huán)境均勻，能抑制有效光學(xué)區(qū)域端部的像素內(nèi)液滴比內(nèi)側(cè)的像素內(nèi)液滴干燥得極端地快，能使有效光學(xué)區(qū)域的各像素之間的有機(jī)EL薄膜層的厚度均勻。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法的特征在于最好在基板上設(shè)置兩個以上的由上述有效光學(xué)區(qū)域構(gòu)成的有效光學(xué)區(qū)域組，在各有效光學(xué)區(qū)域的周圍分別設(shè)置空區(qū)，同時在上述有效光學(xué)區(qū)域組的周圍也設(shè)置另一個空區(qū)。
這里所謂空區(qū)，是指與顯示和照明沒有關(guān)系的區(qū)域。因此，在空區(qū)中形成的有機(jī)EL層可以不發(fā)光，但如果對顯示和照明沒有影響的情況下也可以發(fā)光。
如果采用上述的制造方法，則在一個基板上設(shè)置兩個以上的有效光學(xué)區(qū)域，在最后的工序中切斷各有效光學(xué)區(qū)域，在制造兩個以上的有機(jī)EL裝置的情況下，能使涂敷在有效光學(xué)區(qū)域端部的像素上的有機(jī)EL材料液體的周圍環(huán)境與其他像素同樣均勻，能抑制有效光學(xué)區(qū)域端部的像素內(nèi)液滴比內(nèi)側(cè)的像素內(nèi)液滴干燥得極端地快，能使像素之間的有機(jī)EL薄膜層的厚度均勻。因此，能用一片基板一次制造各像素之間及像素內(nèi)沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現(xiàn)象的多個有機(jī)EL裝置。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法的特征在于最好在涂敷包含上述有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物的情況下，開始涂敷時涂敷了空區(qū)之后再涂敷有效光學(xué)區(qū)域，涂敷結(jié)束時在涂敷了有效光學(xué)區(qū)域后，涂敷空區(qū)而結(jié)束。
如果采用上述的制造方法，則從空區(qū)開始有機(jī)電致發(fā)光材料溶液的涂敷，且在空區(qū)結(jié)束，所以能穩(wěn)定地進(jìn)行其間的有效光學(xué)區(qū)域的涂敷。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法的特征在于全部涂敷區(qū)域內(nèi)的各個涂敷區(qū)域最好有相等的間隔。
采用上述的制造方法，在有效光學(xué)區(qū)域中，能使有效光學(xué)區(qū)域內(nèi)涂敷的有機(jī)EL材料液體的周圍環(huán)境均勻地干燥，能使各像素之間及像素內(nèi)的有機(jī)EL薄膜層的厚度均勻。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法的特征在于最好以等間隔配置相鄰的上述電極。采用上述的制造方法，在有效光學(xué)區(qū)域中，能使有效光學(xué)區(qū)域內(nèi)涂敷的有機(jī)EL材料液體的周圍環(huán)境均勻地干燥，能使有效光學(xué)像素之間和各像素內(nèi)的有機(jī)EL薄膜層的厚度均勻。
本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法是一種具有包括多個電極、以及上述電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的區(qū)域中、以及在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域以外的區(qū)域中，形成上述電致發(fā)光層。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的制造方法是一種具有包括多個電極、以及上述電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的不形成上述電極的區(qū)域中，形成有機(jī)電致發(fā)光層。
另外，如果采用本發(fā)明，則能提供利用上述方法制造的有機(jī)EL裝置。在這樣的有機(jī)EL裝置中，在有效光學(xué)區(qū)域內(nèi)的各像素之間及像素內(nèi)沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻的現(xiàn)象，能實(shí)現(xiàn)均勻的EL顯示。
其次，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置最好是有多個電極、在上述多個電極上分別形成有機(jī)EL層的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于包括由上述多個電極形成的有效光學(xué)區(qū)域、以及在上述有效光學(xué)區(qū)域的周圍形成上述有機(jī)電致發(fā)光層的空區(qū)。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于最好在上述多個電極之間有圍堤層，在上述空區(qū)中，上述有機(jī)EL層配置在由與上述圍堤層相同的材料構(gòu)成的層的上方。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于上述圍堤層最好包括無機(jī)物圍堤層及有機(jī)物圍堤層，在上述空區(qū)中，上述有機(jī)EL層配置在由與上述無機(jī)物圍堤層相同的材料構(gòu)成的層的上方。
另外，在上述空區(qū)中形成的上述有機(jī)電致發(fā)光層之間最好形成上述圍堤層。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于在上述空區(qū)中，上述有機(jī)EL層最好配置在由與上述有機(jī)物圍堤層相同的材料構(gòu)成的層的上方。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于在上述空區(qū)中，上述有機(jī)EL層最好配置在由與上述電極相同的材料構(gòu)成的層的上方。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于在上述有效光學(xué)區(qū)域及上述空區(qū)中，相鄰的上述有機(jī)EL層的間隔最好相等。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于最好在上述空區(qū)中形成的有機(jī)電致發(fā)光層之間形成上述圍堤層。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于在上述有效光學(xué)區(qū)域及上述空區(qū)中，相鄰的上述有機(jī)電致發(fā)光層的間隔最好相等。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置的特征在于上述有效光學(xué)區(qū)域及上述空區(qū)在上述基板上方的斷面結(jié)構(gòu)最好大致相同。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置最好是一種具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的區(qū)域中、以及在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域以外的區(qū)域中，形成上述電致發(fā)光層。
另外，本發(fā)明的有機(jī)EL裝置最好是一種具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的不形成上述電極的區(qū)域中，形成有機(jī)電致發(fā)光層。
另外，如果采用本發(fā)明，則能提供備有上述的有機(jī)EL裝置的電子裝置。如果采用這樣的電子裝置，則能實(shí)現(xiàn)在各像素之間及像素內(nèi)沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現(xiàn)象的均勻EL顯示和照明。圖1是表示采用噴墨方式的有機(jī)EL裝置的制造方法之一例的剖面圖。
圖2是表示采用本發(fā)明的噴墨方式的有機(jī)EL裝置的制造方法之一例的剖面圖。
圖3是說明實(shí)施例1的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖4是說明實(shí)施例2的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖5是說明實(shí)施例3的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖6是說明實(shí)施例4的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖7是說明實(shí)施例5的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖8是說明實(shí)施例6的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖9是說明實(shí)施例7的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖10是說明實(shí)施例8的有機(jī)EL裝置的制造方法的圖，(A)是空穴注入層形成前的基板的平面圖，(B)是沿(A)中的MM’線的局部剖面圖。
圖11是說明實(shí)施例8的有機(jī)EL裝置的制造方法的工序圖。
圖12是說明實(shí)施例9的有機(jī)EL裝置的制造方法的圖，是空穴注入層形成前的基板的平面圖。
圖13是說明實(shí)施例9的有機(jī)EL裝置的制造方法的圖，是表示噴墨頭的軌跡的示意圖。
圖14是說明實(shí)施例9的有機(jī)EL裝置的另一制造方法的圖。
圖15是表示實(shí)施例10的電子裝置的斜視圖。以下，用


本發(fā)明的實(shí)施例。另外，給出將有機(jī)EL裝置作為顯示裝置用的例子。
采用噴墨方式的有機(jī)EL裝置的制造方法是這樣一種形成空穴注入/輸運(yùn)層及發(fā)光層的方法，即從噴墨頭噴出將由形成像素的有機(jī)物構(gòu)成的空穴注入層材料及發(fā)光材料溶解或分散在溶劑中的油墨組成物，涂敷在透明電極上形成圖形。為了將噴出的墨滴精確地涂敷在規(guī)定的像素區(qū)域中形成圖形，通常設(shè)置將像素區(qū)域隔開的間壁(以下稱圍堤)。
圖1表示采用噴墨方式的有機(jī)EL裝置的制造中使用的基板結(jié)構(gòu)之一例的剖面圖。在玻璃基板10上形成有薄膜晶體管(TFT)11的電路元件部11’，在該電路元件部11’上形成由ITO構(gòu)成的透明電極12的圖形。另外，在劃分透明電極12的區(qū)域中層疊SiO2圍堤13和由具有斥墨性或被斥墨化了的有機(jī)物構(gòu)成的有機(jī)物圍堤14。圍堤的形狀即像素的開口形狀可以是圓形、橢圓形、方形等任意的形狀，但由于油墨組成物具有表面張力，所以方形的角部最好呈圓形。有機(jī)物圍堤14的材料沒有特別限制，只要是具有耐熱性、斥液性、耐墨溶劑性、與基底基板的緊密粘結(jié)性優(yōu)越的材料即可。有機(jī)物圍堤14也可以這樣形成即使不是原來備有斥液性的材料、例如氟系列樹脂，而是使通常使用的丙烯酸樹脂或聚酰亞胺樹脂等有機(jī)樹脂形成圖形，經(jīng)過CF4等離子體處理等，使表面斥液化。圍堤不限于上述的無機(jī)物和有機(jī)物層疊的結(jié)構(gòu)，但在例如由ITO構(gòu)成透明電極14的情況下，為了提高與透明電極14的緊密粘結(jié)性，最好是SiO2圍堤13。有機(jī)物圍堤14的高度達(dá)到1～2微米左右就足夠了。
其次，參照圖2，沿著各工序的剖面結(jié)構(gòu)說明采用噴墨方式的有機(jī)EL裝置的制造方法之一例。
在圖2(A)中，采用噴墨方式將包含有機(jī)EL材料的溶液(油墨組成物)涂敷在有圍堤結(jié)構(gòu)的像素基板上形成圖形，形成有機(jī)EL薄膜。從噴墨頭16噴出有機(jī)EL材料油墨組成物15，如該圖(B)所示使之命中，涂敷成圖形。涂敷后進(jìn)行真空及/或熱處理或利用氮?dú)饬鲗⑷軇┏?，形成有機(jī)EL薄膜層17(該圖(C))。該有機(jī)EL薄膜層17是由空穴注入層及發(fā)光層構(gòu)成的層疊膜。
這時，由于在有效光學(xué)區(qū)域(與顯示有關(guān)的像素的形成區(qū)域)端部的顯示像素周圍不涂敷墨滴，所以在內(nèi)側(cè)的像素上油墨溶劑分子的分壓較低，溶劑迅速干燥，例如如圖2(C)所示，有時在顯示像素之間產(chǎn)生膜厚的差異。
因此，為了使涂敷在各像素上的液滴均勻地干燥，最好將油墨組成物也噴出并涂敷在有效光學(xué)區(qū)域的周圍，對涂敷在有效光學(xué)區(qū)域上的各液滴造成相同的環(huán)境。為了構(gòu)筑較為相同的環(huán)境，最好使供噴墨的有機(jī)材料的涂敷區(qū)域比有效光學(xué)區(qū)域大，例如，最好在有效光學(xué)區(qū)域的周圍設(shè)置具有與顯示像素形狀相同的圍堤結(jié)構(gòu)的空區(qū)(形成與顯示無關(guān)的空像素的區(qū)域)。
另外，為了使有效光學(xué)區(qū)域的像素之間的油墨組成物干燥得更均勻，最好使有效光學(xué)區(qū)域中的各個涂敷區(qū)域的間隔相等。因此，最好也等間隔地配置像素。在由于設(shè)置TFT和布線等致使各像素間隔沿X方向和Y方向呈不同的設(shè)計的情況下，也可以在間隔較寬的像素之間噴出墨滴，以便使涂敷區(qū)域的間隔相等。最好能在該像素之間設(shè)置形成了與像素部形狀相同的圍堤結(jié)構(gòu)的空像素。像素的形狀即使不是圓形、正方形那樣的點(diǎn)對稱的形狀，也可以是矩形、跑道形、橢圓形。在矩形、跑道形那樣的像素沿X方向和Y方向配置成不同間隔的情況下，即使不具有與像素部相同的形狀，在像素間隔寬的區(qū)域也會有效地形成涂敷區(qū)域，使得涂敷區(qū)域有相同的間隔。
另外，本發(fā)明不僅能用于有機(jī)EL裝置的顯示，而且能適用于將有機(jī)EL元件作為光源用的發(fā)光裝置、照明裝置。
以下，參照實(shí)施例更具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明不限于這些實(shí)施例。
(實(shí)施例1)本實(shí)施例中使用的基板是2英寸的TFT基板，在它上面沿X、Y方向都以70.5微米的間距配置了直徑為30微米的圓形像素。該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板上形成的具有TFT26的電路元件部26’構(gòu)成。在圖3(A)中示出了TFT基板右端一側(cè)的局部剖面圖(X方向)。在電路元件部26’上形成由ITO構(gòu)成的透明電極27，在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構(gòu)成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。用CVD法形成150nm的TEOS(原硅酸四乙酯)，用光刻法進(jìn)行構(gòu)圖，形成SiO2圍堤28。再將感光性聚酰亞胺涂敷在它上面，通過曝光、顯影，形成膜厚為2微米的聚酰亞胺圍堤29。另外，形成該圍堤的材料也可以采用非感光性材料。
另外，在圖3中，形成透明電極27的區(qū)域是有效光學(xué)區(qū)域，不用SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29劃分透明電極27的區(qū)域是空區(qū)B。
在噴墨涂敷之前，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進(jìn)行斥墨處理。大氣壓等離子體處理的條件是在大氣壓下，用300W的功率，電極-基板之間的距離為1mm，進(jìn)行氧等離子體處理，氧氣流量為100ml/min，氦氣流量為10l/min，工作臺傳送速度為10mm/s，接著進(jìn)行CF4等離子體處理，CF4氣體流量為100ml/min。氦氣流量為10l/min，工作臺傳送速度為3mm/s，如此往復(fù)進(jìn)行。
作為空穴注入層材料使用拜耳公司制的Bytron(注冊商標(biāo))，調(diào)制分散在作為極性溶劑的異丙醇、N-甲基吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮中的油墨組成物30，沿X、Y方向都以70.5微米的間距從噴墨頭(愛普森公司制MJ-930C)噴出、涂敷。這時，在顯示像素周圍上下、左右以相同的間距各多噴出30多行。在圖3(B)中示出了涂敷空穴注入層材料油墨組成物30的圖形后的基板右端一側(cè)的局部剖面圖。在有效光學(xué)區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在聚酰亞胺圍堤29上。
其次，在真空(1torr(133.3Pa))、室溫、20分鐘的條件下，除去溶劑，然后，在氮?dú)庵羞M(jìn)行200℃(在加熱板上)、10分鐘的熱處理，如圖3(C)所示，形成空穴注入層31。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，作為發(fā)光層，使用能發(fā)出紅色、綠色、藍(lán)色光的聚芴系材料，調(diào)制以下3種油墨組成物紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍(lán)色發(fā)光層用油墨組成物34。作為墨溶劑使用環(huán)己基苯。如圖3(C)所示，從噴墨頭噴出這些油墨組成物32、33、34，在X方向上以211.5微米的間距、在Y方向上以70.5微米的間距涂敷成圖形。這時，在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖3(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進(jìn)行封裝。
這樣，能獲得在有效光學(xué)區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進(jìn)行均勻顯示的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例2)在本實(shí)施例中，如圖4所示，與實(shí)施例1相同，使用在有效光學(xué)區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構(gòu)成。另外在電路元件部26’上形成由ITO構(gòu)成的透明電極27，再在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構(gòu)成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣，能在有效光學(xué)區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中，設(shè)置從SiO2圍堤延伸的SiO2膜28’，同時在該SiO2膜28’上形成與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距設(shè)置聚酰亞胺圍堤40構(gòu)成的空像素43。圖4(A)中示出了基板右端一側(cè)的局部剖面圖。
與實(shí)施例1相同，在圖4(B)中示出了以70.5微米的間距將空穴注入層用油墨組成物41涂敷在顯示像素42及空像素43上形成了圖形的形態(tài)。與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行干燥、熱處理，所形成的顯示像素42的空穴注入層的膜厚是均勻的。
其次，與實(shí)施例1同樣地將由聚芴系材料構(gòu)成的發(fā)光層油墨組成物涂敷在顯示像素42及空像素43上形成圖形，通過干燥形成的發(fā)光層膜厚在顯示像素42內(nèi)是均勻的。進(jìn)行了陰極形成、封裝后的有機(jī)EL裝置是在包括顯示像素42的有效光學(xué)區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的顯示均勻的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例3)在本實(shí)施例中，與實(shí)施例1相同，使用在有效光學(xué)區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。如圖5(A)所示，該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構(gòu)成。另外，在電路元件部26’上形成由ITO構(gòu)成的透明電極27，再在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構(gòu)成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣做，能在有效光學(xué)區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中的電路元件部26’上，設(shè)置與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距只形成聚酰亞胺圍堤29的空像素44。圖5(A)是基板右端一側(cè)的局部剖面圖。
其次，與實(shí)施例1相同，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進(jìn)行斥墨處理。
其次，如圖5(B)所示，與實(shí)施例1相同，在X、Y方向上都以70.5微米的間距，將包括空穴注入層材料的油墨組成物30涂敷在顯示像素42及空像素44上形成圖形。在有效光學(xué)區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在電路元件部26’上。
其次，在真空(1torr(133.3Pa))、室溫、20分鐘的條件下，除去溶劑，然后，在氮?dú)庵羞M(jìn)行200℃(在加熱板上)、10分鐘的熱處理，形成圖5(C)所示的空穴注入層31。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，與實(shí)施例1相同，調(diào)制以下3種油墨組成物紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍(lán)色發(fā)光層用油墨組成物34。如圖5(C)所示，從噴墨頭噴出這些油墨組成物32、33、34，在X方向上以211.5微米的間距、在Y方向上以70.5微米的間距涂敷成圖形。這時，最好在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖5(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊地形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進(jìn)行封裝。
這樣做，能獲得在有效光學(xué)區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進(jìn)行均勻顯示的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例4)在本實(shí)施例中，與實(shí)施例1相同，使用在有效光學(xué)區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。如圖6(A)所示，該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構(gòu)成。另外，在電路元件部26’上形成由ITO構(gòu)成的透明電極27，再形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構(gòu)成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣做，能在有效光學(xué)區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中的電路元件26’上，設(shè)置與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距通過層疊SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29，設(shè)置空像素45。圖6(A)是基板右端一側(cè)的局部剖面圖。
其次，與實(shí)施例1相同，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進(jìn)行斥墨處理，另外，如圖6(B)所示，將包括空穴注入層材料的油墨組成物30涂敷在顯示像素42及空像素45上形成圖形。在有效光學(xué)區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在電路元件部26’上。
其次，在與實(shí)施例1相同的條件下，將空穴注入層材料油墨組成物30的溶劑除去，再在與實(shí)施例1相同的條件下進(jìn)行熱處理，形成圖6(C)所示的空穴注入層31。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，與實(shí)施例1相同，調(diào)制以下3種油墨組成物紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍(lán)色發(fā)光層用油墨組成物34。如圖6(C)所示，從噴墨頭噴出各油墨組成物32、33、34。這時，在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖6(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進(jìn)行封裝。
這樣做，能獲得在有效光學(xué)區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進(jìn)行均勻顯示的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例5)在本實(shí)施例中，與實(shí)施例1相同，使用在有效光學(xué)區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。如圖7(A)所示，該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構(gòu)成。另外，在電路元件部26’上形成由ITO構(gòu)成的透明電極27，再在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構(gòu)成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣做，能在有效光學(xué)區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中的電路元件26’上，設(shè)置與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距通過層疊SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29，設(shè)置空像素46。另外，在空區(qū)B中的電路元件部26’上不設(shè)置TFT26。在圖7(A)中示出了基板右端一側(cè)的局部剖面圖。
其次，與實(shí)施例1相同，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進(jìn)行斥墨處理，另外，如圖7(B)所示，將包括空穴注入層材料的油墨組成物30涂敷在顯示像素42及空像素46上形成圖形。在有效光學(xué)區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在電路元件部26’上。
其次，在與實(shí)施例1相同的條件下，將空穴注入層材料油墨組成物30的溶劑除去，再在與實(shí)施例1相同的條件下進(jìn)行熱處理，形成圖7(C)所示的空穴注入層31。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，與實(shí)施例1相同，調(diào)制紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍(lán)色發(fā)光層用油墨組成物34，如圖7(C)所示，從噴墨頭噴出各油墨組成物32、33、34，涂敷成圖形。這時，在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖7(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進(jìn)行封裝。
這樣做，能獲得在有效光學(xué)區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進(jìn)行均勻顯示的有機(jī)EL裝置。
另外，設(shè)置透明電極27、以及劃分該透明電極27的SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29，構(gòu)成空像素46，除了不設(shè)置TFT26這一點(diǎn)以外，與顯示像素42的結(jié)構(gòu)相同，能在與涂敷在顯示像素42上的情況相同的條件下，使涂敷在空像素46上的空穴注入層材料油墨組成物30干燥，因此在有效光學(xué)區(qū)域A中，能形成膜厚度較均勻的空穴注入層31，能獲得沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進(jìn)行均勻顯示的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例6)圖8(A)中示出了本實(shí)施例中使用的基板上的顯示像素區(qū)和空像素區(qū)的一部分。圖8(A)是基板的平面圖，這里未示出TFT元件。直徑為60微米的圓形像素50沿橫向(X)以80微米的間距、沿縱向(Y)以240微米的間距排列。在縱向行的顯示像素之間有間距為80微米、直徑為60微米的空圍堤像素51，在有效光學(xué)區(qū)域的周圍，上下、左右以80微米相同的間距形成30行形狀相同的空像素52。至此，同樣用SiO2圍堤53和聚酰亞胺圍堤54的層疊圍堤劃分顯示像素，除了像素直徑、間距以外的基本剖面結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1或?qū)嵤├?相同。
圖8(B)中示出了全部以80微米的間距將與實(shí)施例1同樣的空穴注入層材料油墨組成物55涂敷在顯示像素50及空像素51、52上形成了圖形的形態(tài)。與實(shí)施例1同樣地形成空穴注入層，即使在發(fā)光層中，也與實(shí)施例1相同，分別以縱向80微米的間距、橫向240微米的間距涂敷3種發(fā)光層組成物56、57、58形成圖形，通過干燥形成發(fā)光層層疊膜。圖8(C)中示出了發(fā)光層油墨組成物的圖形涂敷形態(tài)。進(jìn)行了陰極形成、封裝后的有機(jī)EL裝置是在有效光學(xué)區(qū)域中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的顯示均勻的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例7)圖9(A)中示出了本實(shí)施例中使用的基板上的有效光學(xué)區(qū)域和空區(qū)的一部分。圖9(A)是基板的平面圖，這里未示出TFT元件。橫向?qū)挾葹?0微米、縱向?qū)挾葹?00微米的矩形(角頂呈圓弧形)的像素60沿橫向(X)以80微米的間距、沿縱向(Y)以290微米的間距排列。橫向的像素之間的間隔為30微米，縱向的像素之間的間隔為90微米。在顯示像素60…的周圍，上下、左右以80微米、290微米相同的間距形成30行形狀相同的空像素61。至此，同樣用SiO262、聚酰亞胺63的層疊圍堤劃分顯示像素60，除了像素直徑、間距以外的基本剖面結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1或?qū)嵤├?相同。
將與實(shí)施例1相同的空穴注入層材料油墨組成物64涂敷在全部顯示像素60及空像素61上形成圖形，另外，如圖9(B)所示，在縱向的像素之間的中央也涂敷了組成物64形成圖形。干燥后，雖然所形成的像素內(nèi)的空穴注入層呈現(xiàn)均勻的膜厚，但在縱向的像素之間的中央不涂敷的情況下，在像素的縱向的兩端膜厚極端地變厚。
形成了空穴注入層后，與實(shí)施例1相同，也在發(fā)光層上分別以縱向240微米的間距、橫向290微米的間距涂敷3種發(fā)光層組成物65、66、67形成圖形，與空穴注入層的情況相同，如圖9(C)所示，在縱向的像素之間的中央也涂敷發(fā)光層用油墨組成物65、66、67形成圖形。因此，干燥后的發(fā)光層的膜厚在像素內(nèi)、像素之間是均勻的。進(jìn)行了陰極形成、封裝后的有機(jī)EL裝置是在有效光學(xué)區(qū)域中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的顯示均勻的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例8)在圖10(A)中示出了本實(shí)施例中使用的基板的平面圖。圖10(B)是沿圖10(A)中的MM’線的局部剖面圖。如圖10(A)及圖10(B)所示，該基板101是空穴注入層及發(fā)光層形成前的基板，它由在玻璃基板102上形成的電路元件部103、以及在電路元件部103上形成的發(fā)光元件部104構(gòu)成。在發(fā)光元件部104上設(shè)有后面所述的顯示像素和空像素，另外，發(fā)光元件部104被劃分成由顯示像素組構(gòu)成的有效光學(xué)區(qū)域A、以及由配置在有效光學(xué)區(qū)域A的周圍的空像素組構(gòu)成的空區(qū)B。
電路元件部103由在玻璃基板102上形成的多個TFT元件105…、以及由覆蓋該TFT元件105…的第一、第二層間絕緣膜106、107構(gòu)成。TFT元件105…呈矩陣狀地配置，由ITO構(gòu)成的透明電極108…連接在各TFT元件105…上。在第二層間絕緣膜107上形成透明電極108…，同時配置在對應(yīng)于TFT元件105…的位置。另外，透明電極108在平面視圖中也可以形成大致呈圓形、矩形、或四角呈圓弧狀的矩形等的形狀。
另外，只在對應(yīng)于發(fā)光元件部104的有效光學(xué)區(qū)域A的位置形成TFT元件105和透明電極108。
其次，SiO2圍堤109及聚酰亞胺圍堤110被層疊在發(fā)光元件部104的有效光學(xué)區(qū)域A上。SiO2圍堤109及聚酰亞胺圍堤110被設(shè)置在透明電極108…之間，由此設(shè)置包圍透明電極108的開口部111。
另外，在發(fā)光元件部104的空區(qū)B中，備有在第二層間絕緣膜107上形成的SiO2薄膜109’、以及在SiO2薄膜109’上形成的聚酰亞胺圍堤110’。利用空區(qū)B中的聚酰亞胺圍堤110’設(shè)置與顯示像素區(qū)A中的顯示像素111形狀大致相同的空像素111’。
關(guān)于設(shè)置在空區(qū)B中的空像素111’的數(shù)量，最好在沿著圖10(A)所示的X方向的寬度X’之間設(shè)置10組以上由R·G·B的三個空像素構(gòu)成的組。另外，最好在沿著圖10(A)所示的Y方向的寬度Y’之間設(shè)置10列以上由R·G·B的多個空像素構(gòu)成的列。此外，最好使寬度X’和寬度Y’大小相等地配置空像素。通過這樣的處理，能使位于與空區(qū)B的邊界附近的像素中的組成物油墨的干燥條件與有效光學(xué)區(qū)域A的中央附近的像素中的干燥條件更加一致。為了使寬度X’和寬度Y’的大小相等，例如在X方向上以70.5微米的間距、在Y方向上以211.5微米的間距形成了各像素(顯示像素、空像素皆是)的情況下，在寬度X’之間與Y方向平行地形成30行(由R·G·B的三個空像素構(gòu)成的組共10組大小的行)，而且，在寬度Y’之間與X方向平行的行可形成10行空像素。因此，Y方向的間距是X方向的間距的3倍，所以寬度X’和寬度Y’的大小大致相等。空像素的數(shù)量不限于此，但是不利的是如果空像素111’的數(shù)量過多，則與顯示無關(guān)的框增大，即顯示模塊增大。
與實(shí)施例1相同，對該基板101進(jìn)行大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤110、110’進(jìn)行斥墨處理，從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物，涂敷在顯示像素111及空像素111’上形成圖形。在顯示像素111中，空穴注入層材料油墨組成物被涂敷在透明電極108上，另一方面，在空像素111’中，空穴注入層材料油墨組成物被涂敷在SiO2薄膜109’上。
另外，在從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物時，最好準(zhǔn)備例如具有與顯示元件部104的橫向(圖中X方向)相同程度的寬度的噴嘴列的噴墨頭，使該噴墨頭從圖10(A)的下側(cè)開始沿圖中箭頭Y的方向在基板101上一邊移動一邊噴出。因此，油墨組成物的噴出順序?yàn)閳D中下側(cè)的空區(qū)B、有效光學(xué)區(qū)域A、圖中上側(cè)的空區(qū)B這樣的順序，能使油墨組成物的噴出從空區(qū)B開始，在空區(qū)B結(jié)束。由于在空區(qū)B噴出組成物油墨后在有效光學(xué)區(qū)域A中噴出，所以能使有效光學(xué)區(qū)域A中的油墨組成物均勻地干燥。
其次，在與實(shí)施例1相同的條件下，將空穴注入層材料油墨組成物的溶劑除去，再在與實(shí)施例1相同的條件下進(jìn)行熱處理，形成圖11(A)所示的空穴注入層131。
在有效光學(xué)區(qū)域A的外側(cè)設(shè)有空像素111’，即使對該空像素111’也與顯示像素111一樣，進(jìn)行組成物墨油的噴出、干燥，所以能使位于與空像素B的邊界附近的顯示像素111的組成物油墨的干燥條件與有效光學(xué)區(qū)域A的中央附近的顯示像素111的干燥條件大致一致，因此在位于與空像素B的邊界附近的顯示像素111中也能形成膜厚均勻的空穴注入層131。因此遍及全部有效光學(xué)區(qū)域A能形成膜厚均勻的空穴注入層131。
其次，與實(shí)施例1相同，從噴墨頭噴出紅色、綠色、藍(lán)色的發(fā)光層用油墨組成物，涂敷在顯示像素111及空像素111’上形成圖形，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層135、136、137。在有效光學(xué)區(qū)域A中，與空穴注入層131的情況相同，能形成膜厚均勻的發(fā)光層135、136、137。
另外，形成發(fā)光層時，與空穴注入層的情況一樣，最好使噴墨頭從圖10(A)的下側(cè)開始沿圖中箭頭Y的方向在基板101上一邊移動一邊噴出，使油墨組成物的噴出順序?yàn)閳D中下側(cè)的空區(qū)B、有效光學(xué)區(qū)域A、圖中上側(cè)的空區(qū)B這樣的順序，因此使油墨組成物的噴出從空區(qū)B開始，在空區(qū)B結(jié)束。因此，能在全部有效光學(xué)區(qū)域A中均勻地進(jìn)行包含發(fā)光層的油墨組成物的干燥。
形成了發(fā)光層后，如圖11(B)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極138，最后利用環(huán)氧樹脂139進(jìn)行封裝。
這樣，能獲得在有效光學(xué)區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進(jìn)行均勻顯示的有機(jī)EL裝置。
(實(shí)施例9)在圖12中示出了本實(shí)施例中使用的基板的平面圖。如圖12所示，該基板201以在玻璃基板202上形成的圖中未示出的電路元件部、以及在該電路元件部上形成的多個發(fā)光元件部204…為主體構(gòu)成。在圖12中的基板201上，16個發(fā)光元件部204…配置成4列4行的矩陣狀。在各發(fā)光元件部204上設(shè)有與實(shí)施例8相同的圖中未示出的顯示像素和空像素，另外，各發(fā)光元件部204…被劃分成由顯示像素組構(gòu)成的有效光學(xué)區(qū)域A、以及由配置在有效光學(xué)區(qū)域A的周圍的空像素組構(gòu)成的空區(qū)B。
有效光學(xué)區(qū)域A中的顯示像素、以及空區(qū)B中的空像素的結(jié)構(gòu)與實(shí)施例8中說明的顯示像素111及空像素111’的結(jié)構(gòu)相同。另外，圖中未示出的電路元件部的結(jié)構(gòu)也與實(shí)施例8的電路元件部103的結(jié)構(gòu)相同。
這樣處理后，在基板201上形成由多個有效光學(xué)區(qū)域A…構(gòu)成的有效光學(xué)區(qū)域組C。
最后沿圖中的單點(diǎn)點(diǎn)劃線將該基板201切開，分成16片小的基板。因此，能由一片基板同時制造多個有機(jī)EL裝置。
另外，在基板201上，在有效光學(xué)區(qū)域組C的周圍形成另一個空區(qū)D。
設(shè)置在空區(qū)D中的空像素的數(shù)量，最好在沿著圖12所示的X方向的寬度X’之間設(shè)置10組以上由R·G·B的三個空像素構(gòu)成的組。另外，最好在沿著圖12所示的Y方向的寬度Y’之間設(shè)置10列以上由R·G·B的多個空像素構(gòu)成的列。
對該基板201進(jìn)行與實(shí)施例8同樣的處理，即對聚酰亞胺圍堤進(jìn)行斥墨處理，再從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物，涂敷在顯示像素及空像素上形成圖形。
另外，在從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物時，最好準(zhǔn)備例如具有與一個顯示元件部204的橫向(圖中X方向)相同程度的寬度的噴嘴列的噴墨頭，使該噴墨頭從圖12的下側(cè)開始在顯示元件部204上沿圖中箭頭Y的方向一邊移動到圖中的上側(cè)一邊噴出。噴墨頭的寬度不限于此，也可以是一個顯示像素部204的寬度的整數(shù)倍。
這時的噴墨頭的軌跡例如如圖13(A)所示，使噴墨頭H移動到圖中上側(cè)后傾斜地空行到下側(cè)，再次向上側(cè)移動，呈鋸齒形的軌跡，或者如圖13(B)所示，也可以移動到上側(cè)后沿橫向滑動(空行)，然后移動到下側(cè)，呈彎折狀的軌跡。
在上述的情況下，油墨組成物的噴出順序都是沿著空區(qū)D、B、有效光學(xué)區(qū)域A、空區(qū)B、D、空區(qū)D、B、有效光學(xué)區(qū)域A、…、空區(qū)B、D的順序進(jìn)行，能使油墨組成物的噴出從空區(qū)D開始至空區(qū)D結(jié)束。
另外，如實(shí)施例8所述，也可以準(zhǔn)備具有與有效光學(xué)區(qū)域組C的橫向(圖中X方向)相同程度的寬度的噴嘴列的噴墨頭，使該噴墨頭從圖12的下側(cè)開始在顯示元件部204上沿圖中箭頭Y的方向一邊移動到圖中的上側(cè)一邊噴出。這時的油墨組成物的噴出順序?yàn)榭諈^(qū)D、B、有效光學(xué)區(qū)域A、空區(qū)B、D，能使油墨組成物的噴出從空區(qū)D開始至空區(qū)D結(jié)束。
因此，不管是哪一種情況，由于在空區(qū)D中噴出油墨組成物后，在有效光學(xué)區(qū)域A中噴出，所以在全部有效光學(xué)區(qū)域A中，能均勻地進(jìn)行油墨組成物的干燥。
另外，在噴墨頭取鋸齒形軌跡或彎折狀的軌跡的情況下，由于空行后必定在空區(qū)D中噴出，所以在空行過程中即使在填充到噴墨頭中的油墨的狀態(tài)變化了的情況下，也能在空區(qū)D中進(jìn)行預(yù)噴后再在有效光學(xué)區(qū)域A中噴出，由此能穩(wěn)定地進(jìn)行有效光學(xué)區(qū)域A中的噴出。
其次，與實(shí)施例1同樣地除去空穴注入層材料油墨組成物的溶劑，進(jìn)行熱處理，形成空穴注入層131。
由于在有效光學(xué)區(qū)域A的外側(cè)設(shè)有空區(qū)B的空像素，再在其外側(cè)設(shè)有另一個空區(qū)D的空像素，所以能使位于與空區(qū)B的邊界附近的顯示像素的組成物油墨的干燥條件與有效光學(xué)區(qū)域A的中央附近的顯示像素的干燥條件大致一致，因此在位于與空像素B的邊界附近的顯示像素中也能形成厚度均勻的空穴注入層。因此，遍及全部有效光學(xué)區(qū)域A能形成膜厚均勻的空穴注入層。
特別是由于在有效光學(xué)區(qū)域組C的周圍設(shè)有空區(qū)D，所以即使在由一片基板制造多個顯示裝置的情況下，也能形成膜厚均勻的空穴注入層。
其次，與實(shí)施例1一樣，從噴墨頭噴出紅色、綠色、藍(lán)色的發(fā)光層用油墨組成物，涂敷在有效光學(xué)區(qū)域及空區(qū)上形成圖形，通過熱處理，形成R·G·B發(fā)光層。在有效光學(xué)區(qū)域A中，與空穴注入層的情況相同，能形成膜厚均勻的發(fā)光層。
另外，形成發(fā)光層時，與空穴注入層的情況一樣，如圖13(A)或圖13(B)所示，使噴墨頭一邊移動一邊噴出，使油墨組成物的噴出順序與空穴注入層的情況相同，因此能使油墨組成物的噴出從空區(qū)D開始，在空區(qū)D結(jié)束。因此，能在全部有效光學(xué)區(qū)域A中均勻地進(jìn)行油墨組成物的干燥。
形成了發(fā)光層后，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極，最后利用環(huán)氧樹脂進(jìn)行封裝。
這樣，能獲得在有效光學(xué)區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進(jìn)行均勻顯示的有機(jī)EL裝置。
另外，這里作為有機(jī)EL層雖然使用了高分子材料，但也可以使用低分子材料。在使用低分子材料的情況下，如圖14所示，最好利用使用掩模71的蒸鍍法來形成有機(jī)EL層。這時，對應(yīng)于有效光學(xué)區(qū)域E的區(qū)域及對應(yīng)于有效光學(xué)區(qū)域E以外的區(qū)域(對應(yīng)于空區(qū)F的區(qū)域)使用開口的掩模，使材料形成膜，能實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。在使用蒸鍍法的情況下，通過設(shè)置空區(qū)，也能在全部有效光學(xué)區(qū)域中形成均勻的有機(jī)EL層。
(實(shí)施例10)其次，說明備有由上述的第一至第九實(shí)施例制造的有機(jī)EL裝置中的任意一種的電子裝置的具體例子。
圖15(A)是表示移動電話之一例的斜視圖。在圖15(A)中，符號600表示移動電話本體，符號601表示使用上述的有機(jī)EL裝置中的任意一種的顯示部。
圖15(B)是表示文字處理機(jī)、個人計算機(jī)等便攜型信息處理裝置之一例的斜視圖。在圖15(B)中，符號700表示信息處理裝置，符號701表示鍵盤等輸入部，符號703表示信息處理裝置本體，符號702表示使用上述的有機(jī)EL裝置中的任意一種的顯示部。
圖15(C)是表示手表型電子裝置之一例的斜視圖。在圖15(C)中，符號800表示手表本體，符號801表示使用上述的有機(jī)EL裝置中的任意一種的顯示部。
圖15(A)～(C)所示的各種電子裝置是備有使用上述的有機(jī)EL裝置中的任意一種的顯示部的電子裝置，由于具有前面的實(shí)施例1～9中制造的有機(jī)EL裝置的特征，所以使用任意一種有機(jī)EL裝置，都能構(gòu)成具有顯示品質(zhì)優(yōu)異的效果的電子裝置。如上所述，如果采用本發(fā)明，則在以噴墨方式將有機(jī)EL材料噴射、涂敷到基板上并形成有機(jī)EL層的有機(jī)EL裝置的制造中，在顯示像素區(qū)域的周圍導(dǎo)入空噴射、涂敷區(qū)，在有效光學(xué)區(qū)域中，通過等間隔地配置涂敷液滴，均勻地進(jìn)行涂敷在像素區(qū)域的有機(jī)EL材料溶液的干燥，能提供一種在有效光學(xué)區(qū)域像素之間或各像素內(nèi)沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現(xiàn)象的均勻的顯示裝置及顯示裝置的制造方法。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，該方法是將包含有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物涂敷在多個電極上，從而在各電極上分別形成有機(jī)電致發(fā)光層，其特征在于設(shè)置由上述多個電極形成的有效光學(xué)區(qū)域，使包含有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物的涂敷區(qū)域比上述有效光學(xué)區(qū)域大。
2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在上述有效光學(xué)區(qū)域的周圍設(shè)置涂敷區(qū)域。
3.如權(quán)利要求1或2所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在上述有效光學(xué)區(qū)域的周圍設(shè)置的涂敷區(qū)域是空區(qū)，在該空區(qū)中也涂敷包含有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物，形成有機(jī)電致發(fā)光層。
4.如權(quán)利要求3所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在上述空區(qū)中形成由與上述電極同樣的材料構(gòu)成的層，將包含上述有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物涂敷在上述層上。
5.如權(quán)利要求1至3中的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在基板上設(shè)置兩個以上的由上述有效光學(xué)區(qū)域構(gòu)成的有效光學(xué)區(qū)域組，在各有效光學(xué)區(qū)域的周圍分別設(shè)置空區(qū)，同時在上述有效光學(xué)區(qū)域組的周圍設(shè)置另一個空區(qū)。
6.如權(quán)利要求3或4所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在涂敷包含上述有機(jī)電致發(fā)光材料的組成物的情況下，開始涂敷時涂敷了空區(qū)之后再涂敷有效光學(xué)區(qū)域，涂敷結(jié)束時在涂敷了有效光學(xué)區(qū)域后再涂敷空區(qū)而結(jié)束。
7.如權(quán)利要求1至6中的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于全部涂敷區(qū)域內(nèi)的各個涂敷區(qū)域有相等的間隔。
8.如權(quán)利要求7所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于以等間隔配置相鄰的上述電極。
9.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，該方法是具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的區(qū)域中、以及在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域以外的區(qū)域中，形成上述電致發(fā)光層。
10.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，該方法是具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的不形成上述電極的區(qū)域中，形成有機(jī)電致發(fā)光層。
11.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于采用權(quán)利要求1至8中的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法制造。
12.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置，它是有多個電極、在上述多個電極上分別形成有機(jī)電致發(fā)光層的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于包括由上述多個電極形成的有效光學(xué)區(qū)域；以及在上述有效光學(xué)區(qū)域的周圍形成上述有機(jī)電致發(fā)光層的空區(qū)。
13.如權(quán)利要求12所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述多個電極之間有圍堤層，在上述空區(qū)中，上述有機(jī)電致發(fā)光層配置在由與上述圍堤層相同的材料構(gòu)成的層的上方。
14.如權(quán)利要求13所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于上述圍堤層包括無機(jī)物圍堤層及有機(jī)物圍堤層，在上述空區(qū)中，上述有機(jī)電致發(fā)光層配置在由與上述無機(jī)物圍堤層相同的材料構(gòu)成的層的上方。
15.如權(quán)利要求14所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述空區(qū)中形成的上述有機(jī)電致發(fā)光層之間形成上述圍堤層。
16.如權(quán)利要求13所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述空區(qū)中，上述有機(jī)電致發(fā)光層配置在由與上述有機(jī)物圍堤層相同的材料構(gòu)成的層的上方。
17.如權(quán)利要求12所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述空區(qū)中，上述有機(jī)電致發(fā)光層配置在由與上述電極相同的材料構(gòu)成的層的上方。
18.如權(quán)利要求17所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述空區(qū)中形成的有機(jī)電致發(fā)光層之間形成上述圍堤層。
19.如權(quán)利要求12至18中的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述有效光學(xué)區(qū)域及上述空區(qū)中，相鄰的上述有機(jī)電致發(fā)光層的間隔相等。
20.如權(quán)利要求12所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于上述有效光學(xué)區(qū)域及上述空區(qū)在上述基板上方的剖面結(jié)構(gòu)大致相同。
21.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置，它是具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的區(qū)域中、以及在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域以外的區(qū)域中，形成上述電致發(fā)光層。
22.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置，它是具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機(jī)電致發(fā)光層的有效光學(xué)區(qū)域的有機(jī)電致發(fā)光裝置，其特征在于在應(yīng)成為上述有效光學(xué)區(qū)域的不形成上述電極的區(qū)域中，形成有機(jī)電致發(fā)光層。
23.一種電子裝置，其特征在于備有權(quán)利要求12至 20、21、22中的任意一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光裝置。
全文摘要
本發(fā)明的課題是,在用噴墨方式將有機(jī)EL材料噴射、涂敷在基板上形成有機(jī)EL層的有機(jī)EL裝置的制造中,在有效光學(xué)區(qū)域像素之間及各像素內(nèi)使有機(jī)EL薄膜的厚度均勻。在顯示像素區(qū)域的周圍設(shè)置與顯示像素42形狀相同、間距相同的空圍堤43的組,在顯示像素區(qū)域的周邊也涂敷有機(jī)EL材料油墨組成物41,形成有機(jī)EL薄膜。
文檔編號H05B33/00GK1356857SQ01139348
公開日2002年7月3日 申請日期2001年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月27日
發(fā)明者關(guān)俊一, 森井克行 申請人:精工愛普生株式會社