專利名稱：布線基板及其制造方法和圖象顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種從容器內(nèi)側(cè)向外側(cè)引出多個布線電極，通過該布線，施加驅(qū)動信號的顯示板用基板、以及使用該基板的顯示裝置等的圖象形成裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有，就顯示裝置來說，眾所周知，有PDP(等離子顯示板)的這種氣體放電型的顯示器和用電子束輻射FED(場發(fā)射顯示器)的發(fā)射構(gòu)件的類型(電子束輻射型)的顯示器。作為電子束輻射輻射型顯示器的電子發(fā)射元件，大家都知道有熱電子源和冷陰極電子源等兩種。關(guān)于冷陰極電子源，就有電場發(fā)射型元件(FE型元件)、金屬/絕緣層/金屬型元件(MIM元件)、表面?zhèn)鲗碗娮影l(fā)射元件等。
上述表面?zhèn)鲗碗娮影l(fā)射元件，因為構(gòu)造簡單制造也容易，具有在相當大面積上形成多個元件的優(yōu)點。因此研究靈活運用這個特征的所有各種應用。例如對帶電束源、圖象顯示裝置等顯示裝置等的應用。作為一例，本申請人的特開2000-251778或特開2000-251802中，公開了一種粘合矩陣狀布線連接多個電子發(fā)射元件成構(gòu)成的電子源基板和配置熒光體的對置基板作為高真空容器(顯示板)的圖象顯示裝置。
但是，如上述這樣的粘合矩陣狀布線連接多個電子發(fā)射元件成構(gòu)成的電子源基板和配置熒光體的對置基板，構(gòu)成作為高真空容器(顯示板)的圖象顯示裝置之際，當使其大面積、高品質(zhì)化時存在以下的這些問題。
首先，作為布線材料，為了滿足要求的布線電阻，使用由金屬和玻璃系列材料組成的厚膜漿，然而為了提高圖象顯示裝置高品質(zhì)，推進高精細，顯示區(qū)域內(nèi)就需要使布線寬度充分地縮小。根據(jù)顯示器的使用目的等，但作為一般用途上能夠充分靈活運用的高精細顯示器，規(guī)定其布線寬度為約70μm以下是理想的。
并且，如上述特開2000-251778中記載的表面?zhèn)鲗桶l(fā)射元件一樣，與列(Y)方向布線(下布線)平行配置電極對(元件電極)的對置間隙，并采用構(gòu)成為使其與Y方向布線(下布線)2大體平行線狀形成電子發(fā)射部的電子源基板的場合，因為發(fā)射電子的軌道控制要求，在顯示區(qū)域內(nèi)，要求布線的界限高度充分地高(例如14μm左右)。并且，如上述，為了充分降低布線的地電阻，也需要足夠的高度。
另外，所謂“顯示區(qū)域”是指象熒光等圖象形成構(gòu)件的正投影區(qū)域，對置配置上述這樣的電子源基板和形成熒光體的透明基板并構(gòu)成顯示板的場合，與電子源基板(布線基板)上的該熒光體對置的區(qū)域?qū)⒌扔趯D象形成構(gòu)件(熒光體)的布線基板的正投影區(qū)域。
我們研究實現(xiàn)，用于使上述顯示區(qū)域內(nèi)的矩陣布線的高精細與低電阻對立的形成最小線寬和充分高度(厚度)布線的具體手段的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)從現(xiàn)有的絲網(wǎng)印刷法轉(zhuǎn)向采用光敏膠材料的光刻法是理想的。即，在現(xiàn)有的印刷布線中，因為其剖面形狀為慢坡半圓形狀，盡管有足夠的高度，但是難以實現(xiàn)高精細的布線寬度。對于寬度窄與足夠高度(厚度)對立的布線形狀來說，邊緣陡立的矩形布線是理想的，為了形成這種形狀的布線，可以認為采用光敏膠的光刻法是理想的。
結(jié)果，由于上述這樣的降低布線電阻或控制電子發(fā)射的電阻軌道等目的，為了確保布線的邊緣高度給光敏膠材料增加厚度的話，有時發(fā)生圖形邊緣卷曲(圖形邊緣的掏空)同時基板上很容易發(fā)生裂紋，使顯示區(qū)域外周的板面密封部分的氣密性降低(發(fā)生漏氣)這樣的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于改善上述缺點，一面謀求使用布線基板的圖象顯示裝置、圖象形成裝置具有高輝度、高精細，一面實現(xiàn)能夠維持真空氣氛等的氣密容器，獲得更高質(zhì)量的圖象。
即，本發(fā)明的布線基板是，在基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件的顯示板用的布線基板，其特征是在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上的上述布線剖面與上述布線基板形成的平均角度是鈍角，上述框狀構(gòu)件配置區(qū)域的上述布線剖面與上述布線基板形成的平均角度是銳角。
另外，上述本發(fā)明在布線厚度為8μm以上的場合是特別有效的。
并且，上述本發(fā)明氣密容器內(nèi)部的氣氛為減壓氣氛時是特別有效的。
并且，上述本發(fā)明中理想的是構(gòu)成，上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上的上述布線寬度比上述框狀構(gòu)件配置區(qū)域的上述布線寬度小。
并且，本發(fā)明的制造顯示板用布線基板的制造方法，是在基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是包括在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板上正投影區(qū)域上利用光敏膏的曝光法形成布線的工序；在配置框狀構(gòu)件的區(qū)域，采用印刷用膏狀油墨的圖形印刷法形成布線的工序。
并且，本發(fā)明的另一種制造顯示板用布線基板的制造方法，是在基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是包括在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上利用光敏膏的曝光法形成布線的工序；
在框狀構(gòu)件配置區(qū)域的布線圖形上，形成覆蓋涂層的工序，該涂層在比上述光敏膏中有機成分燒失溫度高而且比無機成分軟化點低的溫度下燒失；同時燒結(jié)布線圖形和覆蓋涂層的工序。
并且，本發(fā)明的另一種制造顯示板用布線基板的制造方法，是在基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是包括在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上利用光敏膏的曝光法形成第一布線的工序；在框狀構(gòu)件配置區(qū)域的第一布線，采用印刷用膏狀油墨的圖形印刷法形成第二布線的工序。
并且，本發(fā)明的圖象顯示裝置，其特征是使用上述發(fā)明的任一項記載的布線基板。
按照本發(fā)明，在顯示區(qū)域內(nèi)確保要求的布線高度并達到階段布線電阻，同時在作為向電子放射元件的信號供給用的布線，使用本發(fā)明的構(gòu)成時，很好地進行發(fā)射電子的軌道控制。并且，在裝置顯示區(qū)域外的密封部分，能夠?qū)崿F(xiàn)沒有布線卷邊和側(cè)面裂紋的布線基板。
并且，在使用這種布線基板的圖象顯示裝置等圖象形成裝置方面，與提高發(fā)光效率的同時維持真空等，能夠?qū)崿F(xiàn)保密性、可靠性高的圖象形成裝置。


圖1是用于說明本發(fā)明電子源基板布線構(gòu)成的典型平面圖。
圖2是表示電子源基板顯示區(qū)域的基本構(gòu)成平面圖。
圖3是用于說明圖2的電子源基板的制造工序圖。
圖4是用于說明圖2的電子源基板的制造工序圖。
圖5是用于說明圖2的電子源基板的制造工序圖。
圖6是用于說明圖2的電子源基板的制造工序圖。
圖7A、7B和7C是用于說明圖2的電子源基板的制造工序圖。
圖8A和8B是表示形成電壓的例圖。
圖9是典型地表示測定本發(fā)明電子放射元件特性的裝置圖。
圖10是表示本發(fā)明表面?zhèn)鲗碗娮臃派湓脑娏骱桶l(fā)射電流與元件電壓之間的關(guān)系圖。
圖11A和11B是表示激活電壓的例圖。
圖12是典型地表示本發(fā)明圖象形成裝置一個構(gòu)成例的立體圖。
圖13A和13B是典型地表示本發(fā)明圖象形成裝置的熒光膜的例圖。
圖14是圖象形成裝置的驅(qū)動電路圖。
圖15A和15B是表示表面導電型電子放射元件的一個構(gòu)成例的典型圖。
圖16是表示泄漏通路的形成及其原因的典型圖。
圖17A、17B和17C是用于說明布線剖面形狀與基板形成的平均角度的典型圖。
圖18A、18B和18C是用于說明布線剖面形狀與基板形成的平均角度的典型圖。
具體實施例方式
以下詳細說明本發(fā)明的實施例，但在此，先用附圖詳細說明密封部分的布線形狀與保密性的關(guān)系。
圖16是在使X方向布線和Y方向布線交叉中間介以絕緣層的，通稱矩陣布線基板上，從圖象顯示區(qū)域到基板端部引出布線的構(gòu)成中，作為引出部一部分的密封部布線形狀方面，有卷邊時的局部放大圖，起因于Y方向引出布線12的圖形邊緣掏空和基板上發(fā)生的裂紋(叫做側(cè)裂)，典型地表示沿布線形成的泄漏通路(125、126)圖。
根據(jù)本發(fā)明人的研究，對于這種基板上發(fā)生的裂紋，很清楚采用形成絕緣層的辦法進行抑制。所以，就防止這樣的裂紋發(fā)生來說，可以看來在例如矩陣狀布線部分的交叉部形成絕緣層時也在面板密封部同時形成絕緣層。該絕緣層圖形因為有緩和布線圖形造成的凹凸的效果，所以作為真空容器形成構(gòu)件13介以樹脂制O型環(huán)形成真空也是有效果的。
盡管，存在圖形邊緣的掏空，在與該絕緣層之間希望造成叫做洞孔124泄漏通路，與基板上發(fā)生的裂紋引起的泄漏通路同樣降低真空氣密性。
另一方面，有關(guān)圖形邊緣掏空造成的洞孔，通過作為真空容器形成構(gòu)件13使用玻璃料，能夠消除泄漏通路。但是，使用玻璃料，也不能對付基板上發(fā)生裂紋的真空泄漏。并且，可以看來作為真空容器形成構(gòu)件13使用的樹脂制O型環(huán)的情況，如果密封的布線剖面與基板形成的角度至少不是銳角，就不可能沒有泄漏通路。
并且根據(jù)本發(fā)明人的研究，對布線的卷邊和基板上裂紋的發(fā)生來說，可以判定除膜厚依存性外，也有圖形寬度依存性。即，對于有一定高度(厚度)的布線，其布線寬度越大，基板上越容易發(fā)生裂紋，并且卷邊也越容易發(fā)生。因此，通過使布線寬度減小，一定程度上也能夠防止卷邊和基板裂紋的發(fā)生本身。
然而，如上述一樣，在引出布線和裝配端子部分，從布線電阻要求方面實際情況是應該采用線寬比顯示區(qū)域內(nèi)寬。因而布線電阻的降低和布線圖形的高精細化兩者對立的矩形布線，也為實現(xiàn)氣密容器都是要解決的問題，對于完全滿足降低布線電阻、實現(xiàn)高精細圖形和形成氣密容器來說，都需要進一步改良。
如上所述，綜合考察作為顯示板用的布線基板要求的各種條件的結(jié)果，顯示區(qū)域內(nèi)假設(shè)布線形狀為矩形，在密封部分達到使布線形狀改變的本發(fā)明。即換句話說，通過制成顯示區(qū)域內(nèi)布線的剖面與基板形成的平均角度為鈍角，在框狀構(gòu)件配置的密封部的布線剖面與基板形成的平均角度成為銳角的布線形狀，能夠降低上述布線的電阻、實現(xiàn)高精細布線以及氣密容器。另外，在這里，所謂布線剖面與基板形成的平均角度為鈍角，是具有圖18A～18B中所示的這種剖面形狀布線與基板平面的關(guān)系，所謂布線剖面與基板形成的平均角度為銳角，是具有圖17A～17C中所示的這種剖面形狀布線與基板平面的關(guān)系。
并且，在這里，還要更詳細敘述本發(fā)明，說明密封部分的布線形狀與基板裂紋及泄漏通路的關(guān)系。
圖17A～17C和圖18A～18B是典型地表示布線剖面與基板形成的平均角度。該平均角度如圖17A～17C若銳角，就難以發(fā)生基板裂紋，相反如圖18A～18B若是鈍角，就變成容易發(fā)生基板裂紋。平均角度為銳角的角度在與卷邊相反的方向，在實現(xiàn)真空氣密性方面也有效果。
進而，從圖形穩(wěn)定性、電阻值和得到該電阻值工藝條件的觀點來說，現(xiàn)在能夠使用的布線形成方法，在曝光工序中容易把圖形邊緣的平均角度制成鈍角，在網(wǎng)印工序中很容易使圖形邊緣成為銳角。并且，可以看出來，作為該組合用曝光工序在圖形邊緣的平均角度不大的鈍角布線上，通過用網(wǎng)印工序重疊圖形邊緣的平均角度為銳角的布線，能夠獲得實質(zhì)上圖形邊緣的平均角度為銳角的厚膜布線。
本發(fā)明就是根據(jù)以上的認識而做出的發(fā)明，以下，具體地詳細敘述其構(gòu)成。另外，在以下的記述中，雖然在圖象顯示區(qū)域(往形成圖象形成構(gòu)件的布線基板面上正投影區(qū)域)和包含密封部的圖象顯示區(qū)域外，記載布線剖面形狀不同的形態(tài)，然而這是考慮了制造等觀點特別理想的形態(tài)，在圖象顯示區(qū)域和密封部布線的剖面形狀只要各自成為要求的形狀就充分滿意了。以下，說明本發(fā)明的實施例。
本申請人有關(guān)電子放射元件及其應用，此前提出了許多方案，以下，作為其一部分，介紹使用表面導電型放射元件的圖象顯示裝置等的應用例。
關(guān)于噴墨方式的元件制作，特開平9-102271號公報或特開2000-251665號公報中，作為XY矩陣形狀配置這些元件的例子，在特開昭64-031332號公報、特開平7-326311號公報中都有詳細敘述。進而，關(guān)于布線形成方法，在特開平8-185818號公報或特開平9-50757號公報中，對于驅(qū)動方法則在特開平6-342636號公報等中有詳細敘述。
并且，進而例如特開平7-235255號公報、特登記2903295號公報中有詳細敘述。
以下，簡單說明上述公報中所揭示的表面導電型電子放射元件的概要。
上述表面導電型電子放射元件，如圖15A和15B所示，具有基板1上對置的一對元件電極2、3和與該元件電極連接并在其一部分上具有電子放射部5的導電性膜4而構(gòu)成。
電子放射部5包括導電性膜4的一部分被破壞、變形乃至變質(zhì)、形成間隙的部分，在間隙內(nèi)部及其近旁的導電性膜上，通過進行叫做激活的工序，形成把碳和/或碳化合物作為主要成分的淀積物。另外，該淀積物具有比上述導電性膜形成的間隙還要狹窄的間隙部并成為對峙形狀。
并且，圖2中示出矩陣狀布線連接多個表面導電型電子放射元件的電子源基板的構(gòu)成例。圖2中，21是基板，2和3是元件電極，4是導電性膜(元件膜)，5是電子放射部，24是Y方向布線(下布線)，25是絕緣層，26是X方向布線(上布線)。
上述電子源基板具有，在基板21上形成多條Y方向布線(下布線)24和該Y方向布線24上介以絕緣層25形成多條X方向布線(上布線)26；在兩方向布線的交叉部附近，各自配置包括電極對(元件電極2、3)的電子放射元件；該電極對的一方(元件電極3)與Y方向布線24連接和另一方(元件電極2)通過設(shè)于接觸孔與X方向布線26連接的構(gòu)成。
以下，一邊參照圖3到圖6一邊說明該電子源基板的制造方法一例。
首先，在基板21上形成多個電極對(元件電極2、3)(參照圖3)。
其次，與一方的元件電極(元件電極3)接連，而且以線狀圖形使其聯(lián)結(jié)形成多條Y方向布線(下布線)24(參照圖4)。雖然圖未示出但是Y方向布線(下布線)24終端部用作向外部驅(qū)動電路的引出布線，所以使布線寬度更大。該Y方向布線(下布線)24，在使用本電子源基板作為圖象形成裝置并制成面板后，用作信號電極。
其次，為了使上下布線絕緣，形成絕緣層25(參照圖5)。在后述的X方向布線(上布線)下要形成該絕緣層25，在與各元件對應的連接部打開接觸孔27，使其覆蓋與先前形成的Y方向布線(下布線)24的交叉部，而且使之能與X方向布線(上布線)和另一方元件電極(元件電極2)電連接。
其次，在先前形成的絕緣層25上，形成X方向布線(上布線)26(參照圖6)。X方向布線26夾著絕緣層25與Y方向布線24交叉，在設(shè)于絕緣層25的接觸孔27部分與元件電極2連接。雖然圖未示出，但是向外部驅(qū)動電路的引出布線也用同樣方法形成。X方向布線26作為圖象形成裝置制成面板后用作掃描電極，要求比用作信號電極的Y方向布線24低的布線電阻，所以作成加粗布線或增加膜厚的設(shè)計。
接著，在元件電極2、3之間，采用例如特開平9-102271號公報或特開2000-251665號公報記載的噴墨方式，形成導電性膜4(參照圖2、圖7A～7C)。
接著，在兩方向布線24、26間施加脈沖電壓，隨著元件電極2、3間通流，由于局部地使導電性膜4破壞、變形或變質(zhì)，形成電氣上高阻抗狀態(tài)的電子放射部(間隙)(電冶成工序)。圖8A和8B中，示出脈沖電壓波形一例。這時，如圖2和圖15A和15B所示，在元件電極2、3對置的間隙部分，與該間隙大致平行形成電子放射部(間隙)5。
接著，在含有碳原子氣體的氣氛下，與上述電冶成同樣，在兩方向布線24、26之間施加脈沖電壓，隨著元件電極2、3間通電，在上述間隙附近淀積碳或碳化合物作為碳膜(激活工序)。圖11A和11B中，示出用于激活的電壓波形的一個例子。
通過以上的工序，在基板上制作矩形布線連接多個表面導電型電子放射元件而成的電子源基板。
接著，用圖9、圖10，說明按照上述這樣的元件構(gòu)成和制造方法制成的電子放射元件基本特性。
圖9是用于測定具有上述構(gòu)成的電子放射元件電子放射特性的測定評價裝置示意圖。圖9中，51是用于對元件施加元件電壓Vf的電源，50是用于測定流過元件電極部的元件電流If的電流計，54是用于俘獲從元件電子放射部放射的發(fā)射電流Ie的陽極，53是給陽極54施加電壓的高壓電源，52是用于測定從元件電子發(fā)射部放射的發(fā)射電流Ie的電流計。
測定流過電子放射元件的元件電極2、3間的元件電流If和向陽極的發(fā)射電流Ie時，在元件電極2、3上連接電源51和電流計50，該電子放射元件的上方配置連接電流計52和電流計52的陽極。
并且，在真空裝置55內(nèi)設(shè)置電子放射元件和陽極54，該真空裝置上，配備排氣泵和真空計等真空裝置方面需要的機器，應該在規(guī)定的真空下進行本元件的測定評價。另外，陽極54的電壓為1kV～10kV，陽極與電子放射元件的距離為2mm～8mm范圍下進行測定。
根據(jù)圖9所示的測定評價裝置測定的發(fā)射電流Ie和元件電流If與元件電壓Vf的關(guān)系典型例示于圖10。另外，發(fā)射電流Ie與元件電流If大小明顯不同，但是為了定性地比較研究圖10中If、Ie的變化，線性標度上以任意單位標記縱軸。
本電子放射元件有三種對發(fā)射電流Ie的特征。
首先，第一種，由圖10很清楚，本元件只要施加某一電壓(叫做閾值電壓，圖10中的Vth)以上的元件電壓，急劇增加發(fā)射電流Ie，另一方面，在閾值電壓Vth以下，幾乎沒有檢出發(fā)射電流Ie。即，判定表示作為具有對發(fā)射電流Ie明確閾值電壓Vth的非線性元件特性。
第二種，發(fā)射電流Ie取決于元件電壓Vf，示意發(fā)射電流Ie能夠用元件電壓Vf控制。
第三種，陽極54上俘獲的發(fā)射電荷取決于施加元件電壓Vf的時間。即，被陽極54俘獲的電荷量，可通過施加元件電壓Vf的時間來控制。
接著，說明本發(fā)明的電子源基板和圖象形成裝置。
作為本發(fā)明電子源基板的基本構(gòu)成，舉例如圖2所示的這種構(gòu)成。
本發(fā)明的電子源基板是在基板21上，形成多條Y方向布線(下布線)24和在該Y方向布線24上介以絕緣層25形成多條X方向布線(上布線)26，在該兩個方向布線的交叉部附近各自配置包括電極對(元件電極2、3)的電子放射元件，特別是，如圖2所示，元件電極2、3對置的間隙部分是與Y方向布線(下布線)大致平行進行配置的。
參照圖1說明本發(fā)明一個實施例電子源基板的特征，用與發(fā)光材料形成的透明基板對置配置構(gòu)成顯示板之際，就在與發(fā)光材料形成的區(qū)域?qū)χ玫娘@示區(qū)域內(nèi)，至少Y方向布線24具有與基板形成平均角度成了鈍角的圖18A～18C中所示那樣的剖面形狀，在顯示區(qū)域外，XY兩方向布線，即X方向布線11和Y方向布線12是具有與基板形成平均角度成了銳角的圖17A～17C中所示那樣的剖面形狀的特點。
另外，就本發(fā)明而言，平均角度是指合成布線剖面外形線所得的直線(合成線)與基板表面的相交角度，該合成線是布線寬度向離開基板方向變窄起來這樣的布線形狀的場合，與基板面形成鈍角。另外，附帶說，布線與基板形成的平均角度為銳角時，加到布線與基板接觸部的邊緣上的應力方向相對于基板也變成銳角，并且，布線與基板形成的平均角度為鈍角時，加到布線與基板接觸部的邊緣上的應力方向相對于基板也變成鈍角。
具有上述這種剖面形狀的各布線具體的形成方法，在后述的實施例中詳細說明，然而(1)顯示區(qū)域內(nèi)，通過用光敏膏的曝光法，形成至少Y方向布線24，顯示區(qū)域外，XY兩方向引出布線11、12都是用網(wǎng)印法的圖形印刷形成的方法。
(2)顯示區(qū)域內(nèi)至少Y方向布線24，顯示區(qū)域外XY兩方向引出布線11、12也都是用光敏膏的曝光法圖形形成以后，至少對顯示區(qū)域外，在比上述光敏膏中有機成分的燒失溫度高的溫度而且比無機成分的軟化點低的溫度下與燒失的覆蓋涂層的同時燒結(jié)的方法。
另外，作為上述覆蓋涂層，可用感光性丙烯酸樹脂等感光樹脂。
如以上，采用分別控制顯示區(qū)域內(nèi)和顯示區(qū)域外的各布線剖面形狀的辦法，對于顯示區(qū)域內(nèi)確保要求的Y方向布線高度，很好地進行發(fā)射電子的軌道控制，對于顯示區(qū)域外兩方向布線也能夠獲得沒有卷邊和側(cè)裂的電子源基板。
接著，用圖12說明使用上述這種簡單矩陣配置電子源基板的本發(fā)明圖象形成裝置的一個例子。
圖12中，21是上述的電子源基板，82是玻璃基板83里面形成了熒光膜84和金屬包裝85等的面板，86是支持框。用玻璃料粘合電子源基板21、支持框86和面板82，在400～500℃下通過10分鐘以上燒結(jié)，使之密封，構(gòu)成外殼90。
另外，在面板82與電子源基板21之間，借助于設(shè)置叫做隔板的附圖未示出的支持體，即使大面積面板的情況下，也能夠?qū)Υ髿鈮簶?gòu)成具有足夠強度的外殼90。
圖13A和13B是面板82上設(shè)有熒光膜84的說明圖。熒光膜84雖然單色時只由熒光體構(gòu)成，但是彩色熒光膜時是通過熒光體排列叫做黑色條紋或黑色矩陣等的黑色導電體91和熒光體92構(gòu)成。設(shè)置黑色條紋或黑色矩陣的目的是彩色顯示時需要的三原色熒光體的各熒光體92之間涂黑分開部分，使混合顏色不鮮明，抑制因熒光膜84上外來光反射引起對比度下降。
并且，在熒光膜84的內(nèi)側(cè)通常設(shè)置金屬背85。金屬背的目的是通過向面板82側(cè)鏡面反射熒光體發(fā)光之中向內(nèi)側(cè)的光提高輝度，并起用于施加電子束加速電壓的陽極作用。金屬背是在熒光膜制作后，進行熒光膜內(nèi)側(cè)表面平滑化處理(通常叫做鍍膜)，以后可通過用真空蒸發(fā)等方法淀積Al進行制作。
進行上述密封之際，彩色的場合應該對應各色熒光體和電子放射元件，所以需要用上下基板的固定定位板法等進行充分的位置對合。
密封時的真空度除要求約10-5Pa真空度外，為了維持外殼90密封后的真空度，有時也進行除氣處理。這就是在即將進行外殼90密封前或密封后，加熱配置在外殼內(nèi)規(guī)定位置(圖未示)的除氣劑，形成蒸發(fā)膜的處理。除氣劑通常是Ba等為主要成分，通過該蒸發(fā)膜的吸附作用，維持真空度。
這時，本發(fā)明的電子源基板上，顯示區(qū)域外兩個方向引出布線也不會有卷邊和側(cè)裂，因此能夠防止如圖16所示的這種泄漏通路發(fā)生，實現(xiàn)真空可靠性高的圖象形成裝置。
以下，說明本發(fā)明的實施例，但是本發(fā)明并不是限于這些實施例。
本實施例是制造矩形布線連接圖2中所示這種的多個表面導電型電子放射元件的電子源基板例子。圖2中，21是基板，2和3是元件電極，4是導電性膜(元件膜)，5是電子放射部，24是Y方向布線(下布線)，25是絕緣層，26是X方向布線(上布線)。
另外，圖2僅表示電子源基板的顯示區(qū)域內(nèi)，實際制成的電子源基板如圖1所示，顯示區(qū)域內(nèi)形成的Y方向布線24與顯示區(qū)域外的Y方向用處布線12連接，同樣X方向布線26與X方向布線11連接起來。X方向布線26用作面板化后的掃描電極，因而要求布線電阻比用作信號電極的Y方向布線24低，所以作成加粗線寬或增大膜厚的設(shè)計。
以下，一邊參照圖2到圖7A～7C一邊說明本實施例的電子源基板的制造方法。
(形成元件電極)作為基板21，可以采用在堿成分少的PD-200(旭硝子(株)制造)的厚2.8mm玻璃上，涂敷SiO2膜100nm作為鈉塊層燒結(jié)的基板。
而且，該玻璃基板21上，首先用濺射法，形成鈦Ti膜(厚度5nm)作為下引出層，其上形成銠Ru膜(厚度40nm)以后，通過涂布正性光刻膠、曝光、顯影、蝕刻這樣的一系列光刻方法，制成圖形，形成元件電極2、3(參照圖3)。另外，本實施例中，規(guī)定元件電極的間隔L＝10μm，對置的長度W＝100μm。
(形成Y方向布線)關(guān)于作為X方向布線26和Y方向布線24的布線材料，理想的是低電阻材料，以便把大致均等的電壓供給多個表面導電型電子放射元件，并適當設(shè)定材料、膜厚、布線寬度等。
作為信號布線的Y方向布線(下布線)24，通過使用光敏膏的光刻法，與一方的元件電極3接連，而且要以線狀圖形形成32使其連接各元件電極。至于材料，使用銀Ag光敏膏油墨DC-206(杜邦公司制造)，網(wǎng)印以后，使其干燥后，對規(guī)定圖形曝光并顯影。而后在480℃左右溫度下進行燒結(jié)，形成Y方向布線24(參照圖4)。該Y方向布線24的厚度約15μm，線寬約50μm。
(形成絕緣層)為了絕緣上下布線，形成絕緣層25。在后述的X方向布線(上布線)下，在與各元件對應的連接部上打開形成了接觸孔27，使其覆蓋與先前形成的Y方向布線(下布線)24的交叉部，而且能夠使X方向布線(上布線)與元件電極2電連接(參照圖5)。
具體點說，網(wǎng)印PbO為主要成分的感光性玻璃膏J1345(杜邦公司制造)以后，進行曝光-顯影。對其重復4次，最后在480℃左右溫度下燒結(jié)。該絕緣層25厚度全體約為30μm，寬度約為150μm。
(形成X方向布線)在前面形成的絕緣層25上，網(wǎng)印Ag膏油墨以后，使其干燥，其上再次進行同樣操作的2次涂敷后，在420℃左右溫度下燒結(jié)形成X方向布線(上布線)26(參照圖6)。X方向布線26夾著絕緣層25與Y方向布線24交叉，經(jīng)由設(shè)于絕緣層25的接觸孔27部分與元件電極22連接起來。
該X方向布線26面板化以后用作掃描電極。另外，X方向布線26的厚度約為15μm，線寬約為300μm。
(形成引出布線)用于連接外部驅(qū)動電路的X·Y兩方向的引出布線11、12是用上述X方向布線(上布線)26同樣的方法形成的(參照圖1)。另外，引出布線11、12采用更大線寬，根據(jù)場所為100μm～500μm。
這樣本實施例中，通過用光敏膏的光刻法形成顯示區(qū)域內(nèi)的Y方向布線24，也用網(wǎng)印法形成顯示區(qū)域外的XY兩方向布線(引出布線11、12)，形成具有顯示區(qū)域內(nèi)的Y方向布線24剖面如圖18A一樣與基板形成的平均角度為鈍角，顯示區(qū)域外的XY兩方向布線(引出布線11、12)的剖面如圖17A一樣與基板形成的平均角度是銳角的XY矩陣式布線的基板。
(形成導電性膜)接著，對上述基板進行充分清洗以后，要用含有抗水劑的溶液處理表面，使表面變成疏水性。這是因為要使此后涂布導電膜形成用的水溶液適當擴大配置在元件電極上。所用的抗水劑用噴霧法把二甲二乙基烷散布到基板上，用120℃溫熱風干燥。
然后，在元件電極2、3之間形成導電性膜4。用圖7A～7C說明本工序。另外，為了補償基板21上的各個元件電極平面的離散，在基板上幾個地方觀測圖形的配置偏移，觀測點間的點偏移量按直線近似校正位置，通過涂敷導電性膜形成材料，消除全部象素的位置偏移，使其確實涂敷到對應的位置。
本實施例中，作為導電性膜4以獲得鈀膜的目的，首先在由水85異丙醇(IPA)15組成的水溶液中，溶解鈀-脯氨酸絡合物0.15％，獲得含有有機鈀溶液。此外添加若干添加劑。作為給予液滴手段71采用使用壓力器具的溶液噴射裝置，調(diào)整該溶液的液滴，使其點徑為60μm附著于元件電極間(圖7A)。
然后，把該基板放在空氣中，350℃下進行10分鐘加熱燒結(jié)處理，形成由氧化鈀(PdO)構(gòu)成的導電性膜4’(圖7B)。獲得點的直徑約為60μm，厚度最大為10nm的膜。
(電冶成工序)接著，在叫做電冶成的工序，通電處理上述導電性膜4，使內(nèi)部發(fā)生龜裂，形成電子放射部5(圖7C)。
具體的方法留下上述基板21周圍的引出布線部，包覆罩狀蓋使其覆蓋整個基板，在與基板21之間造成內(nèi)部真空空間，用外部電源從該引出布線的端子部把電壓施加于兩方向布線24、26之間，隨著元件電極2、3間通電，因局部使導電性膜4’破壞、變形或變質(zhì)，形成電氣上高電阻狀態(tài)的電子放射部5。罩狀蓋和基板21由于介以樹脂制O型環(huán)進行接觸，形成氣密容器。
這時如果在含有若干氫氣的真空氣氛下通電加熱，由于氫氣促進還原，由氧化鈀PdO構(gòu)成的導電性膜4’變成鈀Pd構(gòu)成的導電性膜4。
該變化時，因膜還原收縮，一部分發(fā)生龜裂(間隙)，但該龜裂發(fā)生位置及其形狀對原來膜的均勻?qū)懘笥杏绊?。因為抑制多個元件特性離散，在導電性膜4的中央部分發(fā)生上述龜裂，而且盡量變成直線狀龜裂是格外理想的。
另外，由于用該冶成法形成的龜裂附近，在規(guī)定電壓下也發(fā)生電阻放射，但形狀條件下恰好的發(fā)生效率是非常低的。
并且所獲得的導電性膜4電阻值Rs是102到107Ω的值。
本實施例中，在冶成處理中使用如圖8B所示的脈沖波形，T1為0.1msec，T2為50msec。施加的電壓從0.1V開始，每5秒增加每步約0.1V。通電處理結(jié)束，測定施加脈沖電壓時流入元件的電流并求出電阻值，對于冶成處理前的電阻，在出現(xiàn)1000倍以上的電阻時刻，結(jié)束冶成處理。
(激活工序)與上述冶成法同樣，蓋上罩狀蓋，在與基板21之間造成內(nèi)部真空空間，從外部通過兩方向布線，通過在元件電極2、3間重復施加脈沖電壓進行激活。而且導入含有碳原子的氣體，在上述龜裂附近淀積由此來的碳或碳化合物作為碳膜。
本實施例中，使用三硝基甲苯作為碳源，通過單向節(jié)流閥導入真空空間內(nèi)，保持1.3×10-4Pa。
圖11A和11B中，示出激活工序中施加所用的施加電壓的一個較好例。在10～20V范圍內(nèi)適當選擇施加的最大電壓值。
圖11A中，T1是電壓波形的正與負脈沖寬度，T2是脈沖間隔，設(shè)定電壓值正負絕對值為相等。并且，在圖11B中，T1和T1’分別是電壓波形的正與負脈沖寬度，T2是脈沖間隔，在T1＞T1’下，假設(shè)電壓值是正負絕對值為相等。
這時，加到元件電極3上的電壓為正，元件電流If從元件電極3象元件電極2流動的方向為正。約60分鐘后，發(fā)射電流Ie大致到達飽和的時刻停止通電，關(guān)閉單向節(jié)流閥，結(jié)束激活處理。另外，在上述的冶成、激活工序中，介以O(shè)型環(huán)的罩狀蓋形成氣密容器是相當好的，足夠維持冶成時的真空氣氛，激活時的激活氣氛(碳氣氛)。
以上的工序中，能夠基板上制作矩陣式布線連接多個電子放射元件構(gòu)成的電子源基板。
(電子源基板的特性評價)利用如圖9所示的裝置，測定按照上述這樣的元件構(gòu)成和制造方法制作的電子源基板的電子發(fā)射特性。其結(jié)果，測定元件電極間施加電壓12V下的發(fā)射電流Ie的場合，獲得平均0.6μA，電子發(fā)射效率獲得平均0.15％。并且元件間均勻性也很好，各元件間的Ie離散優(yōu)于5％。
其次，與以上一樣，采用制造的簡單矩陣配置的電子源基板，制造圖12所示的圖象形成裝置(顯示板)。另外，圖12表現(xiàn)內(nèi)部結(jié)構(gòu)，所以部分地切口進行表示。
本實施例中，用玻璃料粘合電子源基板21、支持框86和面板82，在480℃下，通過30分鐘燒結(jié)，進行密封，得到外殼90。
另外，由于全部在真空室中進行這一連串工序，可以同時從最初起，把外殼90內(nèi)部抽成真空，而且也能簡化工序。
這樣一來，制造如圖12所示的顯示板，連接由圖14的掃描電路、控制電路、調(diào)制電路、直流電壓源等組成的驅(qū)動電路，造成平面狀的圖象顯示裝置。
如同以上一樣制成的圖象顯示裝置中，通過X方向端子和Y方向端子，采用對各電子放射元件按時分割施加規(guī)定電壓的辦法發(fā)射電子，通過高壓端子，將高壓加到陽極的金屬背85上，對發(fā)生的電子束進行加速，隨著撞擊熒光膜84，顯示出圖象。
本實施例中，由于充分確保大致與線狀電子放射部5平行配置的Y方向布線24的高度，很好地進行發(fā)射電子的軌道控制，所以發(fā)光效率高，并且，因為使顯示區(qū)域外的XY兩方向布線(引出布線11、12)剖面與基板形成的平均角度成為銳角，在顯示區(qū)域外兩方向布線也沒有發(fā)生卷邊和側(cè)裂，獲得真空可靠性高的圖象形成裝置。
本實施例，在顯示區(qū)域內(nèi)形成Y方向布線時，也同時形成顯示區(qū)域外的X、Y兩方向引出布線，進而對于該X、Y兩方向引出布線涂敷丙烯酸樹脂并同時進行燒結(jié)外，都與實施例1同樣制作電子源基板。以下只說明形成布線部分。
(形成Y方向布線)Y方向布線(下布線)24是通過使用光敏膏材料的光刻法，形成線狀圖形，使其與一方的元件電極3接連，而且把它們連結(jié)起來。至于材料，使用銀Ag光敏膏油墨DC-206(杜邦公司制造)，網(wǎng)印以后，使其干燥后，對規(guī)定圖形曝光并顯影。而后在480℃左右溫度下進行燒結(jié)，形成Y方向布線24(參照圖4)。該Y方向布線24的厚度約15μm，線寬約50μm。
并且，與形成該Y方向布線同時，也形成圖1所示的X、Y兩方向引出布線11、12。X、Y兩方向引出布線11、12的線寬隨場所而異為60μm～300μm。但是，布線圖形制成后，對用感光性丙烯酸樹脂的顯示區(qū)域外進行部分涂敷，并與布線同時燒結(jié)。
(形成絕緣層)為了絕緣上下布線，形成絕緣層25。在后述的X方向布線(上布線)下，在與各元件對應的連接部上打開形成了接觸孔27，使其覆蓋與先前形成的Y方向布線(下布線)24的交叉部，而且能夠使X方向布線(上布線)與元件電極2電連接(參照圖5)。
具體點說，網(wǎng)印PbO為主要成分的感光性玻璃膏J1345(杜邦公司制造)以后，進行曝光-顯影。對其重復4次，最后在480℃左右溫度下燒結(jié)。該絕緣層25的厚度全體約為30μm，寬度約為150μm。
(形成X方向布線)在前面形成的絕緣層25上，網(wǎng)印Ag膏油墨以后，使其干燥，其上再次進行同樣操作的2次涂敷后，在420℃左右溫度下燒結(jié)形成X方向布線(上布線)26(參照圖6)。X方向布線26夾著絕緣層25與Y方向布線24交叉，經(jīng)由設(shè)于絕緣層25的接觸孔27部分與元件電極22連接起來。該X方向布線26的厚度約為15μm，線寬約為300μm。
本實施例中，顯示區(qū)域內(nèi)的Y方向布線24和顯示區(qū)域外的XY兩方向引出布線11、12，也通過使用光敏膏的光刻法，曝光、顯影、形成圖形以后，通過在顯示區(qū)域外，用比上述光敏膏(銀Ag光敏膏油墨DC-206)中有機成分燒失溫度高的溫度而且比無機成分的軟化點低的溫度燒失的覆蓋涂層(感光性丙烯酸樹脂)形成在布線圖形上，同時燒結(jié)布線圖形和覆蓋涂層，形成了具有顯示區(qū)域內(nèi)的Y方向布線24剖面如圖18A那樣與基板形成的平均角度是鈍角，顯示區(qū)域外XY兩方向布線(引出布線11、12)剖面整體上與基板形成的平均角度是銳角的XY矩陣式布線的基板。
即使在本實施例的電子源基板方面，也與實施例1同樣，一面確保發(fā)光效率提高，一面能夠?qū)崿F(xiàn)電子源基板的元件制作工序以及利用它的圖象形成裝置真空可靠性的提高，除此以外，與外部驅(qū)動電路連接的引出布線部分也成了高密度，能夠使圖象顯示區(qū)域的外形更加緊湊。
本實施例作為第一布線，采用光敏膏的光刻法，形成顯示區(qū)域外X和Y方向引出布線，進而作為第二布線，在顯示區(qū)域外的X和Y方向引出布線(第一布線)上，采用非光刻膏的印刷用膏狀油墨，用網(wǎng)印法形成第2層引出布線外，都與實施例1同樣制作電子源基板。以下，只說明形成布線部分。
(形成Y方向布線)Y方向布線(下布線)24是通過使用光敏膏材料的光刻法，形成線狀圖形，使其與一方的元件電極3接連，而且把它們連結(jié)起來。至于材料，使用銀Ag光敏膏油墨DC-206(杜邦公司制造)，網(wǎng)印以后，使其干燥后，對規(guī)定圖形曝光并顯影。而后在480℃左右溫度下進行燒結(jié)，形成Y方向布線24(參照圖4)。該Y方向布線24的厚度約15μm，線寬約50μm。
并且，與形成該Y方向布線同時，也形成圖1所示的Y方向引出布線12。Y方向引出布線12的線寬隨場所而異為100μm以下。
(形成絕緣層)為了絕緣上下布線，形成絕緣層25。在后述的X方向布線(上布線)下，在與各元件對應的連接部上打開形成了接觸孔27，使其覆蓋與先前形成的Y方向布線(下布線)2 4的交叉部，而且能夠使X方向布線(上布線)與元件電極2電連接(參照圖5)。
具體點說，網(wǎng)印PbO為主要成分的感光性玻璃膏J1345(杜邦公司制造)以后，進行曝光-顯影。對其重復4次，最后在480℃左右溫度下燒結(jié)。該絕緣層25的厚度全體約為30μm，寬度約為150μm。
(形成X方向布線)首先采用光敏膏材料的光刻法，形成圖1中所示的顯示區(qū)域外的X方向引出布線11。至于材料，使用銀Ag光敏膏油墨DC-206(杜邦公司制造)，網(wǎng)印以后，使其干燥后，對規(guī)定圖形曝光并顯影。而后在480℃左右溫度下進行燒結(jié)。
其次，在先前形成的絕緣層25和X方向引出布線11上，進而網(wǎng)印Ag膏油墨以后，使其干燥，其上再次進行同樣操作的2次涂敷后，在420℃左右溫度下進行燒結(jié)。接著在Y方向引出布線上，進而也網(wǎng)印Ag膏油墨以后，使其干燥，其上再次進行同樣操作的2次涂敷后，在420℃左右溫度下進行燒結(jié)。另外，因為形成的X方向布線26夾著絕緣層25與Y方向布線24交叉，經(jīng)由設(shè)于絕緣層25的接觸孔27部分與元件電極22連接起來。
顯示區(qū)域內(nèi)的X方向布線26的厚度約為15μm，顯示區(qū)域外的X方向引出布線11約為30μm，線寬約為100μm。
本實施例中，形成具有顯示區(qū)域內(nèi)Y方向布線24的剖面如圖18A那樣與基板形成的平均角度為鈍角，顯示區(qū)域外X和Y方向引出布線的剖面與基板形成的平均角度為銳角的XY矩陣式布線的基板。
即使在本實施例的電子源基板方面，也與實施例1同樣，一面保證提高發(fā)光效率，一面能夠充分滿足冶成、激活時樹脂制O型環(huán)的氣密性。以上，說明了本發(fā)明的較好實施例，另外，本發(fā)明不限于使用表面導電型電子放射元件的顯示裝置，也能應用于使用FE型元件、MIM型元件等各式各樣的電子放射元件的顯示裝置。并且，不限于使用電子放射元件的電子束激發(fā)型顯示裝置，也能應用于以PDP等開始使用氣密容器的顯示裝置。例如，PDP的場合，也可以將上述實施例應用于特開2001-189136號公報中記載的地址電極和引出部，形成背面板，并且也可以將上述實施例應用于顯示電極和引出部，形成前面板。另外，在PDP中，希望理解為密封部的玻璃料兼用框狀構(gòu)件。并且，關(guān)于PDP的面板形式，也不限于特開2001-189136號公報中記載的那種平面放電型，也能應用于對置放電型，驅(qū)動方法應用于AC型、DC型的哪種也都行。
如以上說明，按照本發(fā)明的布線基板，采用一面充分保證顯示區(qū)域內(nèi)要求布線的邊緣高度一面分別控制顯示區(qū)域內(nèi)和顯示區(qū)域外的各布線剖面形狀的辦法，就能夠提供一邊達成布線電阻的降低一邊能夠?qū)崿F(xiàn)顯示區(qū)域外(密封部)沒有布線卷邊和基板側(cè)裂的氣密容器的顯示裝置用布線基板。
而且，使用這樣的布線基板作為電子源基板的圖象顯示裝置來說，與發(fā)光效率的提高一起，能夠?qū)崿F(xiàn)真空可靠性高的圖象顯示裝置，能夠獲得更高密度象素排列的高質(zhì)量圖象。
權(quán)利要求
1.一種布線基板，用于顯示板，基板上具有多個布線電極，通過在具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板而形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上的上述布線剖面與上述布線基板形成的平均角度是鈍角，上述框狀構(gòu)件配置區(qū)域的上述布線剖面與上述布線基板形成的平均角度是銳角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布線基板，其特征是上述布線的厚度為8μm以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布線基板，其特征是上述氣密容器內(nèi)部的氣氛是減壓氣氛。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示板用的布線基板，其特征是在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上的上述布線寬度，比上述框狀構(gòu)件配置區(qū)域內(nèi)的上述布線寬度要小。
5.一種顯示板用布線基板的制造方法，基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是包括步驟在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板上正投影區(qū)域，采用光敏膏的光刻法形成布線；在配置框狀構(gòu)件的區(qū)域，采用印刷用膏狀油墨的圖形印刷法形成布線。
6.一種顯示板用布線基板的制造方法，基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是包括步驟在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板上的正投影區(qū)域上，采用光敏膏的光刻法形成布線；在框狀構(gòu)件配置區(qū)域的布線圖形上覆蓋涂層，該涂層在比上述光敏膏中有機成分燒失溫度高的溫度而且比無機成分軟化點低的溫度下燒失；以及同時燒結(jié)布線圖形和覆蓋涂層。
7.一種顯示板用布線基板的制造方法，基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是包括在上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上，采用光敏膏的光刻法形成第一布線的工序；在框狀構(gòu)件配置區(qū)域的第一布線上，采用印刷用膏狀油墨的圖形印刷法形成第二布線的工序。
8.一種圖象顯示裝置，其特征是使用根據(jù)權(quán)利要求1到4任一項所述的布線基板。
全文摘要
本發(fā)明的顯示板用的布線基板，在基板上具有多個布線電極，通過具有該布線電極的基板表面上介以框狀構(gòu)件配置對置基板形成氣密容器，該氣密容器內(nèi)具有圖象形成構(gòu)件，其特征是在向上述圖象形成構(gòu)件向上述布線基板的正投影區(qū)域上的上述布線剖面與上述布線基板形成的平均角度是鈍角，上述框狀構(gòu)件配置區(qū)域的上述布線剖面與上述布線基板形成的平均角度是銳角。還提供其制造方法，使用光敏膏的光刻法，用于平面基板上具有多個矩陣排列的電子放射元件顯示板的布線。
文檔編號H05K3/12GK1410953SQ0213019
公開日2003年4月16日 申請日期2002年8月23日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月27日
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