專利名稱:氧化物結(jié)晶表面的超平坦化方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面的超平坦化方法,用該方法制備ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的方法,以及由其制備的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜。
本發(fā)明進一步涉及氧化物光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面的超平坦化方法和氧化物結(jié)晶的缺陷評價方法,其中應(yīng)用了上述氧化物結(jié)晶表面的超平坦化方法。
背景技術(shù):
近年來,在激光加工、激光醫(yī)學(xué)治療、材料表面重整和光學(xué)信息處理領(lǐng)域中,對短波激光的需求日益增加,有關(guān)它們的活躍研究和開發(fā)正在進行中。由于半導(dǎo)體激光只能產(chǎn)生紅外到藍色區(qū)域的光,必須采用波長轉(zhuǎn)換技術(shù)進行光紫外化。作為這種波長轉(zhuǎn)換技術(shù),使用利用光學(xué)結(jié)晶的非線性光學(xué)效應(yīng)的SHG(二階諧波發(fā)生)和THG(三階諧波發(fā)生)。盡管由KTP(KTiOPO4)和KDP(KH2PO4)組成的這些結(jié)晶迄今為止被用作產(chǎn)生非線性光學(xué)效應(yīng)的結(jié)晶,但這些結(jié)晶存在折射率波動、吸收損失大的問題,它們易于遭受光學(xué)損傷,它們是水溶性的,因此抵抗環(huán)境腐蝕的能力差,它們的非線性光學(xué)效應(yīng)并不很令人滿意,并且/或者它們的熱導(dǎo)率差。
在尋求克服KTP和KDP結(jié)晶的這些缺點的非線性光學(xué)效應(yīng)結(jié)晶的嘗試中,近來,如JP H10-206916 A中所公開,已合成了稱為稀土/鈣/氧硼酸鹽[ReCa4O(BO3)3,其中Re是一個或多個稀土元素]用于NdYAG激光的SHG(二階諧波發(fā)生)和THG(三階諧波發(fā)生)的大塊單晶(bulk single crystal)。作為氧化物光學(xué)結(jié)晶,發(fā)現(xiàn)該結(jié)晶克服了KTP和KDP結(jié)晶的困難,并表現(xiàn)出極高的SHG和THG效率,認為其是應(yīng)該構(gòu)成未來波長轉(zhuǎn)換技術(shù)核心的光學(xué)結(jié)晶。
然而,盡管對其應(yīng)用,特別是在光學(xué)信息處理領(lǐng)域中的應(yīng)用的需求很高,但由于其極其復(fù)雜的結(jié)晶結(jié)構(gòu),至今仍未成功地將這種結(jié)晶制成薄膜形式。
圖6顯示ReCa4O(BO3)3的結(jié)晶結(jié)構(gòu),其中Re是一個或多個稀土元素,其中圖6(A)是從其b軸方向觀察的該結(jié)晶的原子模式圖,圖6(B)是從其c軸方向觀察的同一結(jié)晶的原子模式圖。圖6(C)顯示其基本單位格子,表明該結(jié)晶是屬于點群m和空間群Cm的單斜雙軸結(jié)晶,它具有晶格常數(shù)a約8.09埃,b約16.01埃,c約3.56埃,但精確值根據(jù)Re的類型和數(shù)目而變。
如所示,組成該結(jié)晶基本單位格子的原子的數(shù)目極大,晶格常數(shù)極大,并且結(jié)構(gòu)復(fù)雜。
圖7顯示通過在STO(鈦酸鍶)和Al2O3(氧化鋁)單晶基板上經(jīng)激光消融而外延生長ReCa4O(BO3)3,Y形成的薄膜的X-射線衍射測定結(jié)果,其中Re=Gd。從衍射模式清楚地看到,并沒有獲得ReCa4O(BO3)3薄膜外延生長。
由于ReCa4O(BO3)3的結(jié)晶結(jié)構(gòu)極其復(fù)雜,在基板上外延生長其單晶薄膜需要基板具有與其相似的結(jié)晶結(jié)構(gòu),并且其表面被平坦化至原子水平。由于難以實現(xiàn)這種平坦化表面的要求,現(xiàn)有技術(shù)沒有成功地產(chǎn)生這種單晶薄膜。
因此,結(jié)晶ReCa4O(BO3)3極其復(fù)雜的結(jié)晶結(jié)構(gòu)不允許目前的工藝產(chǎn)生其單晶薄膜,并因此不能開發(fā)利用薄膜結(jié)構(gòu)的非線性光學(xué)性質(zhì)。
除此之外,SHG和THG不能得以有效進行,除非光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面被平坦化至某波長或更小?,F(xiàn)有技術(shù)中使用尺寸為某波長或以下的研磨劑來拋光這種表面不可避免地在該表面中形成研磨劑的粒徑程度的凸凹或細微裂縫。結(jié)果,這種表面,特別是用于發(fā)射高能光子,可能因其部分破損而具有各種光學(xué)損傷。預(yù)防這種現(xiàn)象發(fā)生要求光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面的結(jié)構(gòu)完整性,但迄今為止通過拋光僅有限程度地實現(xiàn)了所述結(jié)構(gòu)完整性。
除此之外,當(dāng)要評價光學(xué)結(jié)晶的質(zhì)量時,可采用如下方法選擇性地蝕刻光學(xué)結(jié)晶的缺陷部分并計數(shù)所得蝕坑的數(shù)目來評價其質(zhì)量。如果光學(xué)結(jié)晶是既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶,如ReCa4O(BO3)3,存在的問題是不能通過常規(guī)方法進行其質(zhì)量評價;這種氧化物結(jié)晶沒有辦法評價其質(zhì)量。
考慮到這些問題,本發(fā)明的第一個目的是提供超平坦化既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面的方法。
本發(fā)明的另一個目的是提供用這種方法制備ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的方法及由其制備的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜。
本發(fā)明的再一目的是提供超平坦化氧化物光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面的方法,以及氧化物結(jié)晶的表面缺陷評價方法,在這兩個方法中,作為第一目的的方法得到應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)可將其溶解的水溶液的性質(zhì),可以將氧化物分為三種類型,即,溶于堿溶液的“酸性氧化物”,溶于酸性水溶液的“堿性氧化物”以及既溶于酸也溶于堿的“兩性氧化物”。具有強電離度的氧化物是堿性氧化物,且通常溶于酸,如鹽酸、硝酸和硫酸。至于組成和結(jié)構(gòu)均復(fù)雜的氧化物,存在既不溶于酸也不溶于堿,甚至不溶于氟酸的化學(xué)上極為穩(wěn)定的氧化物。
可以如下地使這種氧化物可溶即,由于該氧化物處于金屬被氧化的狀態(tài),因此它可被還原,可以通過用還原劑如草酸,或硫代硫酸鈉水溶液還原而使其分解形成,或由此轉(zhuǎn)化成更簡單的氧化物,其中金屬結(jié)合于水的氧上。
由于一旦轉(zhuǎn)化成更簡單的氧化物,即可用酸或堿水溶液相應(yīng)地將其溶解,因此有可能用鹽酸、硝酸或硫酸常規(guī)地溶解氧化物結(jié)晶表面。
溶解的表面具有懸空鍵暴露的狀態(tài),在大氣中于適宜溫度下熱處理適宜的時間,可使其表面原子重排,從而使表面自由能最小化;因此表面被超平坦化至原子水平。
因此,根據(jù)本發(fā)明,提供了超平坦化既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面的方法,其特征在于其包括以下步驟用還原劑還原氧化物結(jié)晶表面;用酸或堿水溶液溶解經(jīng)還原的氧化物結(jié)晶表面;在大氣中對經(jīng)還原的表面溶解了的氧化物結(jié)晶進行熱處理,從而將既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面平坦化至原子水平。
根據(jù)該方法,由于其組成和結(jié)構(gòu)均復(fù)雜而既不溶于酸也不溶于堿,甚至不溶于氟酸的在化學(xué)上穩(wěn)定的化合物通過還原可轉(zhuǎn)化成常規(guī)可溶于鹽酸、硝酸或硫酸的更簡單的氧化物;因此其結(jié)晶表面能夠溶解。然后,在大氣中于適宜溫度下將溶解的表面熱處理適宜的時間,可使表面原子重排,使表面超平坦化至原子水平。
本發(fā)明還提供ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的制備方法,其特征在于其包括以下步驟用還原劑還原具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶的表面,其中Re代表一個或多個稀土元素;用酸或堿水溶液溶解經(jīng)還原的氧化物單晶表面;在大氣中對經(jīng)還原的表面溶解了的氧化物單晶進行熱處理,從而將其表面超平坦化;然后在經(jīng)超平坦化的表面上外延生長ReCa4O(BO3)3薄膜。
根據(jù)該方法,可使組成和結(jié)構(gòu)均極為復(fù)雜的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶的表面超平坦化,超平坦化的表面允許在其上外延生長ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜。
本發(fā)明還提供具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶薄膜,其中Re是一個或多個稀土元素,其特征在于其是外延生長在具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶的表面上并被超平坦化的所述成分的薄膜。
上述氧化物單晶薄膜可以具體為特征在于具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶薄膜,它是具有屬于點群m和空間群Cm的單斜雙軸結(jié)晶結(jié)構(gòu)的單晶薄膜。
上述氧化物單晶薄膜可以具體為特征在于具有非線性光學(xué)性質(zhì),因而提供SHG和THG性質(zhì)的氧化物單晶薄膜。
本發(fā)明還提供平坦化光入射/發(fā)射表面的方法,其特征在于該表面是既不溶于酸也不溶于堿的氧化物光學(xué)結(jié)晶,該方法包括以下步驟用還原劑還原氧化物光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面;用酸或堿水溶液溶解經(jīng)還原的氧化物光學(xué)結(jié)晶表面;在大氣中對表面溶解了的氧化物光學(xué)結(jié)晶進行熱處理,從而將該光入射和發(fā)射表面平坦化,從而將該氧化物光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面平坦化。
根據(jù)該方法,可將氧化物光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面超平坦化,從而防止在SHG和THG中的諧波發(fā)生中發(fā)生表面破損和光學(xué)損傷。
本發(fā)明進一步提供結(jié)晶缺陷評價方法,其特征在于其包括以下步驟用還原劑還原既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶的表面;用蝕刻液溶解經(jīng)還原的氧化物結(jié)晶表面中的缺陷,以選擇性蝕刻所述缺陷,從而形成用于結(jié)晶缺陷評價的氧化物結(jié)晶的蝕坑。根據(jù)該方法,可能評價迄今為止難以評價的既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶的質(zhì)量。
通過下面的詳細描述和本文所附的顯示本發(fā)明某些實施方案的說明性形式的附圖將更好地理解本發(fā)明。就此而論,應(yīng)注意,附圖中所示的實施方案的這些形式并不意在限制本發(fā)明,而是幫助針對其的解釋和理解。附圖中圖1顯示當(dāng)將本發(fā)明的超平坦化氧化物結(jié)晶表面的方法應(yīng)用于ReCa4O(BO3)3時表面平整度的測定結(jié)果;圖2顯示在本發(fā)明的超平坦化氧化物結(jié)晶表面的方法中于各種熱處理條件下進行的表面平整度測定的結(jié)果;圖3顯示在本發(fā)明的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的制備方法中于Gd1-xYxCa4O(BO3)3薄膜生長期間進行的RHEED測定的結(jié)果;圖4顯示對于不同稀土元素而言,外延生長單晶膜所需的最低基板溫度;圖5顯示本發(fā)明的具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶薄膜的SHG性質(zhì)的測定結(jié)果,其中Re是一個或多個稀土元素;圖6顯示ReCa4O(BO3)3成分的結(jié)晶結(jié)構(gòu),其中Re是一個或多個稀土元素;以及圖7顯示當(dāng)在STO(鈦酸鍶)和Al2O3(氧化鋁)單晶基板上通過分子束外延而試圖外延生長ReCa4O(BO3)3成分的薄膜和Y時進行的X-射線衍射測定的結(jié)果,其中Re=Gd。
具體實施例方式
在下文中,將參照附圖所示的適宜實施形式詳細描述本發(fā)明。
首先提及本發(fā)明的超平坦化氧化物結(jié)晶表面的方法。
GdCa4O(BO3)3(釓/鈣/氧硼酸鹽)結(jié)晶是既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶,其結(jié)晶結(jié)構(gòu)如圖5所示。
GdCa4O(BO3)3的大塊單晶在下述步驟中被超平坦化。
1)將大塊單晶浸入到作為還原劑的草酸水溶液(0.5mol/L)中10~30秒,以將其表面轉(zhuǎn)化成更簡單的氧化物;2)將經(jīng)還原的大塊單晶表面在純水中超聲清洗3分鐘;
3)將經(jīng)清洗的大塊單晶浸入到鹽酸水溶液(5×10-4mol/cm3)中10~30秒,該鹽酸水溶液作為溶解還原形成的更簡單的氧化物的酸;4)將所得的大塊單晶在純水中超聲清洗3分鐘;以及5)用電爐在大氣中于1000℃下將所生成的大塊單晶熱處理10小時,從而獲得超平坦化的大塊單晶。
將這樣超平坦化的GdCa4O(BO3)3結(jié)晶表面用原子力顯微鏡(AFM)測定其平整度。
圖1顯示當(dāng)將本發(fā)明的平坦化氧化物結(jié)晶表面的方法應(yīng)用于GdCa4O(BO3)3大塊結(jié)晶時,表面平整度的測定結(jié)果。
圖1(A)顯示在應(yīng)用本發(fā)明的超平坦化氧化物結(jié)晶表面的方法之前,即在拋光基板之后拍攝的GdCa4O(BO3)3大塊結(jié)晶的(010)結(jié)晶表面的AFM圖像,圖1(B)顯示沿圖1(A)中水平線測定表面粗糙度的結(jié)果。
根據(jù)這些附圖可以看到,該表面有拋光印痕而且沒有被平坦化至原子水平。
圖1(C)顯示在進行上述步驟1)~5)之后拍攝的GdCa4O(BO3)3大塊結(jié)晶的(010)結(jié)晶表面的AFM圖像,圖1(D)顯示沿圖1(A)中水平線測定表面粗糙度的結(jié)果。
根據(jù)這些附圖可以看到,GdCa4O(BO3)3大塊結(jié)晶表面具有等同步為約8埃(相當(dāng)于b軸方向上的晶格常數(shù)的約一半)的沿其結(jié)晶b軸呈梯形形成的其(010)晶面。
圖2顯示步驟5)中熱處理條件和所得表面不平度之間的關(guān)系的測試結(jié)果。在圖2中,左側(cè)縱軸代表表面粗糙度,右側(cè)縱軸代表最大不平度,橫坐標(biāo)代表熱處理溫度。從該圖可以看出,確立適宜的熱處理條件使表面被超平坦化至5?;蚋停簿褪侵猎铀?。
接著提及本發(fā)明的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的制備方法和由其制得的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜,參照如以下的具體實施例1)使用已經(jīng)由本發(fā)明的氧化物單晶表面超平坦化步驟超平坦化的GdCa4O(BO3)3結(jié)晶基板的(010)結(jié)晶表面。
2)為了生長薄膜,使用激光消融MBE設(shè)備,基板溫度為500~700℃,激光能量約為5焦耳/cm2,激光重復(fù)頻率為1~20Hz,氧分壓約為1×10-6,目標(biāo)由Gd1-xYxCa4O(BO3)3單晶制成,基板到目標(biāo)的距離約為5cm。
提及在膜生長期間的RHEED(反射高能電子衍射)測定的結(jié)果。
圖3顯示在本發(fā)明的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的制備方法中,Gd1-xYxCa4O(BO3)3生長期間進行的RHEED測定的結(jié)果。
圖3(A)顯示膜生長期間的RHEED強度震蕩。圖中,橫坐標(biāo)軸代表以膜開始生長的時間點作為其起點的時間推移,縱坐標(biāo)軸代表RHEED強度。每個陰影區(qū)域表明膜生長,每個陰影區(qū)域中顯示的頻率表明那時所用的激光重復(fù)頻率,每個無陰影或白色地帶代表下一個膜生長的預(yù)備期,在預(yù)備期中膜生長條件有所改變并且沒有膜生長。圖3(A)中顯示的小圖顯示放大的隨激光束開和關(guān)而發(fā)生的RHEED振蕩的部分。從表明RHEED強度震蕩波形的包絡(luò)曲線形狀變化可以看出,薄膜外延生長成每一單分子層。
圖3(B)顯示RHEED衍射模式,由其可以看出,外延薄膜為單晶。
接著,目標(biāo)成分的稀土位點(Re)由其他稀土元素La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu相繼取代,以相繼制備不同的目標(biāo)。使用這些目標(biāo),并依據(jù)RHEED衍射模式測定,已經(jīng)確證所有這些其它的稀土元素以及單晶薄膜外延生長在已被超平坦化至原子水平的GdCa4O(BO3)3基板的(010)結(jié)晶表面上。
圖4顯示不同稀土元素的單晶膜的外延生長所需要的最低基板溫度。圖中,橫坐標(biāo)軸代表稀土元素的離子半徑,縱坐標(biāo)軸代表基板溫度。
從該圖可以清楚地看出,盡管單晶薄膜外延生長所需的最低基板溫度隨不同稀土元素而變,但如果將基板溫度升高至其所需的最低溫度以上,對于每種稀土元素而言均可獲得ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜。
接著提及由上述本發(fā)明的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的制備方法制備的Gd1-xYxCa4O(BO3)3的SHG性質(zhì)。
圖5顯示本發(fā)明的具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶薄膜的SHG性質(zhì)的測定結(jié)果,其中Re是一個或多個稀土元素。
圖5(A)顯示用于測定SHG性質(zhì)的光學(xué)系統(tǒng)。
圖中,來自由NdYAG激光制成的光源1的1.06μm激光束穿過孔3并垂直入射到半波長板4上。接著,通過由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部5在垂直于光軸的平面內(nèi)使半波長板4旋轉(zhuǎn)而將激光束2的偏振方向設(shè)定在給定角度,偏振方向設(shè)定在給定角度的激光束2垂直入射到Gd1-xYxCa4O(BO3)3薄膜6的表面上,由此形成其SHG光7。SHG光7和作為基本波的激光2經(jīng)鏡8導(dǎo)入棱鏡9和ND濾器10,在此基本波成分被切除,而僅SHG7光入射到光檢測器11上,在此其波長得到測定。
圖5(B)顯示由Gd1-xYxCa4O(BO3)3薄膜6形成的SHG光的強度作為偏振旋轉(zhuǎn)角的函數(shù)的測定。圖中,橫坐標(biāo)軸代表入射到Gd1-xYxCa4O(BO3)3薄膜6上的激光2的偏振旋轉(zhuǎn)角(°),而縱坐標(biāo)軸代表以任意標(biāo)度給出的SHG光7的測定強度(●)和SHG光7的歸一化強度(○)。
如圖5(B)所示,由Gd1-xYxCa4O(BO3)3薄膜6產(chǎn)生的SHG光具有在360°的偏振旋轉(zhuǎn)角,也就是一周旋轉(zhuǎn)中產(chǎn)生的四(4)個峰。這四個產(chǎn)生的峰相應(yīng)于偏振方向,其中達到基本波和SHG光之間的相位匹配。發(fā)現(xiàn)由入射在大塊Gd1-xYxCa4O(BO3)3單晶的(010)結(jié)晶表面上的基本波產(chǎn)生的SHG光也具有在一周旋轉(zhuǎn)中產(chǎn)生的四個這樣的峰。
從以上內(nèi)容可以看出,依據(jù)本發(fā)明外延生長的Gd1-xYxCa4O(BO3)3薄膜是具有與大塊Gd1-xYxCa4O(BO3)3單晶相似的結(jié)晶結(jié)構(gòu)的單晶薄膜。然而,已經(jīng)確證基板GdCa4O(BO3)3結(jié)晶不產(chǎn)生上述入射角的SHG光。
工業(yè)實用件使用本發(fā)明的超平坦化氧化物結(jié)晶表面的方法可使既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面超平坦化至原子水平。
此外,使用本發(fā)明的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的制備方法可制備ReCa4O(BO3)3系中任何氧化物單晶薄膜。
此外,本發(fā)明的ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜具有非線性光學(xué)性質(zhì),能夠有效產(chǎn)生SHG和THG光。
此外,使用本發(fā)明的光入射/發(fā)射表面的超平坦化方法可防止光入射/發(fā)射表面破裂和具有任何光學(xué)損傷。
此外,使用本發(fā)明的結(jié)晶缺陷評價方法可評價既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶的質(zhì)量。
本發(fā)明的這些方面適用于需要紫外激光的技術(shù)領(lǐng)域,尤其是作為應(yīng)用于光學(xué)信息處理、光通信等的光學(xué)設(shè)備的核心技術(shù)。
權(quán)利要求
1.超平坦化既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面的方法,其特征在于其包括以下步驟用還原劑還原氧化物結(jié)晶表面;用酸或堿水溶液溶解經(jīng)還原的氧化物結(jié)晶表面;在大氣中對經(jīng)還原的表面溶解了的氧化物結(jié)晶進行熱處理,從而將既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面平坦化至原子水平。
2.ReCa4O(BO3)3系氧化物單晶薄膜的制備方法,其特征在于其包括以下步驟用還原劑還原具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶的表面,其中Re代表一個或多個稀土元素;用酸或堿水溶液溶解經(jīng)還原的氧化物單晶表面;在大氣中對經(jīng)還原的表面溶解了的氧化物單晶進行熱處理,從而將其表面超平坦化;在經(jīng)超平坦化的表面上外延生長ReCa4O(BO3)3薄膜。
3.具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶薄膜,其中Re是一個或多個稀土元素,其特征在于其是外延生長在具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶的表面上并被超平坦化的所述成分的薄膜。
4.權(quán)利要求3的氧化物單晶薄膜,其特征在于具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶薄膜是具有屬于點群m和空間群Cm的單斜雙軸結(jié)晶結(jié)構(gòu)的單晶薄膜。
5.權(quán)利要求3的氧化物單晶薄膜,其特征在于具有化學(xué)式ReCa4O(BO3)3表示的成分的氧化物單晶薄膜具有非線性光學(xué)性質(zhì)。
6.平坦化光入射/發(fā)射表面的方法,其特征在于該表面是既不溶于酸也不溶于堿的氧化物光學(xué)結(jié)晶,該方法包括以下步驟用還原劑還原氧化物光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面;用酸或堿水溶液溶解經(jīng)還原的氧化物光學(xué)結(jié)晶表面;在大氣中對經(jīng)還原的表面溶解了的氧化物光學(xué)結(jié)晶進行熱處理,從而將該光入射和發(fā)射表面平坦化,從而將該氧化物光學(xué)結(jié)晶的光入射/發(fā)射表面平坦化。
7.結(jié)晶缺陷評價方法,其特征在于其包括以下步驟用還原劑還原既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶表面;用蝕刻液溶解經(jīng)還原的氧化物結(jié)晶表面中的缺陷,以選擇性蝕刻所述缺陷,從而形成用于結(jié)晶缺陷評價的氧化物結(jié)晶的蝕坑。
全文摘要
本發(fā)明提供了超平坦化既不溶于酸也不溶于堿的氧化物結(jié)晶的方法,用該超平坦化方法制備ReCa
文檔編號C30B33/10GK1505701SQ0280671
公開日2004年6月16日 申請日期2002年3月15日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月16日
發(fā)明者鯉沼秀臣, 松本祐司, 佐佐木孝友, 森勇介, 吉村政志, 司, 孝友, 志 申請人:科學(xué)技術(shù)振興事業(yè)團