專利名稱：表面處理設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種表面處理設備，特別是一種用于形成一疏水層于待處理物的表面處理設備。
背景技術：
一般而言，一平面顯示器具有一蓋板或保護層，以便保護平面顯示器的內部結構不受外界因素的影響，進而延長產品的壽命。其中，有機發(fā)光顯示器是一種利用有機官能性材料(organic functionalmaterials)的自發(fā)光的特性來達到顯示效果的顯示器，依照有機官能性材料的分子量不同，可分為小分子有機發(fā)光顯示器(small moleculeOLED，SM-OLED)與高分子有機發(fā)光顯示器(polymer light-emittingdevice，PLED)兩大類。此外，依照有機發(fā)光顯示器的驅動方式也可分為主動驅動有機發(fā)光顯示器(AM-OLED)與被動驅動有機發(fā)光顯示器(PM-OLED)。而此有機官能性材料對外界的水氣特別敏感，所以有機發(fā)光顯示器的蓋板或保護層必須能夠防止外界的水氣進入其中。
如圖1所示，現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示器1包括一基板11、一第一電極12、一有機官能層13、一第二電極14以及一蓋板15。其中，基板11與第一電極12為透光材質，而第一電極12及第二電極14分別作為陽極與陰極；當施以一電流于有機發(fā)光顯示器1時，電洞由第一電極12注入，同時電子由第二電極14注入，此時，由于外加電場所造成的電位差，使得載子在有機官能層13中移動、相遇而產生再結合，而由電子與電洞結合所產生的激子(exciton)能夠激發(fā)有機官能層13中的發(fā)光分子，然后激發(fā)態(tài)的發(fā)光分子以光的形式釋放出能量，最后，蓋板15通過一封膠層151而黏設于基板11上，封膠層151通常為紫外光硬化膠，如環(huán)氧樹脂(epoxy)。此時，基板11、蓋板15及封膠層151形成一密閉空間(airtight space)，而第一電極12、有機官能層13及第二電極14設于密閉空間中。
然而，由于紫外光硬化膠中的主要成份環(huán)氧樹脂的分子結構與玻璃基板有較大的差異，因此其接著度較差；另外，因為紫外光硬化膠材料本身的限制，使得封膠層與基板及蓋板的接著度不佳，外界的水氣還是會從其接合處進入有機發(fā)光顯示器內，進而造成日后有機發(fā)光顯示器的品質劣化。除此之外，若蒸鍍設備中殘余的水氣蓄積在封膠層與蓋板及基板間，則由于蓋板和基板間的距離很小，因此水氣會因毛細現(xiàn)象而蓄積于此一死角，不易去除。
另一方面，為了減少封裝時平面顯示面板的各元件上的污染物，蓋板或基板于封裝前需要經過一清洗程序，例如是利用具有清潔液的濕式清洗設備所進行的濕式清洗程序，或是利用電漿或是紫外線照射處理的干式清洗設備所進行的干式清洗程序。但是，無論干式或濕式清潔程序，蓋板或基板表面皆會形成親水性的表面，使得空氣中的水氣或是揮發(fā)性的污染物容易沾附在蓋板或基板的表面上，進而影響封膠層于封裝時的接著力。而由于封膠層與蓋板的接著強度較差，因此水氣便容易從此界面進入有機發(fā)光顯示器中，造成顯示器品質的劣化。上述的問題同樣會存在如圖2所示的另一種現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示器2，其包括一基板11、一第一電極12、一有機官能層13、一第二電極14以及一保護層25。其中，保護層25與基板11構成一密閉空間，且第一電極12、有機官能層13及第二電極14位于密閉空間中，此時，水氣便容易從保護層25與基板11的接著界面進入有機發(fā)光顯示器2中，并造成前述的問題。
為解決上述問題，經本發(fā)明表面處理后的平面顯示面板，其具有一疏水層。例如但不限于，如圖3所示，有機發(fā)光顯示器3于蓋板15上形成有疏水層16。承上所述，本發(fā)明將揭露一種形成一疏水層于待處理物的「表面處理設備」。

發(fā)明內容
有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術的不足與缺陷，提供一種形成一疏水層于待處理物的表面處理設備。
為達上述目的，依本發(fā)明的表面處理設備至少包含一清洗單元、一疏水層形成單元、及一第一熱處理單元。在本發(fā)明中，待處理物先被傳送至清洗單元中，以進行一清洗程序來清潔待處理物的表面；接著，待處理物自清洗單元傳送至疏水層形成單元，且在疏水層形成單元中進行一疏水層形成程序以形成一疏水層于待處理物之上；最后，待處理物再自疏水層形成單元傳送至第一熱處理單元，以便干燥疏水層。上述的待處理物包含蓋板、基板、形成有發(fā)光區(qū)的基板或平面顯示面板。
本發(fā)明清洗單元、疏水層形成單元及第一熱處理單元可為一叢簇式(Cluster)配置或一直線式配置。
承上所述，因依本發(fā)明的表面處理設備是于現(xiàn)有的清洗單元之后再設置疏水層形成單元，所以，在進行清洗程序來處理待處理物的表面后，能夠于待處理物的親水性表面上形成一疏水層，以避免空氣中的水氣或是揮發(fā)性的污染物沾附在待處理物的表面上，進而改善封膠層或保護層于封裝時的接著力，故能夠降低水氣從此界面進入平面顯示面板的機會，以提升平面顯示面板的品質。


圖1為一示意圖，顯示現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示器的結構；圖2為一示意圖，顯示另一現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示器的結構；圖3為一示意圖，顯示具有疏水層的有機發(fā)光顯示器的結構；圖4A至4I為示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實施例的表面處理設備的示意圖，其為于待處理物上形成疏水層，其中待處理物為蓋板、形成有發(fā)光區(qū)的基板或平面顯示面板；圖5為一示意圖，顯示依本發(fā)明另一較佳實施例的表面處理設備的示意圖，其中清洗單元為一干式清洗單元；圖6為一示意圖，顯示依本發(fā)明另一較佳實施例的表面處理設備的示意圖，其中清洗單元為一濕式清洗單元；圖7為一示意圖，顯示依本發(fā)明另一較佳實施例的表面處理設備的示意圖，其中清洗單元為一干式清洗單元，且更利用傳送單元來傳送儲存有數(shù)個待處理物的儲存盒；圖8為一示意圖，顯示依本發(fā)明另一較佳實施例的表面處理設備的示意圖，其中清洗單元為一濕式清洗單元，且更利用傳送單元來傳送儲存有數(shù)個待處理物的儲存盒。
圖中符號說明1 有機發(fā)光顯示器11基板12第一電極13有機官能層14第二電極15蓋板151 封膠層16疏水層2 有機發(fā)光顯示器25保護層3 有機發(fā)光顯示器4 表面處理設備41清洗單元411 干式清洗單元413 濕式清洗單元42疏水層形成單元
43第一熱處理單元44第一裝載單元45第一卸載單元46第二熱處理單元47第二卸載單元48傳送單元49第二裝載單元5 表面處理設備6 表面處理設備7 表面處理設備8 表面處理設備具體實施方式
以下將參照相關附圖，說明依本發(fā)明較佳實施例的表面處理設備，其中相同的元件將以相同的參照符號加以說明。
請參照圖4A所示，依本發(fā)明較佳實施例的表面處理設備4包括一清洗單元41、一疏水層形成單元42以及一第一熱處理單元43。在本實施例中，表面處理設備4用以形成一疏水層于平面顯示器，其將待處理物依序經過清洗單元41、疏水層形成單元42及第一熱處理單元43。如前所述，平面顯示器依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及一蓋板，或是依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及至少一保護層；本實施例的待處理物是一蓋板15，其材質選自玻璃、塑料及金屬至少其中之一。熱處理單元用以使疏水層干燥、固化或交聯(lián)(crosslinking)。
在清洗單元41中，進行一清洗程序以清潔蓋板15的表面。在本實施例中，清洗單元41中所進行的清洗程序可以是干式清洗程序或是濕式清洗程序，例如，可以利用電漿或是紫外線照射處理的干式清洗單元來執(zhí)行干式清洗程序，或是利用具有清潔液的濕式清洗單元來進行濕式清洗程序。一般而言，當利用濕式清洗程序來清潔蓋板15的表面時，通常會接著先進行一次干燥程序以干燥蓋板15，然后才會將干燥后的蓋板15傳送至疏水層形成單元42。
在疏水層形成單元42中，進行一疏水層形成程序以形成一疏水層16于蓋板15上。在本實施例中，疏水層16可為一類鉆石薄膜或氟硅烷醇化合物，其由氟硅烷化合物水解而得；此外，在疏水層形成單元42中，疏水層16可以是利用沉浸、涂布、表面處理或噴淋方式所形成，且其形成于蓋板15的一表面上。另外，如圖4B所示，疏水層16亦可以形成蓋板15的局部。
接著，形成有疏水層16的蓋板15自疏水層形成單元42傳送至第一熱處理單元43中，并且第一熱處理單元43以干燥疏水層16。
此外，表面處理設備4除了可以將單一待處理物(如本實施例的蓋板15)依序傳送至清洗單元41、疏水層形成單元42及第一熱處理單元43以外，其亦可以將一儲存有數(shù)個待處理物的儲存盒(cassette)依序傳送至清洗單元41、疏水層形成單元42及第一熱處理單元43，以便同時針對儲存盒中的數(shù)個待處理物批處理，依序進行清洗程序、疏水層形成程序、及干燥疏水層的步驟。
需注意者，上述的待處理物亦可以是基板、形成有發(fā)光區(qū)的基板或整個平面顯示面板。如圖4C及4D所示，待處理物為形成有發(fā)光區(qū)的基板11，其中發(fā)光區(qū)包括一第一電極12、一有機官能層13以及一第二電極14，在本實施例中，疏水層16形成于基板11的局部(如圖4C所示)、或是與基板11形成一密閉空間，且第一電極12、有機官能層13以及第二電極14位于此密閉空間中(如圖4D所示)。
另外，如圖4E至4I所示，待處理物為整個平面顯示面板，其中圖4E至4G所示的平面顯示面板包含基板11、一發(fā)光區(qū)以及一蓋板15，圖4H及4I所示的平面顯示面板包含基板11、一發(fā)光區(qū)以及一保護層25。
如圖4E至4G所示，發(fā)光區(qū)包括一第一電極12、一有機官能層13以及一第二電極14，而蓋板15通過一封膠層而黏設于基板11上。在本實施例中，疏水層16形成于平面顯示面板的周圍，其覆蓋封膠層以及封膠層與基板11及蓋板15的接合界面處(如圖4E所示)；疏水層16亦可以僅形成于封膠層與基板11及蓋板15的接合界面處(如圖4F所示)；另外，疏水層16可以是包覆整個平面顯示面板(如圖4G所示)。
如圖4H及4I所示，發(fā)光區(qū)包括一第一電極12、一有機官能層13以及一第二電極14，而保護層25與基板11構成一密閉空間，且第一電極12、有機官能層13及第二電極14位于密閉空間中。在本實施例中，疏水層16形成保護層25上，以便覆蓋保護層25及其與基板11的接合界面處(如圖4H所示)；另外，疏水層16可以是包覆整個平面顯示面板(如圖4I所示)。
在實際的應用上，本發(fā)明的表面處理設備可以有許多形式的實施例，以下將參照圖5至圖8說明之。
如圖5所示，表面處理設備5包括一第一裝載單元44、一干式清洗單元411、一疏水層形成單元42、一第一熱處理單元43以及一第一卸載單元45。在本實施例中，先將一儲存有數(shù)個未清洗的待處理物的儲存盒傳送至第一裝載單元44，然后，利用機械手臂依序取出儲存盒中的待處理物，并傳送至干式清洗單元411以進行一干式清洗程序；接著，待處理物再被傳送至疏水層形成單元42以進行疏水層形成程序，然后傳送至第一熱處理單元43以干燥疏水層；最后，再利用機械手臂將形成有疏水層的待處理物自第一熱處理單元43移至第一卸載單元45，并將待處理物儲存于另一儲存盒中。在本實施例中，待處理物可以是蓋板、基板、形成有發(fā)光區(qū)的基板或平面顯示面板。
另外，表面處理設備5亦可以批次輸送一批待處理物，以便同時在數(shù)個待處理物上形成疏水層。如前所述，表面處理設備5可以將儲存有數(shù)個未清洗的待處理物的儲存盒依序傳送至第一裝載單元44、干式清洗單元411、疏水層形成單元42、第一熱處理單元43及第一卸載單元45，如此一來，便可以同時針對儲存盒中的數(shù)個待處理物批處理，依序進行清洗程序、疏水層形成程序、及干燥疏水層的步驟。
請參考圖6所示，依本發(fā)明另一較佳實施例的表面處理設備6包括一第一裝載單元44、一濕式清洗單元413、一第二熱處理單元46、一疏水層形成單元42、一第一熱處理單元43以及一第一卸載單元45。在本實施例中，由于所使用的清洗單元為一濕式清洗單元，其進行一濕式清洗程序以清潔待處理物，所以必須接著將待處理物傳送至第二熱處理單元46，以干燥經過濕式清洗程序的待處理物。接著，待處理物再依序被傳送至疏水層形成單元42及第一熱處理單元43，最后，再利用機械手臂將形成有疏水層的待處理物自第一熱處理單元43移至第一卸載單元45，并將待處理物儲存于另一儲存盒中。
如前所述，表面處理設備6亦可以傳送儲存有數(shù)個待處理物的儲存盒，以便同時進行數(shù)個待處理物的濕式清洗程序、干燥待處理物的步驟、疏水層形成程序、及干燥疏水層的步驟。
如圖7所示，依本發(fā)明另一較佳實施例的表面處理設備7包括一第一裝載單元44、一干式清洗單元411、一第二卸載單元47、一傳送單元48、一第二裝載單元49、一疏水層形成單元42、一第一熱處理單元43以及一第一卸載單元45。在本實施例中，先將一儲存有數(shù)個未清洗的待處理物的儲存盒傳送至第一裝載單元44，然后，利用機械手臂依序取出儲存盒中的待處理物，并傳送至干式清洗單元411以進行一干式清洗程序；其次，再利用機械手臂將經過干式清洗程序的待處理物自干式清洗單元411移至第二卸載單元47，并將待處理物儲存于另一儲存盒中；接著，傳送單元48將另一儲存盒連同其中的待處理物自第二卸載單元47傳送至第二裝載單元49；然后，再利用機械手臂自第二裝載單元49依序取出儲存盒中的待處理物，并傳送至疏水層形成單元42以進行疏水層形成程序，再接著傳送至第一熱處理單元43以干燥疏水層；最后，再利用機械手臂將形成有疏水層的待處理物自第一熱處理單元43移至第一卸載單元45，并將待處理物儲存于又一儲存盒中。
另外，表面處理設備7亦可以批次輸送一批待處理物，以便同時在數(shù)個待處理物上形成疏水層。如前所述，表面處理設備7可以將儲存有數(shù)個未清洗的待處理物的儲存盒依序輸送至第一裝載單元44、干式清洗單元411、第二卸載單元47、傳送單元48、第二裝載單元49、疏水層形成單元42、第一熱處理單元43及第一卸載單元45，如此一來，便可以同時針對儲存盒中的數(shù)個待處理物依序進行清洗程序、疏水層形成程序、及干燥疏水層的步驟。
請參照圖8所示，依本發(fā)明另一較佳實施例的表面處理設備8包括一第一裝載單元44、一濕式清洗單元413、一第二熱處理單元46、一第二卸載單元47、一傳送單元48、一第二裝載單元49、一疏水層形成單元42、一第一熱處理單元43以及一第一卸載單元45。在本實施例中，由于所使用的清洗單元為一濕式清洗單元413，其進行一濕式清洗程序以清潔待處理物，所以必須接著將待處理物傳送至第二熱處理單元46，以干燥經過濕式清洗程序的待處理物。接著，再利用機械手臂將經過干燥的待處理物自第二熱處理單元46傳送至第二卸載單元47，并將待處理物儲存于另一儲存盒中；接著，傳送單元48將此儲存盒連同其中的待處理物自第二卸載單元47傳送至第二裝載單元49；然后，待處理物再依序被傳送至疏水層形成單元42及第一熱處理單元43。最后，再利用機械手臂將形成有疏水層的待處理物自第一熱處理單元43移至第一卸載單元45，并將待處理物儲存于另一儲存盒中。
另外，表面處理設備8亦可以批次傳送一批待處理物，以便同時在數(shù)個待處理物上形成疏水層。如前所述，表面處理設備8可以將儲存有數(shù)個未清洗的待處理物的儲存盒依序輸送至第一裝載單元44、濕式清洗單元413、第二熱處理單元46、第二卸載單元47、傳送單元48、第二裝載單元49、疏水層形成單元42、第一熱處理單元43及第一卸載單元45，如此一來，便可以同時針對儲存盒中的數(shù)個待處理物批處理，依序進行清洗程序、疏水層形成程序、及干燥疏水層的步驟。
綜上所述，由于依本發(fā)明的表面處理設備于現(xiàn)有的清洗單元之后再設置疏水層形成單元，所以，在進行清洗程序來處理待處理物的表面后，能夠利用疏水層形成單元于待處理物的親水性表面上形成一疏水層，以避免空氣中的水氣或是揮發(fā)性的污染物沾附在待處理物的表面上，進而改善封膠層或保護層于封裝時的接著力，故能夠降低水氣從此界面進入平面顯示面板的機會，以提升顯示面板的品質。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對其進行的等效修改或變更，均應包含于權利要求書的范圍中。
權利要求
1.一種形成一疏水層于待處理物的表面處理設備，其特征在于，至少包含一清洗單元，其進行一清洗程序以清潔一待處理物的表面；一疏水層形成單元，其進行一疏水層形成程序以形成一疏水層于待處理物之上；以及一第一熱處理單元。
2.如權利要求1所述的表面處理設備，其中，待處理物為蓋板、基板、形成有發(fā)光區(qū)的基板或平面顯示面板，其中平面顯示面板依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及一蓋板，或是依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及至少一保護層。
3.如權利要求1所述的表面處理設備，其中更包含一第一裝載單元，其用以儲存未清洗的待處理物，且待處理物自第一裝載單元傳送至清洗單元；以及一第一卸載單元，其用以儲存形成有疏水層的待處理物，且待處理物自第一熱處理單元傳送至第一卸載單元。
4.如權利要求3所述的表面處理設備，其中更包含一第二卸載單元，其用以儲存經過清洗程序的待處理物；一傳送單元；以及一第二裝載單元，傳送單元將待處理物自第二卸載單元傳送至第二裝載單元，而待處理物更自第二裝載單元傳送至疏水層形成單元。
5.如權利要求4所述的表面處理設備，其中，待處理物儲存于一設置于第二卸載單元的儲存盒中，而傳送單元將儲存盒自第二卸載單元傳送至第二裝載單元。
6.如權利要求1所述的表面處理設備，其中，于清洗單元與疏水層形成單元之間，更包含一第二熱處理單元，其干燥經過清洗程序的待處理物。
7.如權利要求1所述的表面處理設備，其中，疏水層為一氟硅烷醇化合物或類鉆石薄膜。
8.如權利要求1所述的表面處理設備，其中，疏水層形成程序是以沉浸、涂布、沉積、表面處理或噴淋方式形成疏水層。
9.如權利要求1所述的表面處理設備，其中，清洗單元、疏水層形成單元及第一熱處理單元為一叢簇式配置或一直線式配置。
10.一種形成一疏水層于待處理物的表面處理設備，其待處理物儲存于一儲存盒中，其特征在于，該表面處理設備至少包含一清洗單元，儲存盒傳送至清洗單元，清洗單元進行一清洗程序以清潔儲存于儲存盒中的待處理物的表面；一疏水層形成單元，儲存盒傳送至疏水層形成單元，疏水層形成單元進行一疏水層形成程序以形成一疏水層于儲存盒中的待處理物之上；以及一第一熱處理單元，儲存盒傳送至第一熱處理單元。
11.如權利要求10所述的表面處理設備，其中，待處理物為蓋板、基板、形成有發(fā)光區(qū)的基板或平面顯示面板，其中平面顯示面板依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及一蓋板，或是依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及至少一保護層。
12.如權利要求10所述的表面處理設備，其中更包含一第一裝載單元，其用以儲存未清洗的待處理物及儲存有待處理物的儲存盒，且儲存盒自第一裝載單元傳送至清洗單元；以及一第一卸載單元，其用以儲存形成有疏水層的待處理物及儲存有待處理物的儲存盒，且儲存盒自第一熱處理單元傳送至第一卸載單元。
13.如權利要求12所述的表面處理設備，其中更包含一第二卸載單元，其用以儲存經過清洗程序的待處理物及儲存有待處理物的儲存盒；一傳送單元；以及一第二裝載單元，傳送單元將儲存盒自第二卸載單元傳送至第二裝載單元，而儲存盒更自第二裝載單元傳送至疏水層形成單元。
14.如權利要求10所述的表面處理設備，其中，于清洗單元與疏水層形成單元之間，更包含一第二熱處理單元，儲存盒自清洗單元傳送至第二熱處理單元，第二熱處理單元干燥經過清洗程序的待處理物。
15.如權利要求10所述的表面處理設備，其中，疏水層為一氟硅烷醇化合物或類鉆石薄膜。
16.如權利要求10所述的表面處理設備，其中，疏水層形成程序以沉浸、涂布、沉積、表面處理或噴淋方式形成疏水層。
17.如權利要求10所述的表面處理設備，其中，清洗單元、疏水層形成單元及第一熱處理單元為一叢簇式配置或一直線式配置。
18.一種形成一疏水層于待處理物的表面處理設備，其特征在于，至少包含一第一裝載單元，其用以儲存未清洗的待處理物；一清洗單元，其進行一清洗程序以清潔待處理物的表面；一疏水層形成單元，其進行一疏水層形成程序以形成一疏水層于待處理物之上；一第一熱處理單元；以及一第一卸載單元。
19.如權利要求18所述的表面處理設備，其中，待處理物為蓋板、基板、形成有發(fā)光區(qū)的基板或平面顯示面板，其中平面顯示面板依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及一蓋板，或是依序包含一基板、至少一發(fā)光區(qū)以及至少一保護層。
20.如權利要求18所述的表面處理設備，其中更包含一第二卸載單元，其用以儲存經過清洗程序的待處理物；一傳送單元；以及一第二裝載單元，傳送單元將待處理物自第二卸載單元傳送至第二裝載單元，而待處理物更自第二裝載單元傳送至疏水層形成單元。
21.如權利要求20所述的表面處理設備，其中，待處理物儲存于一設置于第二卸載單元的儲存盒中，而傳送單元將儲存盒自第二卸載單元傳送至第二裝載單元。
22.如權利要求18所述的表面處理設備，其中，于清洗單元與疏水層形成單元之間，更包含一第二熱處理單元，其干燥經過清洗程序的待處理物。
23.如權利要求18所述的表面處理設備，其中，疏水層為一氟硅烷醇化合物或類鉆石薄膜。
24.如權利要求18所述的表面處理設備，其中，疏水層形成程序以沉浸、涂布、沉積、表面處理或噴淋方式形成疏水層。
25.如權利要求18所述的表面處理設備，其中，清洗單元、疏水層形成單元及第一熱處理單元為一叢簇式配置或一直線式配置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種形成一疏水層于待處理物的表面處理設備，至少包含一清洗單元、一疏水層形成單元以及一第一熱處理單元，欲進行表面處理的待處理物依序被傳送至清洗單元、疏水層形成單元及第一熱處理單元；清洗單元進行一清洗程序以清潔待處理物的表面，疏水層形成單元進行一疏水層形成程序以形成一疏水層于待處理物之上，第一熱處理單元干燥疏水層。
文檔編號H05B33/10GK1625310SQ20031011877
公開日2005年6月8日 申請日期2003年12月2日 優(yōu)先權日2003年12月2日
發(fā)明者鄭同昇, 蘇怡帆, 林燕華, 段繼賢 申請人:錸寶科技股份有限公司