專利名稱：電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及提高電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的耐濕性的密封裝置及密封裝置的形成方法。
背景技術(shù)：
近年來(lái)的有機(jī)電場(chǎng)發(fā)光組件(Organic Electro LuminescenceDevice以下稱為“有機(jī)EL組件”)為一種自發(fā)光型的發(fā)光組件。使用該有機(jī)EL組件的有機(jī)EL顯示裝置，已成為取代CRT或LCD的新的顯示裝置而受到矚目。
由于該有機(jī)EL組件不耐水，因此在有機(jī)EL顯示面板上，有提出加裝涂敷有干燥劑的金屬蓋或玻璃蓋的罩蓋的方案。圖8為該種現(xiàn)有的有機(jī)EL顯示裝置的剖面圖。
組件玻璃基板70的表面具有形成有多個(gè)有機(jī)EL組件71顯示區(qū)域。該組件玻璃基板70，使用由環(huán)氧樹脂等構(gòu)成的密封樹脂75與用于組件密封的密封玻璃基板80貼合。在密封玻璃基板80上，與上述顯示區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域通過(guò)蝕刻而形成有凹部81(以下稱的為腔部81)，在該腔部81的底部涂敷有用來(lái)吸收水分等濕氣的干燥劑層82。
在腔部81的底部涂敷干燥劑層82的原因，是為了確保干燥劑層82與有機(jī)EL組件71之間的空隙，避免干燥劑層82與有機(jī)EL組件71接觸，而防止對(duì)有機(jī)EL組件71造成損傷。此種有機(jī)EL顯示裝置記載在以下的專利文獻(xiàn)1中。
專利文獻(xiàn)1特開2001-102166號(hào)公報(bào)。
有機(jī)EL顯示面板，必須確保其耐濕性及對(duì)溫度變化的可靠性。因此，本發(fā)明人對(duì)有機(jī)EL面板實(shí)施反復(fù)升溫、降溫的溫度循環(huán)試驗(yàn)。結(jié)果，出現(xiàn)干燥劑層的一部分從密封玻璃基板剝落、浮起，或出現(xiàn)干燥劑層從中途斷裂，致使該斷裂的干燥劑片，夾置在干燥劑層與組件玻璃基板之間，而導(dǎo)致有機(jī)EL組件破損的情況。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明人為防止上述干燥劑層82的剝落或斷裂，經(jīng)仔細(xì)研討結(jié)果，而找出其產(chǎn)生原因。即，在面板溫度迅速升高后又下降的過(guò)程中，熱膨脹率大于密封玻璃基板80的干燥劑層82會(huì)產(chǎn)生極大的收縮。另一方面，由于密封玻璃基板80的熱膨脹率小，因此兩者間的熱膨脹率的差異，會(huì)在干燥劑層82的粘接面產(chǎn)生應(yīng)力。當(dāng)該應(yīng)力大于干燥劑層82與密封玻璃基板80的接合力時(shí)便會(huì)產(chǎn)生干燥劑層82的剝落或斷裂。因此，只要提高干燥劑層82與密封玻璃基板80的接合力，便可避免產(chǎn)生干燥劑層82的剝落或斷裂。
因此，本發(fā)明在對(duì)密封玻璃基板的表面施加粗面化處理使其形成凹凸后，再形成干燥劑層。通過(guò)該粗面化處理，可發(fā)揮錨固效果，以提高干燥劑層與密封玻璃基板的接合性，防止剝落等情況。
粗面化處理的方法，例如有(1)以配列成格子狀的多個(gè)抗蝕膜圖案做為掩模并以氫氟酸蝕刻密封玻璃基板的方法；(2)以氫氟酸蝕刻密封玻璃基板，并在進(jìn)行蝕刻途中，切換成在氫氟酸中添加有可使腐蝕生成物的溶解度明顯下降的物質(zhì)(例如，NH4F)的蝕刻液的方法(化學(xué)研磨法)；(3)通過(guò)噴砂法噴蝕密封玻璃基板的方法(物理研磨法)；(4)使用氫氟酸蝕刻密封玻璃基板形成腔部，然后再以噴砂法形成凹凸的方法。
具體地說(shuō)，一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置，具有在表面具有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置在前述密封玻璃基板的表面的干燥劑層，其特征在于，所述干燥劑層配置于經(jīng)由粗面化處理在表面形成凹凸的所述密封玻璃基板的表面上。
一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置，具有在表面具有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置在所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層，其特征在于，所述干燥劑層配置于所述密封玻璃基板的表面上，該密封玻璃基板的表面通過(guò)蝕刻在表面形成腔部且經(jīng)由粗面化處理而在該腔部的底部形成凹凸。
一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及粘接在所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成以預(yù)定的間隔設(shè)置的多個(gè)抗蝕膜圖案的工序；通過(guò)以所述多個(gè)抗蝕膜圖案做為掩模來(lái)蝕刻所述密封玻璃基板表面，而形成底面經(jīng)過(guò)粗面化的腔部的工序；在所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。
一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的預(yù)定區(qū)域具有開口部的抗蝕膜圖案的工序；以所述抗蝕膜圖案做為掩模并使用氫氟酸蝕刻所述密封玻璃基板的表面，接著，再使用在氫氟酸中添加可明顯降低腐蝕生成物的溶解度的物質(zhì)而成的蝕刻液進(jìn)行蝕刻，而形成底面經(jīng)過(guò)粗面化的腔部的工序；于所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。
一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括有；在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的預(yù)定區(qū)域具有開口部的抗蝕膜圖案的工序；以所述抗蝕膜圖案做為掩模并使用噴砂法蝕刻所述密封玻璃基板的表面，以形成腔部，并將該腔部的底面粗面化的工序；于所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。
一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的預(yù)定區(qū)域具有開口部的抗蝕膜圖案的工序；以所述抗蝕膜圖案做為掩模蝕刻所述密封玻璃基板的表面以形成腔部的工序；通過(guò)噴砂法使所述腔部的底面粗面化的工序；于所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。


圖1(a)至(e)為本發(fā)明的第1實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造過(guò)程剖面圖。
圖2(a)及(b)為本發(fā)明的第1實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的平面圖。
圖3(a)至(e)為本發(fā)明的第2實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的工序剖面圖。
圖4(a)至(d)為本發(fā)明的第3實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造過(guò)程剖面圖。
圖5(a)至(e)為本發(fā)明的第4實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造過(guò)程剖面圖。
圖6為顯示有機(jī)EL顯示裝置的顯示像素附近的平面圖。
圖7(a)及(b)為機(jī)EL顯示裝置的顯示像素的剖面圖。
圖8為現(xiàn)有電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的剖面圖。
符號(hào)說(shuō)明10基板；12柵極絕緣膜；15層間絕緣膜；17平坦化絕緣膜；66平坦化絕緣膜；30第一TFT；33主動(dòng)層；33d漏極；43d漏極；33s源極；43s源極；36漏極電極；40第二TFT；41柵極電極；43主動(dòng)層；43c溝道；51柵極信號(hào)線；52漏極信號(hào)線；53驅(qū)動(dòng)電源線；60有機(jī)EL組件；71有機(jī)EL組件；201有機(jī)EL組件；61陽(yáng)極；62空穴輸送層；63發(fā)光層；64電子輸送層；65陰極；70組件玻璃基板；200組件玻璃基板；75密封樹脂；80密封玻璃基板；81腔部；82干燥劑層；82A干燥劑片；100密封玻璃基板；101c密封玻璃基板；101d密封玻璃基板；101e密封玻璃基板；101a抗蝕膜圖案；101b抗蝕膜圖案；102鉻掩模層；103腔部；110腔部；120腔部；140腔部；104凹凸；112凹凸；121凹凸；141凹凸；105干燥劑層；113干燥劑層；122干燥劑層；142干燥劑層；111腐蝕生成物；115顯示像素；130微小徑噴嘴；131砂；202密封樹脂。
具體實(shí)施例方式
接下來(lái)，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。
第1實(shí)施方式圖1順序表示出本發(fā)明的第1實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造過(guò)程(a)至(e)的剖面圖。圖2為電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的平面圖，圖2(a)的X-X線剖面圖為圖1(a)，圖2(b)的Y-Y線剖面圖為圖1(e)。
以下，說(shuō)明與第1實(shí)施方式有關(guān)的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法。首先，如圖1(a)、圖2(a)所示，準(zhǔn)備厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。于密封玻璃基板100的腔部的預(yù)定的形成區(qū)域(以下稱之為腔部預(yù)定形成區(qū)域)中形成配列成格子狀的多個(gè)抗蝕膜圖案101a。然后，在腔部預(yù)定形成區(qū)域的周邊形成環(huán)狀抗蝕膜圖案101b。在抗蝕膜圖案101a、101b的底層優(yōu)選地形成鉻掩模層102。其理由為了在后述的密封玻璃基板100蝕刻時(shí)，能夠提高掩模的耐蝕性。此外，多個(gè)抗蝕膜圖案101a的寬度以及間隔，要形成的凹凸的高度的2倍左右，優(yōu)選為例如在100μm左右。
接著，如圖1(b)所示，以抗蝕膜圖案101a、101b，鉻掩模層102做為掩模，用氫氟酸蝕刻密封玻璃基板100的表面。由于濕蝕刻的原因，蝕刻以等方的方式進(jìn)行，會(huì)在抗蝕膜圖案101a、101b，鉻掩模層102的下方進(jìn)行側(cè)蝕刻。即，在鄰接的抗蝕膜圖案101a、101a之間的區(qū)域形成凹部，而在抗蝕膜圖案101a所在的區(qū)域形成凸部。
然后，如圖1(c)所示，繼續(xù)進(jìn)行蝕刻，而形成腔部103。腔部103的深度例如為0.1mm～0.3mm?？刮g膜圖案101a，通過(guò)側(cè)蝕刻的進(jìn)行而剝落去除，在腔部103的底部形成反映多個(gè)抗蝕膜圖案101a的多個(gè)的凹凸104。凹凸104的高低差h視抗蝕膜圖案101a的疏稀而定，其高低差大于1μm而小于腔部103的深度。但優(yōu)選為在1μm～300μm之間。而最優(yōu)選為1μm～50μm。此有利于獲得后述的錨固效果。
接著，如圖1(d)所示，去除殘存的抗蝕膜圖案101b及鉻掩模層102。然后，在腔部103涂敷形成用來(lái)吸收水分的干燥劑層105。干燥劑層105，例如在將粉末狀的氧化鈣、氧化鋇等以及做為粘合劑的樹脂溶解于溶劑的狀態(tài)下，涂敷于腔部103的底部，再通過(guò)UV照射或加熱處理使其硬化，使其與腔部103的密封玻璃基板100接合。由于通過(guò)上述的粗面化處理凹凸104形成于腔部103的底部(即，密封玻璃基板100的表面)，因此可通過(guò)錨固效果，提高干燥劑層105的接合力，防止干燥劑層105的剝離等情形。
然后，如圖1(e)所示，準(zhǔn)備組件玻璃基板200。組件玻璃基板200(顯示面板)的厚度約為0.7mm。組件玻璃基板200具有顯示區(qū)域。該顯示區(qū)域有多個(gè)像素配置成矩陣狀，且各像素中配置有EL組件201。該像素的詳細(xì)構(gòu)造如后文所述。接著，在N2氣體環(huán)境的處理室內(nèi)，使用由環(huán)氧樹脂所形成的密封樹脂202將組件玻璃基板200與密封玻璃基板100予以貼合。
第二實(shí)施方式圖3順序表示出本發(fā)明的第二實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造過(guò)程的剖面圖。此外，圖中，與圖1相同的構(gòu)成部分標(biāo)示相同的符號(hào)。
首先，如圖3(a)所示，準(zhǔn)備厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。并形成在密封玻璃基板100的腔部的預(yù)定形成區(qū)域(以下稱之為腔部預(yù)定形成區(qū)域)具有開口部的抗蝕膜圖案101c?？刮g膜圖案101c為環(huán)狀的抗蝕膜圖案，形成于腔部預(yù)定形成區(qū)域的周邊。與第一實(shí)施方式相同，優(yōu)選為在抗蝕膜圖案101c的底層形成鉻掩模層102。此外，也可用耐氫氟酸膜來(lái)形成圖案。
接著，如圖3(b)所示，以抗蝕膜圖案101c、鉻掩模層102做為掩模，用氫氟酸蝕刻密封玻璃基板100的表面，形成腔部110。腔部110的深度在0.1mm～0.3mm的程度。接著，使用在氫氟酸中添加可明顯降低腐蝕生成物(例如氟硅氧化物)的溶解度的物質(zhì)(例如NH4F)而成的蝕刻液進(jìn)行蝕刻。
由此，如圖3(c)所示，腐蝕生成物111(例如氟硅氧化物)附著于腔部110的底部，且腐蝕生成物111的溶解度明顯下降。未附著腐蝕生成物111的部分，密封玻璃基板100的蝕刻速度較為快速。如此，即可在腔部110的底部形成凹凸112。此凹凸的112的高低差，可通過(guò)改變切換成添加明顯降低腐蝕生成物111的溶解度的物質(zhì)而成的蝕刻液后的蝕刻時(shí)間來(lái)控制，但為獲得錨固效果，凹凸的高低差大于1μm而小于腔部110的深度。而優(yōu)選為1μm～300μm，但最優(yōu)選為1μm～50μm。
接著，如圖3(d)所示，去除殘存的抗蝕膜圖案101c以及鉻掩模層102。接著，在該腔部110涂敷形成用來(lái)吸收水分等濕氣的干燥劑層113。干燥劑層113，例如在將粉末狀的氧化鈣、氧化鋇等以及做為粘合劑的樹脂溶解于溶劑的狀態(tài)下，涂敷于腔部110的底部，再通過(guò)UV照射或加熱處理使其硬化，使其與腔部110的密封玻璃基板100接合。由于凹凸112通過(guò)上述的粗面化處理而形成于腔部110的底部(即，密封玻璃基板100的表面)上，因此通過(guò)錨固效果，可提高干燥劑層113的接合力，防止干燥劑層113的剝落等情形。
然后，如圖3(e)所示，準(zhǔn)備組件玻璃基板200。并在N2氣體環(huán)境的處理室內(nèi)，使用由環(huán)氧樹脂等所形成的密封樹脂202將組件玻璃基板200與密封玻璃基板100予以貼合。
第三實(shí)施方式圖4順序表示出本發(fā)明的第三實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造過(guò)程的剖面圖。此外，圖中與圖1相同的構(gòu)成部分標(biāo)示相同的符號(hào)。
首先，如圖4(a)所示，準(zhǔn)備厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。并形成在密封玻璃基板100的腔部的預(yù)定形成區(qū)域(以下稱的為腔部預(yù)定形成區(qū)域)具有開口部的抗蝕膜圖案101d?？刮g膜圖案101d為環(huán)狀的抗蝕膜圖案，形成于腔部預(yù)定形成區(qū)域的周邊。可在抗蝕膜圖案101d的下方形成鉻掩模層102。此外，也可用耐氫氟酸膜來(lái)形成圖案。
如圖4(b)所示，使用噴砂法蝕刻密封玻璃基板100的表面來(lái)形成腔部120。與此同時(shí)，在腔部120底部的密封玻璃基板100的表面上形成凹凸121。噴砂法為一面使微小徑噴嘴130沿著玻璃密封基板100移動(dòng)，一面利用高壓使砂131從微小徑噴嘴130的噴出口噴出，利用砂131的物理沖擊對(duì)密封玻璃基板100的表面進(jìn)行蝕刻的方法。此外，若能夠精確設(shè)定微小徑噴嘴130的移動(dòng)范圍的位置，即可省略抗蝕膜圖案101d以及鉻掩模層102的掩模處理。
另外，凹凸121的高低差，可依砂131的種類、粒徑、微小徑噴嘴130的砂噴出壓力來(lái)加以控制，但為提高錨固效果，與前述相同，優(yōu)選為將其設(shè)定在1μm至300μm之間，但最優(yōu)選為設(shè)定在1μm至50μm之間。
然后，圖4(c)所示，在該腔部120的底部(經(jīng)過(guò)蝕刻的密封玻璃基板100的表面)涂敷形成用來(lái)吸收水分等濕氣的干燥劑層122。干燥劑層122，例如在將粉末狀的氧化鈣、氧化鋇等以及做為粘合劑的樹脂溶解于溶劑的狀態(tài)下，涂敷于腔部120的底部，接著再通過(guò)UV照射或加熱處理使其硬化，使之與腔部120的密封玻璃基板100接合。由于凹凸121通過(guò)上述粗面化處理而形成于腔部120的底部，因此可通過(guò)錨固效果，提高干燥劑層122的接合力，防止干燥劑層122的剝落等情況。
然后，如圖4(d)所示準(zhǔn)備組件玻璃基板200。并在N2氣體環(huán)境的處理室內(nèi)，使用由環(huán)氧樹脂等所形成的密封樹脂202將組件玻璃基板200與密封玻璃基板100予以貼合。
第四實(shí)施方式圖5順序表示出本發(fā)明的第三實(shí)施方式的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造過(guò)程的剖面圖。此外，圖中與圖1相同的構(gòu)成部分標(biāo)示相同符號(hào)。
首先，如圖5(a)所示，準(zhǔn)備厚度0.7mm程度的密封玻璃基板100。并形成在密封玻璃基板100的腔部的預(yù)定形成區(qū)域(以下稱之為腔部預(yù)定形成區(qū)域)具有開口部的抗蝕膜圖案101e。抗蝕膜圖案101e為環(huán)狀的抗蝕膜圖案，形成于腔部預(yù)定形成區(qū)域的周邊。可在抗蝕膜圖案101e的下方形成鉻掩模層102。
其次，如圖5(b)所示，將抗蝕膜圖案101e、鉻掩模層102做為掩模，用氫氟酸蝕刻密封玻璃基板100的表面，形成腔部140。腔部140的深度約在0.1mm～0.3mm的程度。
圖5(c)所示，使用噴砂法，進(jìn)一步蝕刻密封玻璃基板100的表面，在腔部140底部的密封玻璃基板100的表面形成凹凸141。
凹凸141的高低差，與第三實(shí)施方式相同，可通過(guò)砂(sand)131的種類、粒徑、微小徑噴嘴130的砂噴出壓力來(lái)加以控制，但為提高錨固效果，與前述相同，可將其設(shè)定在1μm～300μm之間，但最好設(shè)定在1μm～50μm之間。
如圖5(d)所示，在該腔部140的底部涂敷形成用來(lái)吸收水分等濕氣的干燥劑層142。干燥劑層142，例如在將粉末狀的氧化鈣、氧化鋇等以及做為粘合劑的樹脂溶解于溶劑的狀態(tài)下，涂敷于腔部140的底部，接著再通過(guò)UV照射或加熱處理使其硬化，使之與腔部140的密封玻璃基板100接合。腔部140的底部，通過(guò)上述粗面化處理，形成凹凸141，因此通過(guò)錨固效果，可提高干燥劑層142的接合力，并防止干燥劑層142產(chǎn)生剝落等現(xiàn)象。
如圖5(e)所示準(zhǔn)備組件玻璃基板200。并在N2氣體環(huán)境下的處理室內(nèi)，使用由環(huán)氧樹脂所形成的密封樹脂202將組件玻璃基板200與密封玻璃基板100予以貼合。
圖6表示有機(jī)EL顯示裝置的顯示像素附近的平面圖，圖7(a)表示沿著圖6的A-A線的剖面圖，圖7(b)表示沿著圖6的B-B線的剖面圖。
如圖6與圖7所示，在由柵極信號(hào)線51與漏汲信號(hào)線52所圍成的區(qū)域中形成顯示像素115，使顯示像素115配置成矩陣狀。
在該顯示像素115中，配置有本身為自發(fā)光組件的有機(jī)EL組件60、用來(lái)控制對(duì)該有機(jī)EL組件60供給電流時(shí)序的開關(guān)用TFT30、使電流供給至該有機(jī)EL組件60的驅(qū)動(dòng)用TFT40及保持電容。此外，有機(jī)EL組件60，由作為第一電極的陽(yáng)極61、發(fā)光材料所形成的發(fā)光組件層以及作為第二電極的陰極65所構(gòu)成。
即，兩信號(hào)線51，52的交點(diǎn)附近具有作為開關(guān)用TFT的第一TFT30，該TFT30的源極33s除了兼做為與保持電容電極線54之間形成電容的電容電極55之外，也與作為EL組件驅(qū)動(dòng)用TFT的第二TFT40的柵極電極41連接，第二TFT的源極43s與有機(jī)EL組件60的陽(yáng)極61連接，另一方的漏汲43d則與驅(qū)動(dòng)電源線53連接，其中驅(qū)動(dòng)電源線53作為供給電流給有機(jī)EL組件60的電流源。
此外，保持電容電極線54與柵極信號(hào)線51平行配置。該保持電容電極線54由鉻等所形成，而隔著柵極絕緣膜12和電容電極55之間形成可蓄積電荷的電容，該電容電極55與TFT的源極33s連接。該保持電容，為了保持施加于第二TFT40的柵極電極41的電壓而設(shè)置。
如圖7所示，有機(jī)EL顯示裝置，在玻璃或合成樹脂等所形成的基板、或具有導(dǎo)電性的基板、或是半導(dǎo)體基板等基板10上依序疊層形成TFT及有機(jī)EL組件。但是，使用具有導(dǎo)電性的基板以及半導(dǎo)體基板做為基板10時(shí)，先在這些基板10上形成SiO2或SiN等絕緣膜，再在其上形成第一、第二TFT及有機(jī)EL組件。不論第一或第二TFT，均為頂柵(topgate)型構(gòu)造者，也即其柵極電極隔著柵極絕緣膜而位于主動(dòng)層的上方。
首先，針對(duì)作為開關(guān)用TFT的第一TFT30進(jìn)行說(shuō)明。
如圖7(a)所示，通過(guò)CVD法等，使非晶硅膜(以下，稱之為“a-Si膜”)成膜于石英玻璃、無(wú)堿玻璃等所形成的絕緣性基板10上，并將激光照射于該a-Si膜上使其熔融再結(jié)晶化而形成多晶硅膜(以下，稱之為“p-Si膜”)，而以此做為主動(dòng)層33。在該主動(dòng)層33之上，形成SiO2膜或SiN膜的單層或疊層體做為柵極絕緣膜12。再于其上方配置由Cr、Mo等高熔點(diǎn)金屬所形成兼做為柵極電極31的柵極信號(hào)線51及由Al所形成的漏汲信號(hào)線52，以及作為有機(jī)EL組件的驅(qū)動(dòng)電源的由Al所形成的驅(qū)動(dòng)電源線53。
然后，在柵極絕緣膜12以及主動(dòng)層33上的整個(gè)平面內(nèi)，形成依SiO2膜、SiN膜以及SiO2膜的順序疊層而成的層間絕緣膜15，并設(shè)置漏汲電極36，該漏汲電極36在對(duì)應(yīng)漏汲33d而設(shè)的接觸孔中填充Al等金屬而形成，另外還在整個(gè)平面內(nèi)形成由有機(jī)樹脂所形成的使表面平坦的平坦化絕緣膜17。
接著，說(shuō)明有機(jī)EL組件的作為驅(qū)動(dòng)用TFT的第二TFT40。如圖7(b)所示，在石英玻璃、無(wú)堿玻璃等形成的絕緣性基板10上依序形成將激光照射于a-Si膜而結(jié)晶化形成的主動(dòng)層43；柵極絕緣膜12；以及由Cr、Mo等高熔點(diǎn)金屬所形成的柵極電極41，該主動(dòng)層43中，設(shè)有溝道43c；以及于該溝道43c兩側(cè)設(shè)置的源極43s以及漏汲43d。然后，于柵極絕緣膜12以及主動(dòng)層43上的整個(gè)平面內(nèi)，形成按SiO2膜、SiN膜以及SiO2膜的順序疊層而成的層間絕緣膜15，并配置驅(qū)動(dòng)電源線53，該驅(qū)動(dòng)電源線53在對(duì)應(yīng)漏汲43d設(shè)置的接觸孔中填充Al等金屬且與驅(qū)動(dòng)電源連接。另外還在整個(gè)平面內(nèi)具有由例如有機(jī)樹脂所形成的使表面平坦的平坦化絕緣膜17。接著，于與該平坦化絕緣膜17的與源極43s對(duì)應(yīng)的位置上形成接觸孔，并將透過(guò)該接觸孔與源極43s接觸的由ITO(Indium Tin Oxide；氧化銦錫)形成的透明電極、即有機(jī)EL組件的陽(yáng)極61設(shè)置于平坦化絕緣膜17上。該陽(yáng)極61呈島狀分離形成于每一顯示像素。
有機(jī)EL組件60，其構(gòu)成為由ITO等透明電極所形成的陽(yáng)極61、由MTDATA(4，4-bis(3-methylphenylphenylamino)biphenyl；4，4-雙(3-甲基苯基苯胺基)聯(lián)苯)所形成的第一空穴輸送層、由TPD(4，4，4-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylain；4，4，4-參(3-甲苯基苯胺基)三苯胺)所形成的第二空穴輸送層所形成的空穴輸送層62、包含酮(Quinacridone)衍生物的Bebq2(10-benzo[h]quinolinol beryllium complex；10-苯并[h]羥基喹啉配位化合物)所形成的發(fā)光層63、以及由Bebq2所形成的電子輸送層64、由鎂-銦合金或鋁、或鋁合金所形成的陰極65的順序疊層而成。
此外，平坦化絕緣膜17上形成有第二平坦化絕緣膜66。但陽(yáng)極61上構(gòu)成為除去第二平坦化絕緣66。
有機(jī)EL組件60中，從陽(yáng)極61注入的空穴與從陰極65注入的電子在發(fā)光層內(nèi)部再結(jié)合，激發(fā)形成發(fā)光層的有機(jī)分子而產(chǎn)生激發(fā)子。在該激發(fā)子放射鈍化的過(guò)程中由發(fā)光層放出光，該光則由透明的陽(yáng)極61透過(guò)透明絕緣基板放射到外部而發(fā)光。
根據(jù)本發(fā)明，由于在進(jìn)行粗面化處理使密封玻璃基板的表面形成凹凸后，才形成干燥劑層，因此可通過(guò)粗面化處理發(fā)揮錨固效果，提高干燥劑層對(duì)密封玻璃基板的接合力，防止剝離等情況。由此即可大幅提高有機(jī)EL面板對(duì)溫度循環(huán)的可靠性。
權(quán)利要求
1.一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置，具有在表面具有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置在前述密封玻璃基板的表面的干燥劑層，其特征在于，所述干燥劑層配置于經(jīng)由粗面化處理在表面形成凹凸的所述密封玻璃基板的表面上。
2.一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置，具有在表面具有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置在所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層，其特征在于，所述干燥劑層配置于所述密封玻璃基板的表面上，該密封玻璃基板的表面通過(guò)蝕刻在表面形成腔部且經(jīng)由粗面化處理而在該腔部的底部形成凹凸。
3.跟據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置，其特征在于，所述凹凸的高低差為1μm～300μm。
4.一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及粘接在所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成以預(yù)定的間隔設(shè)置的多個(gè)抗蝕膜圖案的工序；通過(guò)以所述多個(gè)抗蝕膜圖案做為掩模來(lái)蝕刻所述密封玻璃基板表面，而形成底面經(jīng)過(guò)粗面化的腔部的工序；在所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。
5.一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的預(yù)定區(qū)域具有開口部的抗蝕膜圖案的工序；以所述抗蝕膜圖案做為掩模并使用氫氟酸蝕刻所述密封玻璃基板的表面，接著，再使用在氫氟酸中添加可明顯降低腐蝕生成物的溶解度的物質(zhì)而成的蝕刻液進(jìn)行蝕刻，而形成底面經(jīng)過(guò)粗面化的腔部的工序；在所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。
6.一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括有；在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的預(yù)定區(qū)域具有開口部的抗蝕膜圖案的工序；以所述抗蝕膜圖案做為掩模并使用噴砂法蝕刻所述密封玻璃基板的表面，以形成腔部，并將該腔部的底面粗面化的工序；在所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。
7.一種電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，一種具有在表面有電場(chǎng)發(fā)光組件的組件玻璃基板、與所述組件玻璃基板貼合的密封玻璃基板、及配置于所述密封玻璃基板的表面的干燥劑層的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括在所述密封玻璃基板的表面，形成在所述密封玻璃基板的表面的要形成腔部的預(yù)定區(qū)域具有開口部的抗蝕膜圖案的工序；以所述抗蝕膜圖案做為掩模蝕刻所述密封玻璃基板的表面以形成腔部的工序；通過(guò)噴砂法使所述腔部的底面粗面化的工序；在所述腔部的底部粘接干燥劑層的工序；以及使用密封樹脂使所述密封玻璃基板與所述組件玻璃基板貼合的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種改進(jìn)的電場(chǎng)發(fā)光顯示裝置及其制造方法，目的在于防止有機(jī)EL面板的干燥劑層的剝落或斷裂，以提高對(duì)溫度循環(huán)的可靠性，以配列成格子狀的多個(gè)抗蝕膜圖案(101a)做為掩模并以氫氟酸蝕刻密封玻璃基板(100)，而形成腔部(103)，在腔部(103)的底部的密封玻璃基板(100)的表面形成凹凸(104)，然后再形成干燥劑(105)層，通過(guò)粗面化處理，可發(fā)揮錨固效果，以提高干燥劑層與密封玻璃基板的接合性，以防止剝落等情況。
文檔編號(hào)H05B33/04GK1536937SQ20031011888
公開日2004年10月13日 申請(qǐng)日期2003年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月6日
發(fā)明者小村哲司 申請(qǐng)人:三洋電機(jī)株式會(huì)社