專利名稱：顯示裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用使用了有機電致發(fā)光(EL)材料的發(fā)光元件形成顯示部的顯示裝置的制作方法。
背景技術(shù)：
影像顯示用顯示器是在近代生活中不可缺少的信息顯示媒體之一，從所說的電視監(jiān)視器開始，以至近年高速發(fā)展的液晶顯示器、期待著今后發(fā)展的有機EL顯示器等，配合用途而采取了各種各樣的形式。特別地液晶顯示器和有機EL顯示器其特征是能夠用低電壓驅(qū)動，從節(jié)能的觀點看也是重要的研究開發(fā)課題。
尤其有機EL顯示器作為第二代的平板顯示器最引起人們的關(guān)注。
使用于有機EL顯示器中的采用了有機EL材料的發(fā)光元件的發(fā)光機構(gòu)中，通過在電極間設(shè)置包含發(fā)光體的薄膜(下面記為“電致發(fā)光膜”)使電流流過，從陰極注入的電子以及從陽極注入的空穴在電致發(fā)光膜中的發(fā)光中心復(fù)合形成分子激子，利用該分子激子在返回到基礎(chǔ)狀態(tài)時放出的光子。
通常，電致發(fā)光膜用少于1μm左右的薄膜形成。另外，采用有機EL材料的發(fā)光元件因為是電致發(fā)光膜自身放出光的自發(fā)光型的元件，所以也不需要像使用在以往的液晶顯示器中的背照光。因此，使用有機EL材料的發(fā)光元件能夠制作成極其薄型輕量是最大的優(yōu)點。
如上所述，采用了有機EL材料的發(fā)光元件的發(fā)光機構(gòu)中，通過在電極間設(shè)置電致發(fā)光膜使電流流過，從陰極注入的電子以及從陽極注入的空穴在電致發(fā)光膜中的發(fā)光中心復(fù)合形成分子激子，利用該分子激子在返回到基礎(chǔ)狀態(tài)時放出的光子。因此，在電致發(fā)光膜效率較好地注入空穴和電子是效率較好的用于制作發(fā)光元件的必要條件之一。
在使用典型的有機EL材料的發(fā)光元件的工作條件中，向原先電阻較高的電致發(fā)光膜注入100mA/cm2左右的電流。為了實現(xiàn)這種高密度的電流注入，就需要使來自陽極的空穴注入勢壘和來自陰極的電子注入勢壘盡可能的變小。即，作為陰極，使用功函數(shù)小的金屬，作為陽極，相反地必須選擇功函數(shù)較大的金屬。關(guān)于陰極，通過選擇各種各樣的金屬或合金，就能在實際中任意控制功函數(shù)。對此，在采用一般的有機EL材料的發(fā)光元件中，因為在陽極謀求透明性，所以現(xiàn)狀是限于使用透明的導(dǎo)電性氧化物，當(dāng)考慮穩(wěn)定性、透明度、電阻率等時，目前不得不將被銦錫氧化物(下面記為“ITO”)為代表的幾種氧化物導(dǎo)電膜選為陽極。
IT0電極是在氧化銦中摻雜(添加)錫，錫進入銦的置換位置，錫和若干的氧雜質(zhì)成為施主，通過使傳導(dǎo)帶部分地被充滿，表現(xiàn)出導(dǎo)電性。ITO通過噴鍍法、離子束噴鍍法、氣相成長法等方法在玻璃上成膜，通過適當(dāng)?shù)倪x擇錫的摻雜量，就可制造低阻抗的透明性高的電極。
可是，因為ITO的表面未必平坦，所以就被指出和使用于采用了有機EL材料的發(fā)光元件中的電致發(fā)光膜的接觸惡化、或者在電致發(fā)光膜生出小孔?？梢哉f這是使用了有機EL材料的發(fā)光元件惡化的理由之一。另外，雖然ITO膜的功函數(shù)能夠通過成膜時的經(jīng)歷或表面處理使其產(chǎn)生某些程度的變化，可是這種方法也有限度。這正阻礙了使空穴注入勢壘降低。
作為使來自ITO陽極的空穴注入勢壘降低的方法之一，公知有在IT0膜上插入緩沖層的方案。通過使緩沖層的離子化電勢最優(yōu)化，能夠降低空穴注入勢壘。將這種緩沖層稱為空穴注入層。作為起空穴注入層功能的物質(zhì)，當(dāng)大致分類時，分為金屬氧化物、低分子有機化合物以及高分子類化合物。作為高分子類化合物材料，公知有聚苯胺(參照非專利文獻1)或聚噻吩衍生物(參照非專利文獻2)等的共軛高分子。上述的聚苯胺或聚噻吩衍生物等的共軛高分子其自身幾乎不顯示導(dǎo)電性，通過作為受主和樟腦磺酸或聚苯乙烯磺酸等的強酸混合、即通過進行摻雜，可表現(xiàn)較高的導(dǎo)電性。這樣一來，被摻雜后的導(dǎo)電性共軛高分子起空穴注入材料發(fā)揮功能。
(非專利文獻1)Y.ヤングら、アプライド·フイヅツクス·レタ—ズ、第64卷、1245頁、1994年(非專利文獻2)
S.A.カ—タ—ら、アプライド·フイヅツクス·レタ—ズ、第70卷、2067頁、1987年通過將被摻雜后的導(dǎo)電性共軛高分子作為空穴注入層使用，就使空穴注入勢壘降低，可效率較好地注入空穴，其結(jié)果是，可提高使用了有機EL材料的發(fā)光元件的效率和壽命，也使驅(qū)動電壓下降。這些導(dǎo)電性共軛高分子能夠通過濕式涂敷法或噴墨法等方法在ITO表面成膜是最大的特征。
另外，為了將這些導(dǎo)電性共軛高分子對具有ITO的基板表面均勻地濕式成膜，廣泛進行著用UV臭氧洗滌或氧等離子體洗滌來使該基板表面親水的方法。
可是，存在這樣的問題當(dāng)制作將多個使用了有機EL材料的發(fā)光元件作為各像素的有機EL顯示器時，即使在具有與該各像素對應(yīng)的像素電極(ITO等)的基板上如上所述地形成有機導(dǎo)電體層，也不能獲得均勻的層。這些基板、特別在搭載了薄膜晶體管(以下記為“TFT”)的基板中，為了使各像素電極間絕緣，設(shè)置電絕緣性的隔壁，因此平坦性變差，使在基板表面的浸潤性產(chǎn)生了分布。
基板的浸潤性通過測定滴在基板表面的液滴的接觸角進行評價。當(dāng)將液體滴在固體表面時，液體在固體表面形成液滴，將此時的液體表面和固體面形成的角稱為接觸角θ(Contact Angleθ)。另外，將液體和固體的這樣的現(xiàn)象稱為浸潤(Wetting)。
在基板表面的浸潤性有分布的情況下，在剛涂敷導(dǎo)電性共軛高分子之后，涂敷的溶液如果是水溶性，就在浸潤性較高的部分凝集涂敷溶液。此時產(chǎn)生的不均勻性，在自旋中不能消除，因此不能獲得均勻的薄膜。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的課題是對不能將包含摻雜劑的有機導(dǎo)電體層均勻成膜的基板，提供一種均勻成膜的制造方法。
本發(fā)明的顯示裝置的制造方法，具有在基板的絕緣表面上形成與配置成矩陣狀的多個像素對應(yīng)的多個第1電極的工序；形成包圍上述第1電極且比上述第1電極的表面向上方突出的絕緣體隔壁的工序；在上述絕緣體隔壁和上述第1電極上形成包含受主的有機導(dǎo)電體層的工序；在上述有機導(dǎo)電體層上形成包含能電致發(fā)光的有機化合物的電致發(fā)光層的工序；以及在上述電致發(fā)光層上形成第2電極的工序，其特征在于形成上述有機導(dǎo)電體層的工序具有第一工序，濕式涂敷包含和上述受主相同物質(zhì)的溶液或分散液；第二工序，使上述基板和水接觸；以及第三工序，濕式涂敷構(gòu)成上述有機導(dǎo)電體層的物質(zhì)的溶液或分散液。
這樣，濕式涂敷構(gòu)成有機導(dǎo)電體層的物質(zhì)的溶液或分散液的工序(上述的第三工序)前，通過實施上述的第一工序和第二工序，即使平坦性差、表面的浸潤性有分布的基板，也能使有機導(dǎo)電體層均勻濕式成膜。
另外，特別從在上述第一工序中的浸潤性的觀點，作為上述受主，優(yōu)選具有磺酸基的有機化合物。
另外，在上述的第一工序中，作為上述受主的溶液或分散液的濃度，優(yōu)選大于等于1wt％小于等于5wt％。
而且，在上述的本發(fā)明的顯示裝置的制造方法中，上述有機導(dǎo)電體層通過濕式涂敷形成。因此，當(dāng)使用在高分子化合物中摻雜了受主的物質(zhì)作為上述有機導(dǎo)電體層時，本發(fā)明特別有效。
本發(fā)明的顯示裝置的制造方法，具有在基板的絕緣表面上形成與配置成矩陣狀的多個像素對應(yīng)的多個第1電極的工序；形成包圍上述第1電極且比上述第1電極的表面向上方突出的絕緣體隔壁的工序；在上述絕緣體隔壁和上述第1電極上形成包含施主的有機導(dǎo)電體層的工序；在上述有機導(dǎo)電體層上形成包含能電致發(fā)光的有機化合物的電致發(fā)光層的工序；以及在上述電致發(fā)光層上形成第2電極的工序，其特征在于形成上述有機導(dǎo)電體層的工序具有第一工序，濕式涂敷包含和上述施主同一物質(zhì)的溶液或分散液；以及第二工序，濕式涂敷構(gòu)成上述有機導(dǎo)電體層的物質(zhì)的溶液或分散液。
這樣，濕式涂敷構(gòu)成有機導(dǎo)電體層的物質(zhì)的溶液或分散液的工序(上述的第二工序)前，通過實施上述的第一工序，即使是平坦性差、表面的浸潤性有分布的基板，也能使有機導(dǎo)電體層均勻濕式成膜。
另外，在上述的第一工序中，作為上述施主的溶液或分散液的濃度，優(yōu)選大于等于1wt％小于等于5wt％。
而且，在上述的本發(fā)明的顯示裝置的制造方法中，上述有機導(dǎo)電體層通過濕式涂敷形成。因此，當(dāng)使用在高分子化合物中摻雜了施主的物質(zhì)作為上述有機導(dǎo)電體層時，本發(fā)明特別有效。
進而本發(fā)明在有源矩陣型的顯示裝置的制作方法中是特別有效的方法。
因此，在本發(fā)明中，其特征在于形成第1電極的工序還包含形成數(shù)據(jù)信號線、掃描信號線以及非線性元件的工序，該非線性元件連接在上述數(shù)據(jù)信號線、上述掃描信號線以及上述第1電極上。此時，優(yōu)選上述非線性元件具有相互連接的薄膜晶體管和電容的組合、或者薄膜晶體管和上述薄膜晶體管的寄生電容的組合。
根據(jù)本發(fā)明的制造方法，由于能夠用簡單的方法使有機導(dǎo)電體層均勻成膜，所以可以成品率高、成本低地制造使用了利用有機EL材料的發(fā)光元件的顯示裝置。


圖1是表示本發(fā)明的概念的圖。
圖2是表示使用于本發(fā)明的一實施方式的裝置的圖。
圖3是表示在實施例1中的、實施本發(fā)明進行制作的使用了有機EL材料的發(fā)光元件的結(jié)構(gòu)的圖。
圖4是表示在實施例2中的、實施本發(fā)明進行制作的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
具體實施例方式
(實施方式1)圖1(A)～(F)按工序順序表示了本法明的顯示裝置的制造方法的概念圖和該剖面圖。在圖1(A)中，表示了在基板101上具有第1電極102，以包圍上述第1電極102的形狀設(shè)置了絕緣體隔壁103。
作為第一工序，圖1(B)表示在基板101上濕式涂敷包含受主的溶液時的剖面圖。包含上述受主的溶液的層104形成在第1電極102、絕緣體隔壁103上。
此外，上述受主優(yōu)選具有磺酸基的有機化合物。例如選擇聚苯乙烯磺酸。另外，包含上述受主的溶液優(yōu)選水溶液。
下面，作為第二工序，圖1(C)表示使基板101上和水接觸后的剖面圖。
作為第三工序，圖1(D)表示在基板101上濕式涂敷構(gòu)成有機導(dǎo)電體層的物質(zhì)的溶液或分散液從而形成有機導(dǎo)電體層105時的剖面圖。
這樣，通過進行第一工序及第二工序，在第三工序中，能夠在浸潤性不均勻的基板上均勻濕式涂敷有機導(dǎo)電體層105。其理由是因為例如在使用具有磺酸基的有機化合物作為受主的情況下，具有磺酸基這種親水基和由有機基構(gòu)成的疏水基的兩者，所以進而使絕緣體隔壁表面的浸潤性提高。
進而作為其他的理由，原因是因為受主的電子受容性較強，所以第1電極102以及絕緣體隔壁103的表面都被氧化，與浸潤性相關(guān)的表面狀態(tài)也都被改質(zhì)為相同的狀態(tài)。本發(fā)明人認為該現(xiàn)象不只是具有磺酸基的有機化合物，如果是具有電子受容性的物質(zhì)也會產(chǎn)生。因此，在圖1(C)中，第二工序后也以殘存包含受主的溶液層104的形式描述，可是如果考慮上述的理由，則未必殘存包含受主的溶液的層104。即，即使在第二工序時用水全部沖刷，也只要進行由受主引起的表面的改質(zhì)即可。
圖1(E)表示經(jīng)過上面的工序后在有機導(dǎo)電體層105上形成電致發(fā)光層106時的剖面圖。電致發(fā)光層106通過蒸鍍或者濕式工藝做成。此外，作為上述電致發(fā)光層106的結(jié)構(gòu)，可以采用使用了公知的有機EL材料的發(fā)光元件的結(jié)構(gòu)。
圖1(F)表示在電致發(fā)光層106的上面形成第2電極107時的剖面圖。第2電極107只要采用真空蒸鍍法或EB法成膜成為電極的金屬(作為例子，A1Li合金或MgAg合金等)即可。另外，只要第1電極和第2電極任意一方具有可視光透過性即可。
圖2表示使用了在圖1表示的制造方法、采用有機EL材料的發(fā)光元件的制造裝置的概念圖。下面描述用真空蒸鍍形成電致發(fā)光層的例子。主要由搬運基板的搬運室、進行過渡的過渡室、制作各種薄膜的成膜室、進行密封的密封室構(gòu)成。各室裝備有用于達到需要的真空度的排氣裝置、或者用于生成N2等的氣體環(huán)境的裝置，另外，各室間用閘閥等連接?；灏徇\通過搬運機器人進行。
最初，從外部向投料室200導(dǎo)入基板201c(像素部、驅(qū)動電路部、布線、電極、保護膜等預(yù)先在基板上做好)。典型的，在像素部·驅(qū)動電路部使用TFT。基板將表面向上設(shè)置。
導(dǎo)入了基板201c的投料室200反復(fù)進行排氣、氮氣的放出而制造成在氮環(huán)境下。被導(dǎo)入投料室200的基板201c通過搬運機器人201b搬運到處在常壓下(氮環(huán)境)的搬運室201a內(nèi)，進而搬運到UV處理室203。在UV處理室203中，對基板201c進行UV臭氧處理。該UV臭氧處理以提高基板的浸潤性作為目的。
UV臭氧處理結(jié)束的基板經(jīng)由搬運室201a搬運到涂敷室204。在處在常壓下(氮環(huán)境)的涂敷室204，濕式涂敷有機導(dǎo)電體層、具體的包含像聚乙二氧撐噻吩/聚苯乙烯磺酸水溶液(下面記為“PEDOT/PSS”)這樣的受主的導(dǎo)電性高分子。僅在UV臭氧處理中，有時不能使包含像PEDOT/PSS這樣的受主的導(dǎo)電性高分子在基板上均勻成膜。因此，首先濕式涂敷包含和上述受主相同物質(zhì)的溶液或者分散液。具體的旋涂包含受主即聚苯乙烯磺酸的水溶液。旋涂結(jié)束之后將基板用純水進行處理，最后旋涂PEDOT/PSS。涂敷結(jié)束后，經(jīng)由搬運室201a，送入反轉(zhuǎn)及真空烤干室202。在這里，進行基板的反轉(zhuǎn)及真空烤干。
基板201c真空烤干后運到過渡室206。對過渡室206進行排氣成為真空之后，基板201c被搬運到始終保持為真空的搬運室207。在搬運室207也搭載有搬運機器人，發(fā)揮著向個室搬運基板的作用。在搬運室207連接以形成電致發(fā)光層為目的成膜室。當(dāng)制作全彩色顯示的OLED顯示裝置時，設(shè)置用于形成R·G·B各色的發(fā)光層的成膜室208R·208G·208B，還設(shè)置用于對各色做成共同的層即載流子輸送層或載流子注入層等的成膜室209。在這些成膜室中，一般采用真空蒸鍍法。為了獲得全彩色發(fā)光，只要使用涂分用的孔板進行蒸鍍即可，使得表示R·G·B各色的發(fā)光的發(fā)光層排列成線條狀、馬賽克狀或者三角狀。
電致發(fā)光層的成膜結(jié)束的基板經(jīng)由過渡室210，運到搬運室211。搬運室211也搭載搬運機器人，發(fā)揮向與搬運室211連接的各室搬運基板的作用。在成膜室212或213中，采用真空蒸鍍法或EB法使成為電極的金屬(例如AlLi合金或MgAg合金等)成膜。在氧等離子體室214中，除去基板的端面、邊緣部、端子部、陰極與下部布線的連接區(qū)域等上的有機導(dǎo)電體層。在進行氧等離子體處理前，只要采用真空蒸鍍法或EB法使成為電極的金屬在殘留有機導(dǎo)電體層的區(qū)域成膜即可。氧等離子體處理后，再次使成為電極的金屬成膜，只要獲取陰極和觸點即可。在成膜室215中，用于保護表面的鈍化膜(例如SiN、SiOx膜等)一般采用噴鍍法或CVD法成膜。
成膜結(jié)束的基板經(jīng)由過渡室216運到搬運室217。對搬運室217連接了多個進行密封所需的室。在搬運室217也搭載搬運機器人，發(fā)揮著向與搬運室217連接的各室搬運基板或密封基板的作用。
首先，需要準(zhǔn)備用于進行密封的基板。為此的室是密封玻璃基板準(zhǔn)備室218a以及密封塑料基板準(zhǔn)備室218b。
密封玻璃基板準(zhǔn)備室218a將用于對做成的OLED進行玻璃密封的對置玻璃從外部導(dǎo)入。如果需要，可將使OLED干燥的干燥劑導(dǎo)入到對置玻璃中。例如，可以將片狀的干燥劑用雙面膠帶等粘貼在預(yù)先實施了研削加工的對置玻璃的研削部分上。
另一方面，在密封塑料基板準(zhǔn)備室218b中，進行用于將做成的OLED進行塑料密封的準(zhǔn)備。關(guān)于這些作業(yè)，可以完全自動化，也可以設(shè)置電纜局部手動進行。
準(zhǔn)備的密封玻璃基板或者密封塑料基板運到配合室219，之后涂敷用于和基板貼合的粘結(jié)劑(未圖示)。在本實施方式中，使用紫外線硬化型的作為粘結(jié)劑。另外，如果需要，可以將使OLED干燥的干燥劑不在密封玻璃基板準(zhǔn)備室218a中的玻璃導(dǎo)入時投料，而是在配合室219內(nèi)投料。例如，可以將片狀的干燥劑用雙面膠帶等粘貼在預(yù)先實施了研削加工的對置玻璃的研削部分。這樣一來，不需要將干燥劑在大氣中處理。關(guān)于這些作業(yè)，可以完全自動化，也可以設(shè)置電纜局部手動進行。特別的，在密封塑料基板具有曲率和彈性的情況下，可以在彎曲的狀態(tài)涂敷粘結(jié)劑，也可以在筆直延伸的狀態(tài)下涂敷。
結(jié)束成膜的基板以及涂敷粘結(jié)劑的密封玻璃基板或密封塑料基板被運到密封及紫外線照射室220，相互粘合。粘結(jié)時，需要使用適當(dāng)?shù)膴A具(未圖示)進行加壓。在具有曲率和彈性的密封塑料基板的情況可以在筆直延伸的狀態(tài)下進行粘貼。關(guān)于這些作業(yè)，可以完全自動化，也可以設(shè)置電纜局部手動進行。
接著，在密封和紫外線照射室220貼合的基板被用于粘結(jié)劑硬化的紫外線照射。
在密封和紫外線照射室220粘結(jié)的基板和密封基板可以從過渡室221取出到外部。
接著，在下面，描述用濕式工藝形成電致發(fā)光層的例子。有機導(dǎo)電體層的形成以及到烤干過程采用和上述相同的方法進行。在反轉(zhuǎn)和烤干室202被烤干的基板，以將基板表面向上的狀態(tài)經(jīng)由搬運室201a運到涂敷室205。在搬運室205中，利用旋涂法或噴墨法使在以聚次苯基乙烯撐、聚二苯并茂為代表的導(dǎo)電性高分子中導(dǎo)入長鏈烷基等并具有可溶性的衍生物的溶液成膜。在這里使用的材料不限于高分子化合物，只要是成膜性較高的，也可以是低分子有機化合物、有機金屬絡(luò)合物。使電致發(fā)光層成膜后，經(jīng)由搬運室201a，搬入反轉(zhuǎn)及真空烤干室202，在這里進行反轉(zhuǎn)及真空烤干。
在電致發(fā)光層上成膜的金屬可以用上述表示的同樣的方法成膜。另外，以密封為目的采用的基板也可以用和上述相同的方法貼合。
(實施方式2)在基板上，采用真空蒸鍍法或EB法使起電子注入電極作用的金屬(例如AlLi合金或MgAg合金等)成膜。接著濕式涂敷包含施主的溶液。作為施主，優(yōu)選烷基銨離子(例如四乙銨、四丁銨等)，或者四硫富瓦烯(以下記為“TTF”)。最后濕式涂敷包含上述施主的導(dǎo)電性高分子。上述導(dǎo)電性高分子優(yōu)選聚苯胺、聚吡咯等。
電致發(fā)光層可以通過蒸鍍或者濕式涂敷做成。作為上述電致發(fā)光層的結(jié)構(gòu)，可以采用使用周知的有機EL材料的發(fā)光元件的結(jié)構(gòu)。在作為空穴注入電極的陽極優(yōu)選采用ITO膜的。上述ITO膜可以采用噴鍍、電子束蒸鍍、離子電鍍等的方法成膜。
(實施例)(實施例1)圖3(A)表示在本實施例使用的基板，圖3(B)表示圖中A-A’的剖面圖。ITO的透明電極302在被構(gòu)圖的玻璃基板301上通過光刻形成絕緣性隔壁303。ITO的透明電極302是膜厚100nm、縱向300μm、橫向60μm的長方形。絕緣體隔壁303通過丙烯酸樹脂形成，高度是1.5μm。
為了使ITO的透明電極302以及絕緣體隔壁303親水化，進行了UV臭氧洗滌。接著旋涂聚苯乙烯磺酸的1.5wt％水溶液。緊接著在基板上涂敷純水，使基板自旋切斷水。最后用旋涂法進行全面涂敷，使得PEDOT/PSS水溶液為膜厚60nm，80℃時焙燒10鐘，200℃時釉燒1小時，進而在蒸鍍前進行真空加熱(170℃時，加熱30分鐘，冷卻30分鐘)。此后不接觸大氣用真空蒸鍍法形成電致發(fā)光層305。
在有機導(dǎo)電體層304上分別用真空蒸鍍法形成電致發(fā)光層305、陰極306。將4，4’-二[N-(3-甲基苯基)-N-苯基-氨基]-聯(lián)苯(下面記為“TPD”)蒸鍍?yōu)?0nm，接著將三(8-羥基喹啉)鋁(下面記為“Alq”)蒸鍍?yōu)?0nm來作為電致發(fā)光層。最后，蒸鍍AlLi合金100nm來作為陰極并制造采用了有機EL材料的發(fā)光元件。
如上所述，因為能根據(jù)本發(fā)明的制造方法用簡單的方法均勻地使有機導(dǎo)電體層成膜，所以能夠成品率好、低成本地制造使用了有機EL材料的發(fā)光元件。
(實施例2)在本實施例中，針對在像素部具有使用本發(fā)明制造方法的采用了有機EL材料的發(fā)光元件的發(fā)光裝置，使用圖4的剖面圖進行說明。在基板410上形成驅(qū)動電路部和像素部，在這里，表示了作為驅(qū)動電路部的源極側(cè)驅(qū)動電路401和像素部402。
此外，源極側(cè)驅(qū)動電路401形成組合了n溝道型TFT423和p溝道型TFT424的CMOS電路。另外，形成驅(qū)動電路的TFT可以用周知的CMOS電路、PMOS電路或者NMOS電路形成。另外，在本實施例中，表示了在基板上形成驅(qū)動電路的驅(qū)動一體型，可是不是必須那樣，也可不在基板上而形成在外部。
另外，像素部402通過包含開關(guān)用TFT411、電流控制用TFT412和電連接在其漏極的第1電極413的多個像素形成。此外，覆蓋第1電極413的端部形成絕緣物414。在這里，通過采用正型的感光性丙烯酸樹脂膜形成絕緣物414。
另外，為了將覆蓋區(qū)做成較好的，使得在絕緣物414的上端部或者下端部形成具有曲率的曲面。例如，使用正型的感光性丙烯作為絕緣物414的材料時，優(yōu)選只在絕緣物414的上端部擁有具有曲率半徑(0.2μm～3μm)的曲面。另外，作為絕緣物414，可使用通過感光性的光在蝕刻劑中成為不溶解性的負型或者通過光在蝕刻劑中成為溶解性的正型的某一種。
為了使第1電極413和絕緣物414親水化，進行UV臭氧洗滌。親水化后，用旋涂法全面涂敷PEDOT/PSS水溶液?？墒牵袝r僅用UV處理不能使包含像PEDOT/PSS這樣的受主的導(dǎo)電性高分子在基板上均勻的成膜。因此，首先濕式涂敷包含和上述受主相同的物質(zhì)的溶液或分散液。具體的旋涂包含受主即聚苯乙烯磺酸的水溶液。旋涂結(jié)束后，在基板上加純水使基板自旋。最后旋涂PEDOT/PSS并形成均勻的有機導(dǎo)電體層。在有機導(dǎo)電體層415上分別形成電致發(fā)光層416以及第2電極417，形成電致發(fā)光元件418。在這里，作為使用于起陽極作用的第1電極413的材料，優(yōu)選功函數(shù)較大的材料。例如，除了ITO膜、銦鋅氧化物(IZO)膜、氮化鈦膜、鉻膜、鎢膜、Zn膜、Pt膜等的單層膜，還能夠采用氮化鈦膜和以鋁為主要成分的膜的層疊、氮化鈦膜和以鋁為主要成分的膜和氮化鈦膜的3層結(jié)構(gòu)等。此外，當(dāng)為層疊結(jié)構(gòu)時，作為布線的阻抗也低，可獲得較好的電阻接觸，進而能起到陽極的功能。
此外，電致發(fā)光層416通過使用蒸鍍掩模的蒸鍍法或者噴墨法形成。在電致發(fā)光層416無論是低分子類材料還是高分子類材料都可以。另外，作為使用于電致發(fā)光層416的材料，通常將有機化合物以單層或?qū)盈B使用的情況較多，可是在本發(fā)明中，也包含在由有機化合物構(gòu)成的膜的一部分采用無機化合物的結(jié)構(gòu)。
進而，作為使用于形成在電致發(fā)光層416上的第2電極(陰極)417的材料，可以使用功函數(shù)較小的材料(Al、Ag、Li、Ca或者這些的合金MgAg、MgIn、AlLi、CaF2或者CaN)。此外，在電致發(fā)光層416產(chǎn)生的光透過第2電極417的情況下，作為第2電極(陰極)417，最好使用使膜厚變薄的金屬薄膜與透明導(dǎo)電膜(ITO、氧化銦氧化鋅合金(In2O3-ZnO)、氧化鋅(ZnO)等)的層疊。
如上所述，通過本發(fā)明的制造方法，因為能夠用簡單的方法均勻使有機導(dǎo)電體層成膜，所以能夠成品率好、低成本地制造使用了有機EL材料的發(fā)光元件。
如上所述，本發(fā)明的顯示裝置的制造方法可適用于制造使用了有機導(dǎo)電體層的顯示裝置的情況。另外，通過本發(fā)明的顯示裝置的制造方法獲得的顯示裝置的適用范圍極廣，能夠使用于所有領(lǐng)域的電子設(shè)備。
權(quán)利要求
1.一種顯示裝置的制造方法，具有在基板的絕緣表面上形成與配置成矩陣狀的多個像素對應(yīng)的多個第1電極的工序；形成包圍上述第1電極且比上述第1電極的表面向上方突出的絕緣體隔壁的工序；在上述絕緣體隔壁和上述第1電極上形成包含受主的有機導(dǎo)電體層的工序；在上述有機導(dǎo)電體層上形成包含能電致發(fā)光的有機化合物的電致發(fā)光層的工序；以及在上述電致發(fā)光層上形成第2電極的工序，其特征在于形成上述有機導(dǎo)電體層的工序具有第一工序，濕式涂敷包含和上述受主相同物質(zhì)的溶液或分散液；第二工序，使上述基板和水接觸；以及第三工序，濕式涂敷構(gòu)成上述有機導(dǎo)電體層的物質(zhì)的溶液或分散液。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于上述受主是具有磺酸基的有機化合物。
3.如權(quán)利要求1或2所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于包含和上述受主同一物質(zhì)的溶液或分散液的濃度是大于等于1wt％小于等于5wt％。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于上述有機導(dǎo)電體層由在高分子化合物中摻雜了上述受主的物質(zhì)構(gòu)成。
5.一種顯示裝置的制造方法，具有在基板的絕緣表面上形成與配置成矩陣狀的多個像素對應(yīng)的多個第1電極的工序；形成包圍上述第1電極且比上述第1電極的表面向上方突出的絕緣體隔壁的工序；在上述絕緣體隔壁和上述第1電極上形成包含施主的有機導(dǎo)電體層的工序；在上述有機導(dǎo)電體層上形成包含能電致發(fā)光的有機化合物的電致發(fā)光層的工序；以及在上述電致發(fā)光層上形成第2電極的工序，其特征在于形成上述有機導(dǎo)電體層的工序具有第一工序，濕式涂敷包含和上述施主同一物質(zhì)的溶液或分散液；以及第二工序，濕式涂敷構(gòu)成上述有機導(dǎo)電體層的物質(zhì)的溶液或分散液。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于包含和上述施主同一物質(zhì)的溶液和分散液的濃度是大于等于1wt％小于等于5wt％。
7.如權(quán)利要求5或6所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于上述有機導(dǎo)電體層由在高分子化合物中摻雜了上述施主的物質(zhì)構(gòu)成。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于形成上述第1電極的工序具有形成數(shù)據(jù)信號線、掃描信號線以及非線性元件的工序，該非線性元件連接在上述數(shù)據(jù)信號線、上述掃描信號線以及上述第1電極上。
9.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于上述非線性元件具有相互連接的薄膜晶體管和電容的組合、或者薄膜晶體管和上述薄膜晶體管的寄生電容的組合。
全文摘要
本發(fā)明的顯示裝置的制造方法其特征在于形成包圍電極且比該電極的表面向上方突出的絕緣體隔壁，濕式涂敷包含受主的溶液后，使基板整體和水接觸。通過本發(fā)明，即使是平坦性差、表面的浸潤性有分布的基板，也能使有機導(dǎo)電體層均勻濕式成膜。
文檔編號H05B33/22GK1732718SQ20038010763
公開日2006年2月8日 申請日期2003年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月25日
發(fā)明者德田篤史 申請人:株式會社半導(dǎo)體能源研究所