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      有機電激發(fā)光顯示器及其制作方法

      文檔序號:8196463閱讀:288來源:國知局
      專利名稱:有機電激發(fā)光顯示器及其制作方法
      技術領域
      本發(fā)明是有關于一種有機電激發(fā)光(organic electroluminescence,OEL)顯示器面板的結構及其制作方法,且特別有關于一種具有遮光層的有機電激發(fā)光顯示器面板的結構及其制作方法。
      背景技術
      近年來各界對有機電激發(fā)光組件(organic electroluminescencedevice)的研究,使其有足以取代液晶顯示器,而成為次世代顯示器的潛力。由于其本身為主動發(fā)光組件,因此有機電激發(fā)光顯示器不似液晶顯示器般需要背光模塊,有利于顯示器的輕量化。此外,有機電激發(fā)光顯示器提供高對比、快反應,以及比液晶顯示器更寬廣的視角。
      有機電激發(fā)光顯示技術依其組件所使用的載子傳遞層與發(fā)光層等有機薄膜材料的不同可概分成兩系統(tǒng),一是以染料或顏料為材料的小分子組件(molecule-based device),另一則以共軛性高分子為材料的高分子組件(polymer-based device),前者一般以真空蒸鍍鍍膜方式制作組件,而后者則一般采用溶液旋轉涂布(spin coating)方式。小分子OEL組件被稱為OLED,而高分子OEL組件則被稱為PLED。由于有機薄膜層皆為具傳導載子的材料,因此在非發(fā)光區(qū)域會有漏光的現象。
      圖1為一習知高分子有機電激發(fā)光顯示器(PLED)1的部分剖面圖。如圖1所示,此高分子有機電激發(fā)光顯示器1包含一透明基板0、一透明氧化銦錫(Indium tin oxide,ITO)層2作為陽極、一氧化硅層4用以定義像素區(qū)、一有機絕緣層5、一聚乙烯二氧噻吩(polyethylenedioxy thiophene,PEDOT)層6作為緩沖層之用、一高分子發(fā)光材料層8,以及一金屬或合金作為陰極10(如Ca、Al、Mg/Ag或Al/Li)。
      由對陽極2與陰極10施予一適當電位差,可使像素區(qū)的高分子發(fā)光材料層8發(fā)出特定顏色的光3,并經由陽極2與透明基板0射出。
      緩沖層6的作用乃在調節(jié)ITO陽極2與高分子發(fā)光材料層8間的能階,以提升電洞注入效率并降低操作電壓。一般緩沖層6材質的電阻不高,如一般常用的PEDOT是一種導電高分子,因此當電流流經圖中箭頭方向,亦會導通該區(qū)的高分子發(fā)光材料層8,而發(fā)出特定顏色的光3’。由于氧化硅層4可透光,因此特定顏色的光3’便通過氧化硅層4與透明基板0而射出,形成漏光現象,使得最后發(fā)出光的區(qū)域比原定像素區(qū)大,因而造成顯示上的缺點。

      發(fā)明內容
      有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一有機電激發(fā)光顯示器及其制作方法,以改善非像素區(qū)的漏光現象,進而提升顯示器的性能。
      本發(fā)明的另一目的在不增加制程困難度與光罩數的前提下,提供一可改善非像素區(qū)漏光現象的有機電激發(fā)光顯示器及其制作方法。
      為達上述目的,本發(fā)明在有機電激發(fā)光顯示器的像素區(qū)外圍設置一遮光層,以定義上述像素區(qū),并可同時遮蔽非像素區(qū)域內可能發(fā)出的光。
      本發(fā)明提供一種有機電激發(fā)光顯示器的制作方法,其步驟包括首先提供一基板,并于基板上制作一驅動數組,,形成一遮光層于基板上,且在驅動數組間定義出復數個像素區(qū)。之后于像素區(qū)上方形成一第一電極,接著于第一電極上形成一有機電激發(fā)光層,以及形成一第二電極于有機電激發(fā)光層上。
      本發(fā)明尚提供一種有機電激發(fā)光顯示器,其至少包含一基板;一驅動數組形成于該基板上,一一遮光層形成于該基板上,且在驅動數組間定義出復數個像素區(qū);一第一電極形成于像素區(qū)上方;一有機電激發(fā)光層形成于第一電極上;以及一第二電極形成于有機電激發(fā)光層上。
      根據本發(fā)明,上述遮光層可由任何不透光的金屬、絕緣體或有機材質所構成。根據本發(fā)明,上述有機電激發(fā)光層可為OLED或高分子(polymer)有機發(fā)光二極管(PLED),其中更可包括一電子注入層、一電子傳輸層、一發(fā)光層、一電洞傳輸層以及一電洞注入層。上述第一電極可為一氧化銦錫層(ITO);上述第二電極的組成材質可為Ca、Al、Mg、Mg/Ag合金、Al/Li合金或其組合。上述透明基板可為玻璃基板或塑料基板。
      根據本發(fā)明,上述驅動數組是包含一非晶硅(a-Si)薄膜晶體管或低溫多晶硅(LTPS)薄膜晶體管。且晶體管包含一柵極、源極與汲極,而上述遮光層是在制作柵極的同時,以與柵極相同的材質所制作而成;或在制作源極與汲極的同時,以與源極與汲極相同的材質所制作而成。
      根據本發(fā)明,上述第一電極、有機電激發(fā)光層與第二電極是構成一全彩有機電激發(fā)光顯示組件。且本發(fā)明的有機電激發(fā)光顯示器的制作方法,較佳進一步包含設置一第二基板于該第二電極上。


      圖1為一習知高分子有機電激發(fā)光顯示器的部分剖面圖。
      圖2A~圖2E是用以說明本發(fā)明高分子有機電激發(fā)光顯示器的制作流程。
      符號說明0~透明基板;1~高分子有機電激發(fā)光顯示器;2~陽極;
      3、3′~光;4~氧化硅層;5~有機絕緣層;6~PEDOT層;8~高分子發(fā)光材料層;10~陰極;200、200′~基板;202、206~緩沖層;204~柵極絕緣層;206、208~介電層;207~金屬遮光層;212~第一電極;214~第一絕緣層;215~第二絕緣層;217~有機電激發(fā)光層;220~多晶硅薄膜晶體管;221~汲極;222~有機電激發(fā)光層預定區(qū);240~第二電極;250~柵極;251~源極;255~通道;256~源極/汲極區(qū);257、258~接觸洞;300、300′~光;701~電子注入層;
      702~電子傳輸層;703~發(fā)光層;704~電洞傳輸層;705~電洞注入層。
      具體實施例方式
      為了讓本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點更明顯易懂,下文特舉出較佳實施例,并配合所附圖示,作詳細說明如下以下參考圖2A-圖2E,說明本實施例有機電激發(fā)光顯示器及其制作方法。
      本發(fā)明中的驅動數組基板例如是包含非晶硅薄膜晶體管數組(a-Si TFTsarray)的基板(例如,玻璃基板),或包含低溫多晶硅薄膜晶體管(LTPS-TFT)數組的基板。本實施例以低溫多晶硅薄膜晶體管數組所構成的主動組件基板為例,并以頂柵極(top gate)的模式為例說明其制作流程,然而本發(fā)明亦可應用于底柵極(bottom gate)的主動數組基板。
      首先,請參考圖2A,提供一透明基板200,在此透明基板200上形成一緩沖層(buffer layer)202,并在緩沖層202上形成復數個低溫多晶硅薄膜晶體管220。其中低溫多晶硅薄膜晶體管220包括一柵極250、一源極251、一汲極221、一柵極絕緣層204、一通道255以及一源極/汲極區(qū)(S/D)256,且汲極221并經由一介電層206的接觸洞257而與源極/汲極區(qū)256耦接。低溫多晶硅薄膜晶體管220的制作過程如下首先在緩沖層202上形成復數個由源極/汲極區(qū)(S/D)256、通道255所構成的多晶硅區(qū)。之后,在這些多晶硅區(qū)上方覆蓋一柵極絕緣層204。接著,于柵極絕緣層204上方形成柵極250。其次,再形成一介電層206于基板200上方,此介電層206于源極/汲極區(qū)(S/D)256上方分別蝕刻有接觸洞。接著,再于基板200上方形成一源極/汲極金屬層(未圖示),并經微影蝕刻后形成源極251、汲極221。
      此外,在形成源極251、汲極221的同時,于介電層206上方像素區(qū)預定區(qū)的外圍,形成一金屬遮光層207。
      此金屬遮光層207的作用在定義像素區(qū)(有機電激發(fā)光層預定區(qū)222),并同時遮蔽非像素區(qū)內可能透過透明基板200而發(fā)出的光。在本較佳實施例中,遮光層207是在利用沉積蝕刻方式形成源極251、汲極221的同時蝕刻完成,然而依據本發(fā)明精神,此遮光層207亦可在沉積蝕刻柵極250的同時蝕刻完成,如圖2E所示。如此可再不需增加制程步驟與成本的前提下,輕易實施本發(fā)明。此外,根據本發(fā)明,遮光層207的材質并不限于金屬,任何具有遮旋光性的材質皆可適用,如絕緣體、有機等材質。上述透明基板200可為玻璃或透光的塑料材質。若為塑料基板,其材質可為聚乙烯對苯二甲酯(polyethyleneterephthalate)、聚酯(polyester)、聚碳酸酯(polycarbonates)、聚丙烯酸酯(polyacrylates)或是聚苯乙烯(polystyrene);而多晶硅薄膜晶體管是作為有機電激發(fā)光顯示器的控制單元,可為以低溫制造技術完成者。
      接著,請參照圖2B,在基板上形成一介電層208,其在對應汲極221上方具有一接觸洞258。接著在介電層208上形成一第一電極212,其覆蓋上述金屬遮光層207所定義的像素區(qū),且耦接于汲極221。其中第一電極212可為銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅鋁氧化物(AZO)或是氧化鋅(ZnO)。而此第一電極212可由濺鍍法、電子束蒸鍍法、熱蒸鍍法、化學氣相鍍膜法及噴霧熱裂解法所形成。
      接著,分別形成一第一絕緣層(insulator layer)214與第二絕緣層215于該第一電極212上,第一絕緣層214的材質如為氧化硅;第二絕緣層215的材質如為聚亞醯胺(polyimide)。之后以第一電極212作為蝕刻停止層,對此絕緣層214、215進行蝕刻,以暴露出該第一電極212上的有機電激發(fā)光層預定區(qū)222。
      之后,形成一有機電激發(fā)光層217于第一電極212上。此有機電激發(fā)光層217為高分子有機發(fā)光二極管材料,其可利用旋轉涂布、噴墨或網版印刷等方式形成。在本實施例中,此有機電激發(fā)光層217更包括一電子注入層701(EIL;electron injection layer)、一電子傳輸層702(ETL;electrontransport layer)、一發(fā)光層703(EL;emitting layer)、一電洞傳輸層704(HTL;hole transport layer)以及一電洞注入層705(HIL;holeinjection layer)。其中有機電激發(fā)光層217亦可為小分子有機發(fā)光二極管(OLED)材料,其可利用真空鍍膜方式形成。
      接著,如圖2D所示,在有機電激發(fā)光層217上形成一第二電極層240,其中第二電極層240是作為該有機發(fā)光二極管的陰極。形成第二電極層240的方式可為真空熱蒸鍍或濺鍍方式。為配合作為有機發(fā)光二極管的陰極電極的需求,應選用適合將電子注入有機半導體材料者,如Ca、Al、Mg、Mg/Ag合金、Al/Li合金等低功函數材料,較佳者為Mg或Mg-Ag合金,或為Mg或Mg-Ag合金與氧化銦錫(ITO)的迭層。
      最后,設置一基板200’于陰極電極240之上,至此完成本實施例有機電激發(fā)光顯示器的制作。
      本實施例有機電激發(fā)光顯示器的結構,如圖2D所示,包含一第一基板200;一由薄膜晶體管220所構成的驅動數組,且此驅動數組包含一遮光層207,由遮光層207在驅動數組間定義出復數個像素區(qū)222;一第一電極212形成于像素區(qū)222上方;一有機電激發(fā)光層217形成于第一電極212(陽極)上;一第二電極240形成于有機電激發(fā)光層217上;以及一第二基板200’設置于第二電極240(陰極)上。其中有機發(fā)光層可為OLED或PLED,上述第一電極212、有機電激發(fā)光層217與第二電極240是構成一全彩有機電激發(fā)光顯示組件。
      如上述,本發(fā)明的有機電激發(fā)光顯示器及其制作方法,由設置一遮光層207,不僅定義出像素區(qū)222位置,使有機電激發(fā)光層217發(fā)出的光300在通過其下方的第一電極212及第一基板200后發(fā)射出來;在此同時,并遮蔽非像素區(qū)內由于漏電流而產生的光300’,因此避免發(fā)像素區(qū)的漏光現象,達到提升顯示性能的效果。
      此外,遮光層207可在制作柵極250、源極251或汲極221的同時制作而成,因此不需增加制程的步驟與成本,即可輕易達到本發(fā)明的目的。
      權利要求
      1.一種有機電激發(fā)光顯示器的制作方法,包括提供一基板;形成一驅動數組于該基板上;形成一遮光層于該基板上,且在該驅動數組間定義出復數個像素區(qū);于該像素區(qū)上方形成一第一電極;于該第一電極上形成一有機電激發(fā)光層;以及形成一第二電極于該有機電激發(fā)光層上。
      2.根據權利要求1所述的有機電激發(fā)光顯示器的制作方法,其中該遮光層是由不透光之金屬、絕緣體或有機材質所構成。
      3.根據權利要求1所述的有機電激發(fā)光顯示器的制作方法,其中該有機發(fā)光層包括OLED或PLED。
      4.根據權利要求1所述的有機電激發(fā)光顯示器的制作方法,其中該第一電極是氧化銦錫層,而該第二電極之組成材質是Ca、Al、Mg、Mg/Ag合金、Al/Li合金或其組合。
      5.根據權利要求1所述的有機電激發(fā)光顯示器的制作方法,其中該驅動數組是包含一柵極、源極與汲極,而該遮光層是在制作該柵極、源極或汲極的同時,以與該柵極、源極或汲極相同的材質所制作而成。
      6.一種有機電激發(fā)光顯示器,包括一透明基板;一驅動數組形成于該透明基板上,;一遮光層形成于該基板上,且在該驅動數組間定義出復數個像素區(qū);一第一電極形成于該像素區(qū)上方;一有機電激發(fā)光層形成于該第一電極上;以及一第二電極形成于該有機電激發(fā)光層上。
      7.根據權利要求6所述的有機電激發(fā)光顯示器,其中該遮光層是由不透光的金屬、絕緣體或有機材質所構成。
      8.根據權利要求6所述的有機電激發(fā)光顯示器,其中該有機電激發(fā)光層包括OLED或PLED。
      9.根據權利要求6所述的有機電激發(fā)光顯示器,其中該第一電極是氧化銦錫層,而該第二電極的組成材質是Ca、Al、Mg、Mg/Ag合金、Al/Li合金或其組合。
      10.根據權利要求6所述的有機電激發(fā)光顯示器,其中該驅動數組是包含一柵極、源極與汲極,而該遮光層是在制作該柵極、源極或汲極的同時,以與該柵極、源極或汲極相同的材質所制作而成。
      全文摘要
      本發(fā)明揭示一種有機電激發(fā)光顯示器及其制作方法。其制作方法包括首先提供一透明基板,并于此透明基板上制作一驅動數組,此驅動數組包含一遮光層,由此遮光層在上述驅動數組間定義出復數個像素區(qū)。接著于像素區(qū)上方形成一第一電極。之后于第一電極上形成一有機電激發(fā)光層,以及形成一第二電極于有機電激發(fā)光層上。
      文檔編號H05B33/26GK1668149SQ200410008630
      公開日2005年9月14日 申請日期2004年3月12日 優(yōu)先權日2004年3月12日
      發(fā)明者薛瑋杰, 蔡耀銘 申請人:統(tǒng)寶光電股份有限公司
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