專利名稱：沉積場(chǎng)致發(fā)光器件薄層的掩?？蚪M件及沉積薄層的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種掩?？蚪M件，該組件用于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的一個(gè)薄層。特別地，本發(fā)明涉及一種掩?？蚪M件，其分別包括一主掩模，該主掩模形成有相應(yīng)于單元體的圖案，以及一具有圖標(biāo)圖案的圖標(biāo)掩模。本發(fā)明還涉及使用該組件沉積薄層的方法。
背景技術(shù)：
場(chǎng)致發(fā)光器件是一種有效的光學(xué)設(shè)備，其具有許多優(yōu)點(diǎn)，例如較快的響應(yīng)速度，寬敞的可視角，及高質(zhì)量的對(duì)比度。場(chǎng)致發(fā)光器件包括有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件和無(wú)機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件。其區(qū)別是基于形成場(chǎng)致發(fā)光層的物質(zhì)種類的不同(有機(jī)或無(wú)機(jī))。有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件與無(wú)機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件相比，具有更高的清晰度及更快的響應(yīng)速度。而且，其具有更好的色彩顯示性能。
有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件包括以下幾個(gè)部分透明基片；具有預(yù)定圖案的第一電極(如，陽(yáng)極)，其形成在所述透明基片上；有機(jī)發(fā)光層，其通過(guò)真空沉積法形成在具有電極的所述透明基片上；第二電極(如，陰極)，其以與所述第一電極交叉的方向形成在所述有機(jī)發(fā)光層上。
在制造有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的過(guò)程中，第一電極通常由ITO制成。ITO的圖案通常通過(guò)光刻蝕法形成。在該方法中，ITO層可通過(guò)濕蝕刻法使用含有氯化鐵的蝕刻液來(lái)形成圖案。然而，如果第二電極(陰極)通過(guò)光刻蝕法來(lái)蝕刻，在除去光致抗蝕劑及蝕刻第二電極的步驟中，水分可能進(jìn)入到有機(jī)發(fā)光層與第二電極之間的間隙。從而，有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的性能及壽命可被降低。
解決該問(wèn)題的一種嘗試包括沉積法，在此方法中，用于形成有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層的有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光材料以及形成第二電極的物質(zhì)均通過(guò)沉積的方法制備。
在使用沉積法制造有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的過(guò)程中，具有條帶圖案的第一電極可通過(guò)濺射及光刻蝕法形成在透明基片上。隨后，場(chǎng)致發(fā)光層可形成在透明基片上的第一電極之上。此后，具有和第二電極相同圖案的掩模可被設(shè)置在場(chǎng)致發(fā)光層上并且用于形成第二電極的物質(zhì)可被沉積。
申請(qǐng)?zhí)枮?000-0060589的韓國(guó)專利申請(qǐng)描述了一種用于沉積場(chǎng)致發(fā)光層的掩模、場(chǎng)致發(fā)光器件以及使用該掩模制造場(chǎng)致發(fā)光器件的方法。
所披露的用于沉積的掩模包括條帶圖案的狹槽，其以預(yù)定的間隔形成在一薄片狀的主體內(nèi)部。
申請(qǐng)?zhí)枮?998-0071583的韓國(guó)專利申請(qǐng)披露了另一種網(wǎng)格狀的掩模，其包括形成在金屬薄片內(nèi)的凹槽部分和電橋部分。
申請(qǐng)?zhí)枮?000-12238的日本專利申請(qǐng)披露了另一種掩模，其包括電極掩模部分和一對(duì)終端掩模部分。電極掩模部分包括與第二電極(如，陰極)相應(yīng)的寬度，和在平行條帶上的標(biāo)記部分，以及連接該標(biāo)記兩端的連接部分。
圖1是用于大量生產(chǎn)場(chǎng)致發(fā)光層的一種掩模組件的分解示意圖。
如圖1所示，該掩模組件可包括掩模11和掩?？?2，掩模11連接到掩?？?2。掩模框12包括一開(kāi)口16，而掩模11具有一與開(kāi)口16相應(yīng)的區(qū)域。掩模11被夾持在掩?？?2上。當(dāng)其被夾持時(shí)，張力可施加到掩模11上。
掩模11可由大量單元體15形成，每一該單元體15可包括細(xì)小間距的圖案13及圖標(biāo)圖案14。這些細(xì)小間距的圖案13可包括通過(guò)在掩模上穿孔而形成的大量狹縫，以及在該狹縫間形成的條帶。圖標(biāo)圖案14也可通過(guò)在掩模上穿孔而形成，并可具有一預(yù)設(shè)的外形，例如字母，數(shù)字或其它字符或字符串。
在使用具有上述結(jié)構(gòu)的掩模沉積場(chǎng)致發(fā)光層的過(guò)程中，在真空室中掩模11通過(guò)其第一電極與基片的表面相接觸。有機(jī)物氣體從容納有機(jī)物的坩鍋中蒸發(fā)出來(lái)，并穿透具有細(xì)小間距的圖案12及圖標(biāo)圖案14，并以一預(yù)設(shè)的形狀沉積在基片(未顯示)上。
正如前文所述，由于掩模11是以細(xì)小間距的圖案13和圖標(biāo)圖案14同時(shí)形成的方式制造的，因而產(chǎn)生了一些問(wèn)題。通常，如果一顯示器具有相同的尺寸，無(wú)需改變具有細(xì)小間距的圖案13的設(shè)計(jì)。但是，圖標(biāo)圖案14的設(shè)計(jì)可能根據(jù)用戶的需求而經(jīng)常被更改。因此整個(gè)掩模11每次都要隨著圖標(biāo)圖案14的更改而進(jìn)行更改。這既增加了生產(chǎn)成本，又延長(zhǎng)了生產(chǎn)周期。而且，即使圖標(biāo)圖案14是相同的，但其顏色不同，與這些顏色相應(yīng)的掩模數(shù)量不得不增加，這將導(dǎo)致上述同樣的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一改進(jìn)的用于沉積場(chǎng)致發(fā)光層的掩?？蚪M件。該掩?？蚪M件包括一具有細(xì)小間距圖案的主掩模和另一具有圖標(biāo)圖案的可分離的掩模。
本發(fā)明還提供了一使用掩?？蚪M件沉積場(chǎng)致發(fā)光層的方法，該掩?？蚪M件包括細(xì)小間距圖案的主掩模和另一具有圖標(biāo)圖案的可分離的掩模。
最后，本發(fā)明還提供了一掩?？蚪M件，其用于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的薄層。該掩模組件可包括一主掩模，該主掩模上具有與大量單元體相對(duì)應(yīng)的圖案，以及一設(shè)置在該主掩模上的圖標(biāo)掩模。該圖標(biāo)掩?？杀辉O(shè)計(jì)成相應(yīng)于形成在主掩模上的一個(gè)或多個(gè)開(kāi)口，同時(shí)該圖標(biāo)掩模本身也可具有圖標(biāo)圖案。該掩模組件還可包括一具有開(kāi)口的掩模框，該掩?？蛐纬捎幸幌鄳?yīng)于主掩模的開(kāi)口。該主掩模和圖標(biāo)掩模可被連接到所述掩?？?。
根據(jù)本發(fā)明的一方面，主掩?？杀贿B接到掩模框，而圖標(biāo)掩?？刹鹦兜乇贿B接到掩?？?。
本發(fā)明還提供了一種通過(guò)使用適合于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光物質(zhì)的掩?？蚪M件沉積一薄膜層的方法。該方法可包括制備一主掩模，該主掩模具有與單元體相應(yīng)的圖案，并在該圖案的至少一側(cè)上具有開(kāi)口；將主掩模連接到掩?？?；可拆卸地連接一與主掩模的一個(gè)開(kāi)口相對(duì)應(yīng)的圖標(biāo)掩模(其具有圖標(biāo)圖案)；將包含有主掩模及圖標(biāo)掩模的掩?？蚪M件安裝到一真空室內(nèi)；將已蒸發(fā)的有機(jī)物沉積到基片上，該基片大體上接觸于所述掩?？蚪M件。


圖1是傳統(tǒng)掩?？蚪M件的分解示意圖，該組件用于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的場(chǎng)致發(fā)光層。
圖2是根據(jù)本發(fā)明的掩?？蚪M件的分解示意圖，該組件用于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的場(chǎng)致發(fā)光層。
圖3示出了使用圖2所示的掩模框組件沉積一薄層的方法。
具體實(shí)施例方式
如圖2所示，本發(fā)明的掩?？蚪M件可包括一主掩模21，其形成有與每一所需的單元體相對(duì)應(yīng)的圖案23；圖標(biāo)掩模31，其分別設(shè)置在形成于主掩模21的開(kāi)口27上，并且其包括圖標(biāo)圖案32；以及一掩?？?2，其形成有與主掩模21相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口26。如圖所示，掩模框22可被連接到掩模21及圖標(biāo)掩模31上。
主掩模21可形成有大量圖案23及大量開(kāi)口27。每一圖案23可形成為一單元體。可從顯示為“A”的圖案23的放大圖看出，圖案23可包括大量平行的狹縫35，所有這些狹縫可通過(guò)對(duì)主掩模21進(jìn)行穿孔(或圖案化)而形成，結(jié)果，大量條帶36也形成在狹縫35之間。有機(jī)物質(zhì)可通過(guò)狹縫35被沉積在基片(未顯示)上，該基片設(shè)置在主掩模21之下。主掩模21可通過(guò)焊接或其它適宜的方法被連接到掩模框22上。
開(kāi)口27可成行地形成在圖案組23之間。如圖1所示，開(kāi)口27所形成的位置可與圖標(biāo)圖案14所期望的位置相對(duì)應(yīng)。形成在主掩模21內(nèi)的開(kāi)口27可以下述方式形成，即當(dāng)圖標(biāo)掩模31被設(shè)置在開(kāi)口27內(nèi)(或上)時(shí)，開(kāi)口27不會(huì)影響通過(guò)圖標(biāo)掩模31對(duì)有機(jī)物質(zhì)的放置。
如圖中所示，每一圖標(biāo)掩模31可與各自的開(kāi)口27相對(duì)應(yīng)。圖標(biāo)掩模31可形成有大量圖標(biāo)圖案32。一組圖標(biāo)圖案32可指定給每一圖案23。圖標(biāo)掩模31可被設(shè)置成相應(yīng)于主掩模31的開(kāi)口27。圖標(biāo)掩模21的兩端可被可拆卸的夾持到掩模框22的夾持點(diǎn)33上。很多方式可被用于夾持。例如可通過(guò)一系列具有可靠夾持力的夾具來(lái)完成。其它適合的可拆卸的連接技術(shù)也可被使用。
形成在圖標(biāo)掩模31上的圖標(biāo)圖案32，其形狀可依據(jù)用戶的需求和其它原因進(jìn)行更改。例如，當(dāng)一用戶要求一種新的模型(圖標(biāo)的變化與模型的變化相一致)時(shí)，只需簡(jiǎn)單地更換圖標(biāo)掩模31而無(wú)需更換整個(gè)主掩模21是可能的。而且，為了從圖標(biāo)圖案32獲得顏色并處理這種顏色的變化，用于沉積的圖標(biāo)掩模可不同，其包括例如紅色，綠色及藍(lán)色。
如圖3所示，掩?？蚪M件100可被固定到一桌子150上，該桌子150安裝在一真空室(未顯示)內(nèi)。為了沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的紅色、綠色、藍(lán)色薄層，掩?？蚪M件100可被安裝到與包含有機(jī)物質(zhì)的坩鍋202相對(duì)的方向上，并且一基片300用于接收沉積物?；?00可被一磁體單元400擠壓，該磁體單元可用于放置掩?？蚪M件100并使其與基片300相接觸。通過(guò)使用該方法，掩模21可緊密地接觸基片300。
一旦掩模被初始化，坩鍋202中的有機(jī)物質(zhì)蒸發(fā)并沉積到基片300的暴露部分上。蒸發(fā)的有機(jī)物質(zhì)可通過(guò)形成在主掩模21上的圖案以及形成在圖標(biāo)圖案31上的圖標(biāo)圖案沉積。
在本發(fā)明中，用于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件薄層的掩?？蚪M件可包括一分隔的主掩模和圖標(biāo)掩模。于是，改變圖標(biāo)圖案，再設(shè)計(jì)以及僅更換該裝置的圖標(biāo)圖案部分是可能的。相應(yīng)地，用于生產(chǎn)的時(shí)間及成本可被減小。而且，它也能即時(shí)滿足用戶的需求，提高生產(chǎn)率。
盡管參照本發(fā)明的示例性實(shí)施例對(duì)其作出了詳細(xì)說(shuō)明和描述，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解，在不偏離本發(fā)明下述權(quán)利要求的宗旨和范圍的前提下，本發(fā)明在形狀和部件上可作各種改變。
權(quán)利要求
1.一種用于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的一個(gè)或多個(gè)薄層的掩?？蚪M件，包括一主掩模，其具有相應(yīng)于大量單元體的圖案，在該圖案上設(shè)置有一開(kāi)口；一圖標(biāo)圖案承載掩模，其具有相應(yīng)于圖標(biāo)的圖案；其中該圖標(biāo)圖案承載掩模設(shè)置在主掩模上，并與形成在所述主掩模上的開(kāi)口相對(duì)應(yīng)；以及一掩模框，其形成有與主掩模相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口，并被連接到所述主掩模和所述圖標(biāo)圖案承載掩模。
2.如權(quán)利要求1所述的掩?？蚪M件，其特征在于，所述主掩模被直接連接到所述掩?？?，并且所述圖標(biāo)圖案承載掩模被可拆卸地連接到所述掩?？颉?br> 3.如權(quán)利要求2所述的掩模組件，其特征在于，所述圖標(biāo)圖案承載掩模通過(guò)夾具被可拆卸的連接。
4.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述圖標(biāo)圖案承載掩模適合于制作相應(yīng)于幾何外形的圖案圖標(biāo)。
5.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述圖標(biāo)圖案承載掩模適合于制作相應(yīng)于字符的圖標(biāo)圖案。
6.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述主掩模被焊接到所述掩模框組件。
7.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述圖案為穿孔圖案。
8.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述圖標(biāo)是基于用戶需求而選定的。
9.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述掩?？虮恢苯舆B接到所述主掩模及所述圖標(biāo)圖案承載掩模。
10.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其特征在于，所述掩?？虮恢苯舆B接到所述主掩模，并被間接連接到所述圖標(biāo)圖案承載掩模。
11.一種使用適合于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光的掩?？蚪M件沉積一個(gè)或多個(gè)薄層的方法，包括形成一主掩模，該主掩模具有與大量單元體相對(duì)應(yīng)的圖案，并且在該圖案的一個(gè)或多個(gè)邊上具有開(kāi)口；將所述主掩模連接到一掩模框；形成一具有圖標(biāo)圖案的圖標(biāo)掩模；放置與主掩模的開(kāi)口相對(duì)應(yīng)的圖標(biāo)掩模；可拆卸將圖標(biāo)掩模連接到主掩模；以及將包含所述主掩模和所述圖標(biāo)掩模的掩?？蚪M件安裝到一真空室內(nèi)；放置一大體上接觸所述掩?？蚪M件的基片；以及將蒸發(fā)的有機(jī)物質(zhì)沉積到所述基片上。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，主掩模連接到掩?？虬▽⒅餮谀：附拥窖谀？?。
13.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，圖標(biāo)掩?？刹鹦兜剡B接到主掩模包括將圖標(biāo)掩模夾持到主掩模。
14.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成一具有圖標(biāo)圖案的圖標(biāo)掩模包括形成相應(yīng)于幾何外形的圖標(biāo)圖案。
15.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成一具有圖標(biāo)圖案的圖標(biāo)掩模包括形成相應(yīng)于字符的圖標(biāo)圖案。
16.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成一具有圖案的主掩模包括在所述掩模上穿孔。
17.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成一具有圖標(biāo)圖案的圖標(biāo)掩模包括在所述掩模上制作圖標(biāo)圖案穿孔。
18.如權(quán)利要求11所述的方法，進(jìn)一步包括基于用戶需求選擇圖標(biāo)圖案。
19.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述掩?？蚪M件被直接連接到所述主掩模及所述圖標(biāo)圖案承載掩模。
20.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述掩?？虮恢苯舆B接到所述主掩模，并被間接地連接到所述圖標(biāo)圖案承載掩模。
全文摘要
本發(fā)明披露了一種掩模框組件，其用于沉積有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件的薄層。該掩?？蚪M件包括以下幾個(gè)部分一主掩模，其形成有與大量單元體相對(duì)應(yīng)的圖案；一圖標(biāo)掩模(具有圖標(biāo)圖案)，其設(shè)置在主掩模上并相應(yīng)于主掩模的一個(gè)或多個(gè)開(kāi)口；以及一掩模框，其形成有相應(yīng)于所述主掩模的開(kāi)口，并被連接到所述主掩模和圖標(biāo)掩模。
文檔編號(hào)H05B33/10GK1607868SQ20041008746
公開(kāi)日2005年4月20日 申請(qǐng)日期2004年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月4日
發(fā)明者金鮮喜 申請(qǐng)人:三星Oled株式會(huì)社