專利名稱：化學發(fā)光數字成像分析系統的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種化學發(fā)光數字成像分析系統。
背景技術：
化學發(fā)光是較微弱的紫外光及近紫外光，波長在425nm左右，平均發(fā)光時間在30分鐘內，光強非常弱，檢測分析難度大。傳統的檢測分析方法是用“膠片法”，即被測樣品在暗室里通過長時間的在X光膠片上曝光(一般在5分鐘左右)，獲取被測物化學發(fā)光樣本印跡，用藥水沖洗后將膠片放在電子掃描儀里進行掃描，然后傳送給計算機進行定量分析，整個工作流程需要1-2個小時，并且難以掌握最佳曝光時間值。因此，此分析法分析準確性差，速度慢，整個過程全靠人工掌握。
現有的用戶化學發(fā)光分析儀器，采用光電倍增管作檢測器，其原理是將被測物加入試劑中產生化學發(fā)光，直接照在光電倍增管上產生電流，其電流的大小反映出被測物的發(fā)光強度，使其達到檢測分析的目的。
這種分析儀有兩個缺點一是只能實現單樣本檢測(一次只能檢測一個樣本)；二是結果容易受光電倍增管電路自身影響，因此穩(wěn)定性差。

發(fā)明內容
本實用新型所要解決的技術問題是針對現有技術存在的不足而提供一種穩(wěn)定性好、多樣本檢測的化學發(fā)光數字成像分析系統。
本實用新型為解決上述提出的問題所采用的技術方案為它包括暗箱1、計算機8，圖形捕捉卡9，其特征在于在暗箱1內安設有自制冷CCD數字成像裝置3和樣本托盤5，自制冷CCD數字成像裝置的變焦鏡頭4與樣本托盤相對應。
按上述方案，所述的樣本托盤5上分布有樣本檢測位2～96個。
按上述方案，所述的自制冷CCD數字成像裝置3的灰度等級為12比特，分辨率為1392×1040像素。
按上述方案，所述的自制冷CCD數字成像裝置3通過1394連接線7與圖形捕捉卡連接。
按上述方案，所述的自制冷CCD數字成像裝置上安設有散熱器2。
按上述方案，所述的暗箱內壁采用吸能隔熱材料，其外殼采用ABS工程塑料。
要提高成像效果，必須提高信噪比，提高信噪比的方法是把CCD檢測器中的樣本信號進行較長時間的光積分，這在常溫下無法實現，因為若積分時間過長，CCD數字檢測器中的熱噪聲足以在幾秒內把勢阱位填滿，若想得到足夠光電荷，又要抑制熱噪聲，通常要使CCD檢噪聲足以在幾秒內把勢阱位填滿，若想得到足夠光電荷，又要抑制熱噪聲，通常要使CCD檢測器在低溫條件下工作，溫度越低，其熱噪聲也越小。一般來說，每降低10℃，熱噪聲減半。為了保證微弱光信號的檢測，可以采取屏蔽外部熱源，阻擋外部環(huán)境的干擾，因此暗箱內壁采用吸能隔熱材料，外殼采用ABS工程塑料一次成型鑄造等措施，在一定程度上提高了信噪比。
在分析軟件設計方面，采取了標準形狀選擇法，自由路徑選擇法以及樣本自動搜索補償等算法，提高了分析準確度和分析速度。
本實用新型的工作原理是將被測樣品加入試劑盒中置于托盤上產生化學發(fā)光，利用控制軟件控制自制冷CCD數字成像裝置獲得被測樣本印跡圖像，通過分析軟件對印跡圖像的發(fā)光強度作相關分析和圖像優(yōu)化，計算出樣本被測組分的含量，并同時與樣本數據庫作對比，得出結果。
本實用新型的有益效果在于1.采用了自制冷CCD數字成像裝置，提高了系統檢測的穩(wěn)定性；2.由于樣品托盤分布有多個樣本檢測位，可實現多樣本檢測，提高了檢測的效率；3.暗箱內壁采用吸能隔熱材料，其外殼采用ABS工程塑料，使被測樣本的微弱發(fā)光量，幾乎不受暗箱外部光源和環(huán)境熱噪聲的影響，提高了系統靈敏度；
圖1為本實用新型組成示意圖。
圖2為本實用新型工作原理流程圖。
具體實施方式
以下結合附圖進一步說明本實用新型的實施例。
如圖1所示，本實用新型包括暗箱1、計算機8、圖形捕捉卡9、在暗箱1內安設有自制冷CCD數字成像裝置3和樣本托盤5，自制冷CCD數字成像裝置3上方安設有散熱器2，自制冷CCD數字成像裝置的變焦鏡頭4與樣本托盤5相對應，樣本托盤上等距離間隔分布有樣本檢測位6為96個，可將樣本置于相應樣本檢測位，暗箱內壁采用吸能隔熱材料，其外殼采用ABS工程塑料一次成型鑄造。計算機包括主機、鼠標16、鍵盤17、顯示器15，其中顯示器15與主機連接成一體，主機內部配置為顯卡10、40G硬盤11、奔三600CPU 12、128兆內存13，自制冷CCD數字成像裝置3通過1394連接線7與主機的圖形捕捉卡連接，顯示器15通過VGA連接線14與主機上的顯卡連接，主機還連接有一打印機18，計算機主機內裝載有系統軟件，所述的系統軟件包括控制軟件和分析軟件，利用控制軟件控制自制冷CCD數字成像裝置獲得被測樣本印跡圖像，通過分析軟件對印跡圖像的發(fā)光強度作相關分析和圖像優(yōu)化。
如圖2所示，本實用新型的工作原理是將被測樣品加入試劑盒中置于托盤上的樣本檢測位內產生化學發(fā)光，利用控制軟件控制自制冷CCD數字成像裝置獲得被測樣本印跡圖像，通過分析軟件對印跡圖像的發(fā)光強度作相關分析和圖像優(yōu)化，計算出樣本被測組分的含量，并同時與樣本數據庫作對比，得出結果。
權利要求1.化學發(fā)光數字成像分析系統，包括暗箱(1)、計算機(8)，圖形捕捉卡(9)，其特征在于在暗箱(1)內安設有自制冷CCD數字成像裝置(3)和樣本托盤(5)，自制冷CCD數字成像裝置的變焦鏡頭(4)與樣本托盤相對應。
2.按權利要求1所述的化學發(fā)光數字成像分析系統，其特征在于所述的樣本托盤(5)上分布有樣本檢測位(6)2～96個。
3.按權利要求1或2所述的化學發(fā)光數字成像分析系統，其特征在于所述的自制冷CCD數字成像裝置(3)的灰度等級為12比特，分辨率為1392×1040像素。
4.按權利要求1或2所述的化學發(fā)光數字成像分析系統，其特征在于所述的自制冷CCD數字成像裝置(3)通過1394連接線(7)與圖形捕捉卡連接。
5.按權利要求1或2所述的化學發(fā)光數字成像分析系統，其特征在于所述的自制冷CCD數字成像裝置上安設有散熱器(2)。
6.按權利要求1或2所述的化學發(fā)光數字成像分析系統，其特征在于所述的暗箱內壁采用吸能隔熱材料，其外殼采用ABS工程塑料。
專利摘要本實用新型涉及一種化學發(fā)光數字成像分析系統，包括暗箱(1)、計算機(8)，圖形捕捉卡(9)，其特征在于在暗箱(1)內安設有自制冷CCD數字成像裝置(3)和樣本托盤(5)，自制冷CCD數字成像裝置的變焦鏡頭(4)與樣本托盤相對應。本實用新型的有益效果在于1.采用了自制冷CCD數字成像裝置，提高了系統檢測的穩(wěn)定性；2.由于樣品托盤分布有多個樣本檢測位，可實現多樣本檢測，提高了檢測的效率；3.暗箱內壁采用吸能隔熱材料，其外殼采用ABS工程塑料，使被測樣本的微弱發(fā)光量，幾乎不受暗箱外部光源和環(huán)境熱噪聲的影響，提高了系統靈敏度。
文檔編號G12B15/00GK2720435SQ20042007620
公開日2005年8月24日 申請日期2004年8月3日 優(yōu)先權日2004年8月3日
發(fā)明者王夢亮, 周際, 郭峰, 王章新 申請人:湖北資訊信息科技有限公司