專利名稱：可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于光學(xué)晶體生長設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，高頻或者中頻感應(yīng)真空晶體生長爐是由爐體、爐門構(gòu)成，爐中有感應(yīng)線圈，另有抽真空裝置。盛有生長晶體用的原料的坩堝置于感應(yīng)線圈中，坩堝由金屬制作，通過感應(yīng)而發(fā)熱，給其中的原料加熱。生長爐工作時，爐門緊閉，爐內(nèi)抽真空。爐門由金屬制作，有循環(huán)水冷卻。爐門中部安裝有觀察窗，就是一塊在垂直方向上鑲嵌在爐門上的條狀玻璃，操作者透過該觀察窗隨時掌握爐內(nèi)的情況，控制晶體的生長全過程。

發(fā)明內(nèi)容
現(xiàn)有技術(shù)存在的問題是，有些生長晶體的原料在真空下加熱會產(chǎn)生非常嚴(yán)重的揮發(fā)，部分揮發(fā)物粘附在觀察窗內(nèi)側(cè)表面上，嚴(yán)重影響視線。而在生長過程中由于爐內(nèi)呈真空狀態(tài)，不能打開爐門清理觀察窗上的揮發(fā)物。為了能夠在真空晶體生長爐工作過程中隨時清理觀察窗內(nèi)側(cè)表面粘附的揮發(fā)物，我們設(shè)計了本實(shí)用新型之可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗。
本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的，見圖1、圖2所示，在爐門1中部垂直方向上開出條狀窗口，鑲嵌觀察窗玻璃2，玻璃2的厚度薄于爐門1的厚度，并在爐門1厚度方向上居中，在爐門1內(nèi)、外兩側(cè)分別形成槽形空間，在這兩個槽形空間中分別放置一個磁性滑塊3、4，二者在磁力的作用下相對吸附在玻璃2的內(nèi)、外兩側(cè)，在爐門1內(nèi)側(cè)的觀察窗部位安裝一塊條狀保持架5，在保持架5中間也開有條狀窗口，該窗口二維方向上的尺寸小于觀察窗窗口的尺寸，這樣的話，它在將滑塊3保持在槽形空間內(nèi)的同時，不至于遮擋視線，在玻璃2外側(cè)上拉動滑塊4，玻璃2內(nèi)側(cè)的滑塊3隨之在玻璃2內(nèi)側(cè)表面滑動，由其與玻璃2接觸的邊緣將玻璃2內(nèi)表面粘附的揮發(fā)物除去。
根據(jù)以上設(shè)計，可以完全解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題。在拉動滑塊4帶動滑塊3祛除粘附的揮發(fā)物的過程中，不必打開爐門1，可以隨時進(jìn)行?；瑝K3、4之間沒有連接物，不論是在靜止還是在移動過程中，都不會在爐門1內(nèi)外存在任何導(dǎo)通，從而影響真空度。只需在生長爐停止工作后，清理爐門1內(nèi)側(cè)的槽形空間和滑塊3即可。


圖1是本實(shí)用新型之觀察窗內(nèi)側(cè)主視示意圖。圖2是本實(shí)用新型之觀察窗在軸線A-A方向上的剖面左視示意圖。圖3是圖2的局部，用作摘要附圖。
具體實(shí)施方式
見圖1、圖2所示，在爐門1中部垂直方向上開出條狀窗口，鑲嵌觀察窗玻璃2，玻璃2的厚度薄于爐門1的厚度，并在爐門1厚度方向上居中，爐門1的厚度d1為30mm，玻璃2的厚度d2為10mm。于是在爐門1內(nèi)、外兩側(cè)分別形成一個形狀、尺寸相同的槽形空間，槽形空間的厚度d3為10mm。在這兩個槽形空間中分別放置一個磁性滑塊3、4，二者在磁力的作用下相對吸附在玻璃2的內(nèi)、外兩側(cè)。磁性滑塊3、4材質(zhì)、形狀、尺寸相同。材質(zhì)為釹鐵硼，其磁能積在400KJ·m-3以上，工作溫度為150℃，形狀為圓柱形，尺寸為φ30×10。在爐門1內(nèi)側(cè)的觀察窗部位安裝一塊條狀保持架5，在保持架5中間也開有條狀窗口，該窗口二維方向上的尺寸小于觀察窗窗口的尺寸，這樣的話，它在將滑塊3保持在槽形空間內(nèi)的同時，不至于遮擋視線。保持架5上的窗口寬度D1為25mm，觀察窗窗口的寬度D2為30mm。滑塊3、4在槽形空間中與玻璃2、保持架5以及觀察窗窗口兩側(cè)呈動配合狀態(tài)。在玻璃2外側(cè)上拉動滑塊4，玻璃2內(nèi)側(cè)的滑塊3隨之在玻璃2內(nèi)側(cè)表面滑動，由其與玻璃2接觸的邊緣將玻璃2內(nèi)表面粘附的揮發(fā)物除去。
權(quán)利要求1.一種可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗，位于高頻或者中頻感應(yīng)真空晶體生長爐爐門中部，鑲嵌在爐門上，呈條狀，垂直方向長，透過觀察窗玻璃可以觀察爐內(nèi)晶體的生長情況，其特征在于，玻璃(2)的厚度薄于爐門(1)的厚度，并在爐門(1)厚度方向上居中，在爐門(1)內(nèi)、外兩側(cè)分別有槽形空間，在這兩個槽形空間中各有一個磁性滑塊(3、4)，二者相對處在玻璃(2)的內(nèi)、外兩側(cè)，在爐門(1)內(nèi)側(cè)的觀察窗部位有一塊條狀保持架(5)，在保持架(5)中間也開有條狀窗口，該窗口二維方向上的尺寸小于觀察窗窗口的尺寸，保持架(5)將滑塊(3)保持在槽形空間內(nèi)，滑塊(4)能夠在玻璃(2)外側(cè)移動，滑塊(3)能夠在玻璃(2)內(nèi)側(cè)表面隨之滑動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗，其特征在于，磁性滑塊(3、4)材質(zhì)為釹鐵硼，其磁能積在400KJ·m-3以上，工作溫度為150℃，形狀為圓柱形，尺寸為φ30×10。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗，其特征在于，滑塊(3、4)在槽形空間中與玻璃(2)、保持架(5)以及觀察窗窗口兩側(cè)呈動配合狀態(tài)。
專利摘要可自行除去揮發(fā)物的真空晶體生長爐觀察窗屬于光學(xué)晶體生長設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域?，F(xiàn)有的真空晶體生長爐觀察窗沒有任何清除揮發(fā)物的裝置，在拉制晶體的過程中無法除去粘附在觀察窗內(nèi)壁上的揮發(fā)物，影響觀察。本實(shí)用新型是在觀察窗內(nèi)外兩側(cè)安放一對磁性滑塊，二者在磁力的作用下相對吸附在觀察窗的內(nèi)、外兩側(cè)。在觀察窗內(nèi)側(cè)安裝一塊保持架，該保持架將內(nèi)側(cè)磁性滑塊保持在槽形空間內(nèi)，保持架上也開有窗口，與觀察窗窗口相對。在真空晶體生長爐工作過程中，可以隨時拉動外側(cè)磁性滑塊，帶動內(nèi)側(cè)磁性滑塊清理觀察窗上的揮發(fā)物。本實(shí)用新型可應(yīng)用于高頻或者中頻感應(yīng)真空晶體生長設(shè)備領(lǐng)域。
文檔編號C30B35/00GK2844146SQ20052012190
公開日2006年12月6日 申請日期2005年9月22日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月22日
發(fā)明者李建利, 曾繁明, 萬玉春, 關(guān)效賢, 孫晶, 劉景和 申請人:長春理工大學(xué)