專利名稱：發(fā)光裝置、發(fā)光裝置的制作方法、以及電子機器的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種發(fā)光裝置以及其制造方法、和具備該發(fā)光裝置的電子機器。
背景技術(shù)：
近年來，隨著信息機器的多樣化等，對消耗電力少且已被輕型化的平面顯示裝置的需求正在提高。作為這樣的平面顯示裝置之一，已知有具備發(fā)光層的有機EL裝置。這樣的有機EL裝置，一般為在陽極和陰極之間具備發(fā)光層的構(gòu)成。進而，為了提高空穴注入性或電子注入性，提出了在陽極和發(fā)光層之間配置空穴注入層的構(gòu)成、或在發(fā)光層和陰極之間配置了電子注入層的構(gòu)成。
在有機EL裝置的發(fā)光層、空穴注入層、電子注入層中采用的材料，大多容易與大氣中的水分發(fā)生反應而劣化。若這些層產(chǎn)生劣化，則有機EL裝置中形成被稱作黑斑(dark spot)的非發(fā)光區(qū)域，導致作為發(fā)光元件的壽命變短。因此，在這樣的有機EL裝置中，成為抑制水分或氧等的影響的問題。
為了解決這樣的問題，一般采用將有機EL裝置的基板與由玻璃或金屬組成的密封部件膠粘而防止水分或氧的浸入的方法。但是，隨著顯示器的大型化以及薄型化/輕型化，難以僅由已膠粘的密封部件防止水分或氧的浸入。而且，還提出為了隨著大型化充分確保形成驅(qū)動元件或布線的面積，有必要使用從密封部件側(cè)取出光的頂部發(fā)射構(gòu)造。為了滿足這樣的需求，要求使用了透明且輕型、耐強度性優(yōu)良的薄膜的密封構(gòu)造。
因此，近年來，為了與顯示裝置的大型化以及輕型化對應，使用在發(fā)光元件上通過高密度等離子體成膜法(例如，離子鍍膜、ECR等離子體濺射、ECR等離子體CVD、表面波等離子體CVD、ICP-CVD等)使透明且阻氣性優(yōu)良的硅氮化物、硅氧化物、陶瓷等的薄膜成膜并作為阻氣層的被稱之為薄膜密封的技術(shù)(例如，專利文獻1～4)。通過這樣的技術(shù)，能夠防止水分向發(fā)光元件的侵入。
然而，即使在采用這樣的技術(shù)的情況下，也不能徹底防止來自外部的水分的浸入，無法得到足夠的發(fā)光特性或發(fā)光壽命。尤其是在阻氣層的外周部或者段差部，產(chǎn)生剝離或裂紋后，斷定水分會由此浸入。
因此，考慮通過在阻氣層的下層側(cè)配置具有大致平坦的上面的有機緩沖層，防止在阻氣層產(chǎn)生裂紋。即，通過該有機緩沖層能夠使因基板的翹曲或體積膨脹產(chǎn)生的應力緩和。進而，通過使有機緩沖層的上面大致平坦化，在有機緩沖層的上面配置的阻氣層也被平坦化，因此消去應力在阻氣層集中的部分，能夠防止裂紋的發(fā)生。
然而，在有機緩沖層產(chǎn)生熱變形(膨脹以及收縮)之際，由于在阻氣層產(chǎn)生裂紋，因此存在不能徹底防止來自外部的水分浸入的問題。
專利文獻1特開平9-185994號公報專利文獻2特開2001-284041號公報專利文獻3特開2002-223264號公報專利文獻4特開2003-17244號公報發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明正是是鑒于上述情況而完成的發(fā)明，其目的在于，提供一種對因阻氣層的剝離或裂紋引起的水分的浸入進行抑制的發(fā)光裝置及其制造方法、和電子機器。
在本發(fā)明的發(fā)光裝置，發(fā)光裝置的制造方法、以及電子機器中，為了解決上述問題而采用以下方法發(fā)明之一是一種發(fā)光裝置，在基體上具有多個第一電極；具有與上述第一電極的形成位置對應的多個開口部的隔壁；在上述各個開口部配置的有機功能層；覆蓋上述隔壁以及上述有機功能層的第二電極；覆蓋上述第二電極的有機緩沖層；按照覆蓋上述有機緩沖層的圖案以及其周圍的方式延伸配置的阻氣層；和按照覆蓋上述有機緩沖層的外周區(qū)域的方式配置的外殼加強層。
根據(jù)本發(fā)明，即使有機緩沖層產(chǎn)生熱變形(膨脹和收縮)，由于在與阻氣層之間配置中間保護層，故有機緩沖層的變形的影響不會直接傳遞給阻氣層，能夠防止阻氣層中裂紋等缺陷的發(fā)生。尤其是，由于在覆蓋有機緩沖層的圖案端面周邊的阻氣層，容易產(chǎn)生裂紋等缺陷，因此通過在該區(qū)域配置中間保護層，能夠有效防止阻氣層中裂紋等缺陷的發(fā)生。
另外，上述外殼加強層是按照將上述有機緩沖層的圖案的端部的周邊覆蓋的方式被配置，由于在覆蓋有機緩沖層的圖案的端面周邊的阻氣層容易產(chǎn)生裂紋等缺陷，因此通過在該區(qū)域配置外殼加強層，能夠有效防止阻氣層中裂紋等缺陷的發(fā)生。
另外，上述外殼加強層是按照覆蓋上述阻氣層的圖案的外周區(qū)域及其周圍覆蓋的方式被延伸配置，通過在該區(qū)域配置外殼加強層，能夠有效防止阻氣層中裂紋等缺陷的產(chǎn)生。
另外，具有將上述第二電極覆蓋的電極保護層，能夠防止制造加工過程中第二電極的腐蝕或破壞。
再，具有將上述阻氣層覆蓋的保護層，能夠保護阻氣層免受來自外部的機械沖擊的影響。
另外，上述有機緩沖層的端部的接觸角度形成為45°以下，有機緩沖層的熱變形(膨脹以及收縮)給阻氣層的影響得到緩和，因此能夠大幅降低在阻氣層產(chǎn)生裂紋等缺陷的可能性。
另外，上述外殼加強層是由樹脂形成，能夠容易地對加強阻氣層的力進行調(diào)整。
另外，上述外殼加強層含有微粒，可以調(diào)節(jié)形成外殼加強層的材料的流動性，能夠容易地在斜面形成外殼加強層。另外，外殼加強層在被膜形成時或相對于溫度變化難以出現(xiàn)體積變化，能夠降低給阻氣層的負擔。
另外，上述外殼加強層和上述有機緩沖層是由同一樹脂組成，能夠?qū)Σ牧腺M或形成工序進行效率化。
另外，上述保護層是按照使上述外殼加強層的外周區(qū)域露出的方式被配置，由于外殼加強層具有向阻氣層的側(cè)面保護功能和在保護層形成時的溢出防止功能，因此能夠使保護層的形成區(qū)域在需要的最小限度。
另外，上述保護層是由覆蓋上述阻氣層的膠粘層、和表面保護基形成，能夠使表面保護基板的形成區(qū)域在需要的最小限度。
發(fā)明之二為一種發(fā)光裝置的制造方法，具有在基體上，形成多個第一電極的工序；形成具有多個開口部的隔壁的工序，其中所述的多個開口部與上述第一電極的形成位置對應；形成在上述各個開口部分別配置的有機功能層的工序；形成覆蓋上述隔壁以及上述有機功能層的第二電極的工序；形成將上述第二電極覆蓋同時形成平坦的上面的有機緩沖層的工序；形成將上述有機緩沖層覆蓋的阻氣層的工序；形成將上述阻氣層的至少外周區(qū)域覆蓋的外殼加強層的工序。
根據(jù)本發(fā)明，由于將阻氣層的外周區(qū)域加強，因此即使在有機緩沖層產(chǎn)生熱變形(膨脹、收縮)的情況下，也能夠有效防止阻氣層中裂紋等缺陷的產(chǎn)生。
另外，形成上述外殼加強層的工序，包括將含有微粒的有機材料涂部在上述阻氣層的至少外周區(qū)域的工序，由于調(diào)節(jié)形成外殼加強層的材料的流動性，因此能夠容易地在斜面形成外殼加強層。另外，外殼加強層在被膜形成時或相對于溫度變化難以引起體積變化，能夠降低給阻氣層的負擔。
另外，具有按照使上述外殼加強層的外周區(qū)域露出的方式形成覆蓋上述阻氣層以及上述外殼加強層的保護層的工序，由于外殼加強層具有對阻氣層的側(cè)面保護功能和保護層形成時的溢出防止功能，因此能夠使保護層的形成區(qū)域在需要的最小限度。
另外，形成上述保護層的工序包括形成將上述阻氣層以及上述外殼加強層的一部分覆蓋的膠粘層的工序；在上述膠粘層上配置表面保護基板的工序；和沿著上述膠粘層的大致外周將上述表面保護基板切斷的工序。如此，能夠使表面保護基板的形成區(qū)域在需要的最小限度。
發(fā)明之三是使電子機器具備上述發(fā)光裝置。根據(jù)本發(fā)明，由于水分幾乎沒有浸入有機功能層，因此抑制有機功能層的劣化，能夠得到具備長壽命的顯示部的電子機器。


圖1為表示本發(fā)明第1實施方式的EL顯示裝置1的布線結(jié)構(gòu)的圖。
圖2為表示EL顯示裝置1的構(gòu)成的模式圖。
圖3為沿著圖2的A-B線的剖面圖。
圖4為沿著圖2的C-D線的剖面圖。
圖5為表示有機緩沖層210的端部(外周區(qū)域)的放大圖。
圖6為按工序順序表示EL顯示裝置1的制造方法的圖。
圖7為表示繼圖6之后的工序的圖。
圖8為表示保護層204的變形例的剖面圖。
圖9為用于說明主基板208的劃線方法的圖。
圖10為表示本發(fā)明的第2實施方式的EL顯示裝置2的剖面構(gòu)造的模式剖面圖。
圖11為表示本發(fā)明的實施方式的電子機器的圖。
圖中1-EL顯示裝置(發(fā)光裝置)，23-像素電極(第一電極)，30-阻氣層，50-陰極(第二電極)，60-發(fā)光層(有機功能層)，200-基體，204-保護層，205-膠粘層，206-表面保護基板，208-主基板，210-有機緩沖層，212-外殼加強層，213-微粒，221-有機隔壁層(隔壁)，221a-開口部，1000-便攜式電話(電子機器)，1100-時鐘(電子機器)，1200-信息處理裝置(電子機器)，1300-薄型大畫面電視(電子機器)、1001、1101、1206、1306-顯示部(發(fā)光裝置)具體實施方式
以下，關(guān)于本發(fā)明的發(fā)光裝置、發(fā)光裝置的制作方法、以及電子機器的實施方式，參照附圖進行說明。另外，作為發(fā)光裝置，對使用了作為有機功能材料的一例的有機電致發(fā)光(EL)材料的EL顯示裝置進行說明。
第1實施方式圖1為表示本發(fā)明的第1實施方式的EL顯示裝置1的布線構(gòu)造的圖。
EL顯示裝置1，是使用了薄膜晶體管(Thin Film Transistor，以下簡稱為TFT)作為開關(guān)元件的有源矩陣型EL顯示裝置。
另外，在以下的說明中，為了可以辨識構(gòu)成EL顯示裝置1的各個部位或各層膜，使各個的縮尺不同。
如圖1所示，EL顯示裝置(發(fā)光裝置)1，具有分別將多根掃描線101、在相對各掃描線101交叉成直角的方向上延伸的多根信號線102、和與各信號線102并列延伸的多根電源線103進行布線的構(gòu)成，同時在掃描線101與信號線102的各交點附近設置像素區(qū)域X。
在信號線102中，連接具備移位寄存器、電平移動器、視頻線路以及模擬開關(guān)的數(shù)據(jù)線驅(qū)動電路100。而且，在掃描線101中，連接具備移位寄存器以及電平移動器的掃描線驅(qū)動電路80。
另外，在各個像素區(qū)域X中，設置開關(guān)用TFT 112，其通過掃描線101向柵電極供給掃描信號；保持電容器113，其對通過該開關(guān)用TFT 112從信號線102供給的像素信號進行保持；驅(qū)動用TFT 123，其向柵電極供給由該保持電容器113所保持的像素信號；像素電極(第一電極)23，其在通過該驅(qū)動用TFT 123而與電源線103電連接時，驅(qū)動電流從該電源線103流入；和功能層110，其被挾持在該像素電極23與陰極(第二電極)50之間。通過像素電極23、陰極50和功能層110，構(gòu)成發(fā)光元件(有機EL元件)。
根據(jù)該有機EL顯示裝置1，當將掃描線101驅(qū)動后使開關(guān)用TFT 112成為導通(ON)狀態(tài)時，這時的信號線102的電位被保持電容器113所保持，依據(jù)該保持電容器113的狀態(tài)，決定驅(qū)動用TFT 103的導通/截止(OFF)狀態(tài)。并且，經(jīng)由驅(qū)動用TFT 123的溝道，電流從電源線103向像素電極23流動，進而經(jīng)由功能層110向陰極50流動。功能層110，依據(jù)在其當中流動的電流量發(fā)光。
接著，關(guān)于EL顯示裝置1的具體構(gòu)成，參照圖2～圖5進行說明。
EL顯示裝置1是具備下述而構(gòu)成的有源矩陣型顯示裝置，其中，具備如圖2所示具備電絕緣性的基板20、已與開關(guān)用TFT(未圖示)連接的像素電極在基板20上被配置成矩陣狀而成的像素電極區(qū)域(未圖示)、配置在像素電極區(qū)域的周圍同時與各像素區(qū)域連接的電源線(未圖示)、和至少位于像素電極區(qū)域上的平面視大致為矩形的像素部3(圖2中的點劃線框內(nèi))。
另外，在本發(fā)明中，包括基板20與如后所述在其上面形成的開關(guān)用TFT或各種電路、以及層間絕緣膜等在內(nèi)，稱作基體(圖3、4中由符號200所示)。
像素部3被劃分成為中央部分的實顯示區(qū)域4(圖2中雙點劃線框內(nèi))、和在實顯示區(qū)域4的周圍配置的偽(dummy)區(qū)域5(點劃線和雙點劃線之間的區(qū)域)。
在實顯示區(qū)域4中，分別具有像素電極的顯示區(qū)域R、G、B，在A-B方向以及C-D方向分別離開而配置成矩陣狀。
另外，在實顯示區(qū)域4的圖2中的兩側(cè)，配置掃描線驅(qū)動電路80。這些掃描線驅(qū)動電路80被配置在偽區(qū)域5的下側(cè)。
進而，在實顯示區(qū)域4的圖2中的上側(cè)，配置檢查電路90。該檢查電路90是用于對EL顯示裝置1的動作狀況進行檢查的電路，具備檢查信息輸出機構(gòu)(未圖示)，其將例如檢查結(jié)果向外部輸出，按照能夠?qū)χ圃焱局谢蜉敵鰰r的顯示裝置的品質(zhì)、缺陷進行檢查的方式構(gòu)成。另外，該檢查電路90，也配置在偽區(qū)域5的下側(cè)。
掃描線驅(qū)動電路80以及檢查電路90的構(gòu)成是，通過驅(qū)動電壓導通部310(參照圖3)以及驅(qū)動電壓導通部340(參照圖4)從規(guī)定的電源部施加其驅(qū)動電壓。另外，從對該EL顯示裝置1的動作進行控制的規(guī)定的主傳動機構(gòu)(main driver)等，通過驅(qū)動控制信號導通部320(參照圖3)以及驅(qū)動電壓導通部350(參照圖4)，向這些掃描線驅(qū)動電路80以及檢查電路90發(fā)送以及施加驅(qū)動控制信號和驅(qū)動電壓。另外，所謂這種情況下的驅(qū)動控制信號，是來自主傳動機構(gòu)等的指令信號，該主傳動機構(gòu)與在掃描線驅(qū)動電路80以及檢查電路90輸出信號之際的控制有關(guān)。
另外，如圖3、圖4所示，EL顯示裝置1在基體200上形成許多具備像素電極23、發(fā)光層60和陰極50的發(fā)光元件(有機EL元件)，進而將它們覆蓋而形成有機緩沖層210、阻氣層30、外殼加強層212等。
其中，作為發(fā)光層60，具有代表性的是發(fā)光層(電致發(fā)光層)，具備空穴注入層、空穴輸送層、電子注入層、電子輸送層等載體注入層或者載體輸送層。另外，也可以具備空穴阻止層(空穴阻塞層)、電子阻止層。
作為構(gòu)成基體200的基板20，在是所謂頂部發(fā)射型的EL顯示裝置的情況下，由于其構(gòu)成為從作為該基板20的對向側(cè)的阻氣層30側(cè)取出發(fā)光光，因此能夠使用透明基板和不透明基板中的任一種。作為不透明基板，例如可以舉出對氧化鋁等陶瓷類、不銹鋼等金屬薄片施以表面氧化等絕緣處理的基板，另外還可以舉出熱固化性樹脂或熱塑性樹脂，進而還有其薄膜(塑料薄膜)。
另外，在是所謂的底部發(fā)射型的EL顯示裝置的情況下，由于其構(gòu)成為從基板20側(cè)取出發(fā)光光，因此作為基板20，采用透明或者半透明的基板。例如可以舉出玻璃、石英、樹脂(塑料、塑料薄膜)等，尤其適合使用玻璃基板。另外，在本實施方式中，作為從阻氣層30側(cè)取出發(fā)光光的頂部發(fā)射型，因而采用上述的不透明基板例如不透明的塑料薄膜等作為基板20。
并且，在基板20上形成電路部11，其中，所述的電路部11含有用于對像素電極23進行驅(qū)動的驅(qū)動用TFT123等，在其上面設置許多發(fā)光元件(有機EL元件)。發(fā)光元件通過依次形成發(fā)揮陽極功能的像素電極23、對來自該像素電極23的空穴進行注入/輸送的空穴輸送層70、具備有機EL材料的發(fā)光層60、和陰極50而構(gòu)成。
在這樣的構(gòu)成的基礎上，發(fā)光元件在其發(fā)光層60中，通過從空穴輸送層70注入的空穴與來自陰極50的電子進行結(jié)合而發(fā)光。
因在本實施方式中為頂部發(fā)射型，像素電極23故不需要是透明的，因此由適當?shù)膶щ姴牧闲纬伞?br> 作為空穴輸送層70的形成材料，例如使用聚噻吩衍生物、聚吡咯衍生物等、或者它們的摻雜體等。具體來說，可以通過對將3，4-聚亞乙二氧基噻吩(polyethylene dioxythiophene)/聚苯乙烯磺酸(PEDOT/PSS)分散在水中的分散液等進行涂敷以及干燥，形成空穴輸送層70。
作為用于形成發(fā)光層60的材料，可以使用能發(fā)出熒光或者磷光的公知的發(fā)光材料。具體來說，適合使用(聚)芴衍生物(PF)、(聚)對亞苯基亞乙烯基衍生物(PPV)、聚亞苯基衍生物(PP)、聚對亞苯基衍生物(PPP)、聚乙烯基咔唑(PVK)、聚噻酚衍生物，聚甲基苯基硅烷衍生物(PMPS)等聚硅烷系等。
另外，在這些高分子材料中，還可以摻雜苝(ペリレン)系色素、香豆素、堿性蕊香紅系色素等高分子系材料，或紅熒烯、苝、9，10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼羅紅、香豆素6、喹吖酮等低分子材料后使用。
其中，還可以使用以往公知的低分子材料，來代替上述高分子材料。
另外，根據(jù)需要，還可以在這樣的發(fā)光層60上形成電子注入層。
另外，在本實施方式中，如圖3、圖4所示，空穴輸送層70和發(fā)光層60，被在基體200上形成為柵格狀的親液性控制層25(未圖示)和有機隔壁層(隔壁)221所包圍而被配置，被如此包圍的空穴輸送層70以及發(fā)光層60成為構(gòu)成單一的發(fā)光元件(有機EL元件)的元件層。
另外，有機隔壁層221的開口部221a的各壁面相對于基體200表面的角度，為110度以上170度以下。之所以形成這樣的角度，是因為在通過濕法加工形成發(fā)光層60之時，容易在開口部221a內(nèi)配置。
如圖2～圖4所示，陰極50具備比實顯示區(qū)域4和偽區(qū)域5的總面積還廣的面積，按照分別將二者覆蓋的方式而形成，在覆蓋發(fā)光層60與有機隔壁層221的上面、進而覆蓋形成有機隔壁層221的外側(cè)部的壁面覆蓋的狀態(tài)下，形成在基體200上。另外，如圖4所示，該陰極50在有機隔壁層221的外側(cè)與在基體200的外周部形成的陰極用布線202連接。該陰極用布線202連接有柔性基板203，由此陰極50通過陰極用布線202與柔性基板203上的未圖示的驅(qū)動IC(驅(qū)動電路)連接。
作為用于形成陰極50的材料，因為本實施方式是頂部發(fā)射型，所以有必要具有透光性，因此使用透明導電材料。作為透明導電材料，ITO(Indium Tin Oxide，銦錫氧化物)適合，但除此之外，還可以使用例如氧化銦/氧化鋅系非晶形導電膜(Indium Zinc OxideIZO/アイ·ゼツト·オ一(注冊商標))等。另外，在本實施方式中是使用ITO。
另外，陰極50適合使用電子注入效果強的材料。例如，鈣、鎂、鈉、鋰金屬，或者它們的化合物。作為金屬化合物，適合使用氟化鈣等金屬氟化物或氧化鋰等金屬氧化物、乙酰丙酮合鈣等有機金屬絡合物。另外，只用這些材料，電阻較大而無法作為電極發(fā)揮功能，所以優(yōu)選只在非像素區(qū)域使鋁或金、銀、銅等金屬層形成圖案，或者通過層疊透明的ITO、氧化錫等金屬氧化物導電層來進行電阻的降低。另外，在本實施方式中，將氟化鋰和鎂—銀合金、ITO的層疊體調(diào)整成為可以得到透明性的膜厚后使用。
如圖3、圖4所示，在陰極50的上層部形成有陰極保護層(電極保護層)55。該陰極保護層55的設置，是為了防止由在形成有機緩沖層20時的有機溶劑或殘留水分等引起的、在制造加工時的陰極50的腐蝕或破壞。
另外，這樣的陰極保護層55，優(yōu)選難以產(chǎn)生形成后的壓縮應力的材料。優(yōu)選由硅化合物、氧化鈦等金屬化合物等無機化合物形成。
另外，作為陰極保護層55的形成方法，采用高密度等離子體成膜法、真空鍍敷法等。優(yōu)選其膜厚為30～200nm。
其中，陰極保護層55，按照與基體200的外周部的絕緣層284接觸的方式將陰極覆蓋，形成為30nm至200nm左右的厚度。
如圖2～圖4所示，在陰極保護層55的上層部，在比有機隔壁層221寬廣的范圍內(nèi)，且在覆蓋陰極50的狀態(tài)下，設置有機緩沖層210。其中，有機緩沖層210，可以是對在像素部3上形成的陰極50進行覆蓋的情況，還可以是對在基體200的外周部的陰極用布線202上形成的陰極50進行覆蓋的情況。
有機緩沖層210，受有機隔壁層221的形狀的影響，按照將形成為凹凸形狀的陰極50的凹凸部分埋入的方式被配置，進而，其上面大致平坦形成。有機緩沖層210，對因基體200的翹曲或體積膨脹產(chǎn)生的應力進行緩和，具有防止陰極50從不穩(wěn)定的有機隔壁層221剝離的功能。另外，由于有機緩沖層210的上面被大致平坦化，還由于在有機緩沖層210上形成的由硬的被膜形成的阻氣層30也被平坦化，因此沒有應力集中的部分，這樣，便防止阻氣層30中裂紋的發(fā)生。
作為形成有機緩沖層210的材料，優(yōu)選具有親油性和低吸水性的高分子材料，例如優(yōu)選聚烯烴系或者聚醚系。另外，還可以是使甲基三甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷等烷氧基硅烷水解并使其縮合的有機硅聚合物。另外，還可以采用以丙烯酰型多元醇(アクリルポリオ一ル)或甲基丙烯酰型多元醇(メタクリポリオ一ル)、聚酯型多元醇、聚醚型多元醇、聚氨酯型多元醇為主成分，將亞芐基二異氰酸酯或苯二甲基二異氰酸酯等異氰酸酯化合物聚合的高分子衍生物；或在雙酚系環(huán)氧化合物中聚合了二羧酸酐化合物或胺化合物等的高分子衍生物等。
還有，通過使用含有3-氨基丙基三甲氧基硅烷或3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷等硅烷偶合劑等硅化合物的高分子，可以提高與陰極50或阻氣層30等的無機材料的界面的膠粘性。
另外，作為形成有緩沖層210的材料，優(yōu)選在低溫下固化的材料，也可以使用以甲基丙烯酸酯樹脂或環(huán)氧樹脂等為主成分的紫外線固化型樹脂。通過采用紫外線固化型樹脂，不進行加熱處理便將有機緩沖層210成膜，因此能夠抑制因加熱給發(fā)光層60產(chǎn)生的不良影響。在這種情況下，優(yōu)選陰極保護層55由紫外線吸收材料形成，通過將例如氧化鈦或氧化鋅、銦錫氧化物(ITO)等能帶隙為2～4eV的氧化物半導體材料用于陰極保護層的至少一部分，使透過有機緩沖層210的紫外線被陰極保護層55所吸收，從而防止向有機緩沖層210照射的紫外線對發(fā)光層60產(chǎn)生不良影響。另外，還可以混入防止固化收縮的微粒等添加劑。
進而，如圖2～圖4所示，在有機緩沖層210的上層部，形成有阻氣層30。
阻氣層30用于防止氧或水分的浸入，這樣可以對因氧或水分導致的陰極50或發(fā)光層60的劣化等進行抑制。
另外，阻氣層30例如由無機化合物組成，優(yōu)選由硅化合物，即由硅氮化物或硅氧氮化物、硅氧化物等形成。進而，為了將水蒸氣等氣體阻斷，需要形成致密且無缺陷的被膜，適合使用可以在低溫下形成致密的膜的高密度等離子體成膜法來形成。其中，即便除了硅化合物以外，還可以由例如鋁氧化物或氧化鉭、氧化鈦形成，進而還可以由其它陶瓷等形成。
進而，作為阻氣層30，可以成為層疊構(gòu)造，也可以作為使其組成不均一尤其是其氧濃度連續(xù)或者非連續(xù)地發(fā)生變化的構(gòu)成。
另外，作為這樣的阻氣層30的厚度，優(yōu)選為30nm以上、1000nm以下。這是因為，當不到30nm時，則會有因膜的缺陷或膜厚的偏差等導致部分形成貫通孔，有可能導致阻氣性受損；當超過1000nm時，有可能出現(xiàn)基于應力的裂縫。
另外，由于在本實施方式中是作為頂部發(fā)射型，因此阻氣層30需要具有透光性，因此通過適當調(diào)整其材質(zhì)或膜厚，在本實施方式中使可見光區(qū)域的光線透射率在例如80％以上。
進而，如圖2～圖4所示，在阻氣層30的外周區(qū)域上，形成有外殼加強層212。
外殼加強層212，防止由在有機緩沖層210的外周區(qū)域、尤其在側(cè)面端部產(chǎn)生的應力導致阻氣層30的破壞(裂紋的發(fā)生)。即，當有機緩沖層210因熱變形而膨脹、收縮時，具有從外部加強阻氣層30的功能，以便在阻氣層30中不產(chǎn)生裂紋。另外，阻氣層30的外周區(qū)域是，膜厚比較容易變薄的區(qū)域，還是在高溫多濕環(huán)境下構(gòu)造性地水分容易集中的區(qū)域。通過用外殼加強層212覆蓋阻氣層30這樣的區(qū)域，水滴沒有直接附著在阻氣層30上，能夠有效防止已結(jié)露的水滴發(fā)生擴散且同時在阻氣層30散開而產(chǎn)生破壞作用。
作為形成外殼加強層212的材料，可以使用環(huán)氧樹脂等樹脂材料。另外，通過使用含氟原子的有機化合物等表面能低的疏水性材料，還可以改善耐水性，并防止以液狀涂布形成保護層204時的溢出。
另外，優(yōu)選在外殼加強層212中添加(含有)微粒213(參照圖5)。通過使之含有微粒213，能夠?qū)π纬赏鈿ぜ訌妼?12的樹脂材料的流動性進行調(diào)整。另外，通過使外殼加強層212含有微粒213，在被膜形成時或溫度發(fā)生變化時難以引起體積變化，能夠減輕給阻氣層30的負擔。
作為微粒213，優(yōu)選有機高分子材料或無機氧化物材料，例如聚酯或PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、二氧化硅或氧化鋁。另外，微粒213被實施偶合處理等表面處理，以便容易與外殼加強層212的材料互溶。
另外，也可以在有機緩沖層210中含有微粒213(參照圖5)。在這種情況下，就微粒213的直徑而言，具有10nm～1000nm左右的粒徑，以10％～70％的含有率添加在有機緩沖層210中。這樣，微粒213能夠進入有機隔壁層221的開口部221a等的段差，形成無間隙的良好的層。并且，通過使之含有直徑大致相同的微粒213，能夠使有機緩沖層210的上面平坦化。雖然優(yōu)選更多地添加微粒213，但當含有率超過80％時，有些情況下無法保持作為膜的強度，所以應該避免。還有，微粒213優(yōu)選由折射率n為1.2～2.0左右的材料構(gòu)成。通過具有與有機緩沖層210(例如非晶質(zhì)聚烯烴n＝1.53)不同的折射率n的微粒(例如，二氧化硅微粒n＝1.46)鏈接，形成光學波導，能夠提高光從發(fā)光層60的取出效率。
其中，微粒213的粒徑并非一定需要是均一的，可以由粒徑不同的顆粒構(gòu)成。例如，可以使外殼加強層212中含有的微粒213的粒徑為1000nm，使有機緩沖層210中含有的微粒的粒徑為10nm。
在這里，關(guān)于有機緩沖層210的端部(外周區(qū)域)的構(gòu)造，參照圖5進行說明。圖5為表示圖3以及圖4中有機緩沖層210的端部(外周區(qū)域)的放大圖。
有機緩沖層210形成于陰極保護層55上，在其端部以接觸角α與陰極保護層55接觸。這里，接觸角α優(yōu)選為45°以下，更優(yōu)選為1°～20°左右。
通過如此形成有機緩沖層210，在該有機緩沖層210的上層形成的阻氣層30或外殼加強層212，仿照有機緩沖層210的形狀形成。這樣，由于在阻氣層30的端部沒有急劇的形狀變化，而是平穩(wěn)地產(chǎn)生形狀變化，因此能夠防止因應力集中導致的裂紋等缺陷的產(chǎn)生。即，通過將阻氣層30以及外殼加強層212配置在有機緩沖層210上，能夠更加有效地防止在阻氣層30中因應力集中導致的裂紋等缺陷的發(fā)生。另外，通過將阻氣層30配置到有機緩沖層210的外側(cè)區(qū)域為止，能夠在長時間內(nèi)維持密封能力。
另外，外殼加強層212，至少將阻氣層30的外周區(qū)域覆蓋，按照不使阻氣層30的側(cè)面端部露出的方式形成。由于在阻氣層30的外周區(qū)域容易發(fā)生裂紋等，因此通過由外殼加強層212對該區(qū)域進行加強，能夠有效防止裂紋等的發(fā)生。另外，能夠防止阻氣層30從基體200剝離。
進而，如圖3以及圖4所示，在阻氣層30的上層部，設置將阻氣層30覆蓋的保護層204。該保護層204是由在阻氣層30側(cè)設置的膠粘層(樹脂膠粘層)205與表面保護基板(保護基體)206構(gòu)成。
膠粘層205使表面保護基板206固定在阻氣層30上，并且對于來自外部的機械沖擊具有緩沖功能，并保護發(fā)光層60或阻氣層30。通過在該膠粘層205上貼合表面保護基板206，形成保護層204。
膠粘層205是由使例如氨基甲酸酯系、丙烯酸系、環(huán)氧系、聚烯烴系等的液狀材料固化的樹脂，且比表面保護基板206柔軟且玻璃化溫度低的材料組成的膠粘劑所形成。另外，優(yōu)選透明樹脂材料。另外，為了在低溫下使之固化，可以由添加固化劑的2組分混合型的材料形成。
其中，優(yōu)選在這樣的膠粘層205中，添加硅烷偶合劑或者烷氧基硅烷，如此，使所形成的膠粘層205與阻氣層30的粘合性更加良好，因而對于機械沖擊的緩沖功能提高。
另外，尤其在由硅化合物形成阻氣層30的情況等下，能夠通過硅烷偶合劑或者烷氧基硅烷提高與該阻氣層30的粘合性，因而能夠使阻氣層30的阻氣性提高。
另外，優(yōu)選在膠粘層205中添加(含有)填充劑等，對彈性模量進行調(diào)整。
表面保護基板206被設置在膠粘層205上，構(gòu)成保護層204的表面?zhèn)?，是具有耐壓性或耐磨損性、防外部光反射性、阻氣性、紫外線阻斷性、色波長變換等功能中的至少一種的層。
表面保護基板206的材質(zhì)，采用玻璃、DLC(類金剛石碳，diamond likecarbon)層、透明塑料、透明塑料薄膜。這里，作為塑料材料，例如采用PET、丙烯酸類、聚碳酸酯、聚烯烴等。進而，可以在該表面保護基板206上設置紫外線阻斷/吸收層或防光反射層、散熱層、透鏡、色波長變換(濾色器)層或反射鏡等光學構(gòu)造。
其中，在本例的EL顯示裝置中，在制成頂部發(fā)射型的情況下，需要使表面保護基板206、膠粘層205均具有透光性，然而在是底部發(fā)射型的情況下，則不需要。
接著，參照圖6和圖7，對本實施方式的EL顯示裝置1的制造方法的一例進行說明。圖6和圖7所示的各剖面圖，是與圖2中的A-B線的剖面圖對應的圖。
其中，在本實施方式中，當作為發(fā)光裝置的EL顯示裝置1為頂部發(fā)射型時，另外，關(guān)于在基板20的表面形成電路部11的工序，由于與以往技術(shù)相同，因此省略說明。
首先，如圖6(a)所示，按照將在表面形成電路部11的基板20的整個面覆蓋的方式，形成成為像素電極23的導電膜，進而，通過使該透明導電膜形成圖案，形成借助第二層間絕緣層284的接觸孔23a與漏電極244導通的像素電極23，同時還形成偽區(qū)域的偽圖案26。
其中，在圖3和圖4中，將這些像素電極23、偽圖案26統(tǒng)稱作像素電極23。偽圖案26的構(gòu)成為不借助第二層間絕緣層284與下層的金屬布線連接。即，偽圖案26被配置成島狀，具有與在實顯示區(qū)域形成的像素電極23的形狀大致相同的形狀。當然，也可以是與在顯示區(qū)域形成的像素電極23的形狀不同的構(gòu)造。另外，在這種情況下，偽圖案26還包含至少位于驅(qū)動電壓導通部310(340)的上方的部分。
接著，如圖6(b)所示，在像素電極23，偽圖案26上、以及第二層間絕緣膜上形成作為絕緣層的親液性控制層25。其中，在像素電極23中，以一部分開口的形式形成親液性控制層25，在開口部25a(還參照圖3)中，來自像素電極23的空穴移動成為可能。相反，在未設置開口部25a的偽圖案26中，絕緣層(親液性控制層)25成為空穴移動屏蔽層而不會產(chǎn)生空穴移動。接著，在親液性控制層25中，在位于不同的2個像素電極23之間而形成的凹狀部，形成未圖示的BM(黑矩陣，black matrix)。具體來說，對于親液性控制層25的凹狀部，采用金屬鉻并采用噴濺法進行成膜。
然后，如圖6(c)所示，按照覆蓋親液性控制層25的給定位置、詳細來說為上述BM的方式，形成有機隔壁層221。作為具體的有機隔壁層的形成方法，采用旋涂法、浸涂法等各種涂布法，對將例如丙烯酸類樹脂、聚酰亞胺樹脂等抗蝕劑溶解在溶劑后的物質(zhì)進行涂布，形成有機質(zhì)層。其中，就有機質(zhì)層的構(gòu)成材料而言，只要是不溶解于后述的油墨的溶劑，且通過蝕刻等易形成圖案的材料，則任何材料均可。
進而，通過采用光刻技術(shù)、蝕刻技術(shù)使有機質(zhì)層形成圖案，在有機物質(zhì)層形成開口部221a，形成在開口部221a具有壁面的有機隔壁層221。在這里，關(guān)于形成開口部221a的壁面，按照與基體200表面的角度在110度以上至170度以下的方式來形成。
其中，在這種情況下，有機隔壁層221，至少包括位于驅(qū)動控制信號導通部320的上方的部分。
接著，在有機隔壁層221的表面，形成表示親液性的區(qū)域、和表示疏液性的區(qū)域。在本實施方式中，通過等離子體處理形成各區(qū)域。具體來說，由預熱工序、使有機隔壁層221的上面和開口部221a的壁面以及像素電極23的電極面23c、親液性控制層25的上面分別具有親液性的親油墨化工序、使有機隔壁層221的上面以及開口部221a的壁面具有疏液性的疏油墨化工序、和冷卻工序，構(gòu)成等離子體處理。
接著，通過空穴輸送層形成工序進行空穴輸送層70的形成。在該空穴輸送層形成工序中，通過例如噴墨法等液滴噴出法、或旋涂法等，將空穴輸送層材料涂布在電極面23c上，隨后，進行干燥處理和熱處理，在電極23上形成空穴輸送層70。
接著，通過發(fā)光層形成工序進行發(fā)光層60的形成。在該發(fā)光層形成工序中，例如通過噴墨法，將發(fā)光層形成材料噴出在空穴輸送層70上，隨后，通過進行干燥處理和熱處理，在已形成于有機隔壁層221的開口部221a內(nèi)形成發(fā)光層60。在該發(fā)光層形成工序中，為了防止空穴輸送層70的重新溶解，作為用于發(fā)光層形成材料的溶劑，使用相對空穴輸送層70不溶解的非極性溶劑。
接著，如圖7(a)所示，通過陰極層形成工序進行陰極50的形成。在該陰極層形成工序中，通過例如真空蒸鍍法或離子鍍法等物理氣相生長法，使氟化鋰或鈣、鎂等的電子注入層，和降低電阻的ITO等金屬氧化物導電層進行成膜，成為陰極50。這時，關(guān)于該陰極50，當然要覆蓋發(fā)光層60和有機隔壁層21的上面，關(guān)于形成有機隔壁層221的外側(cè)部的壁面，也是在將其覆蓋的狀態(tài)下形成。
接著，在陰極50上形成由氮化硅或者氮氧化硅構(gòu)成的陰極保護層55。作為形成該陰極保護層55的方法，優(yōu)選采用離子鍍法等物理氣相生長法。
接著，如圖7(b)所示，有機緩沖層210是通過液相法、即濕法加工而形成。
作為形成有機緩沖層210的方法，可以采用噴墨法、狹縫涂敷法、簾式淋涂法、絲網(wǎng)印刷法、苯胺印刷法等方法。而且，它們的涂布氣氛優(yōu)選100～10000Pa范圍的減壓氣氛下進行涂布，以便不發(fā)生以氣泡為原因的膜缺陷，例如優(yōu)選在減壓氣氛下的絲網(wǎng)印刷法。
另外，為了使有機緩沖層210同時存在平坦性與圖案形成性，優(yōu)選在涂布時的粘度為100～10000mPa·S。因為是在減壓下形成，故不使用容易揮發(fā)的稀釋溶劑，優(yōu)選使所有涂布材料發(fā)生交聯(lián)反應而高分子化的材料。
通過這些粘度調(diào)整和涂敷方法，可以減小在有機緩沖層210的圖案端部與陰極保護層55的接觸角α。
就有機緩沖層210的膜厚而言，由于以平坦化和由凹凸產(chǎn)生的應力緩和為目的，因此需要比隔壁層或像素隔壁的高度更厚，例如優(yōu)選為2～10μm左右。雖然優(yōu)選沒有應力，但可以稍微產(chǎn)生拉伸應力。為了使應力盡可能小，優(yōu)選彈性模量較低在10GPa以下的比較多孔質(zhì)的膜，密度合適在0.8～1.8g/cm3的范圍。
有機緩沖層210的涂敷之后的固化是，在防止吸濕的同時在減壓氣氛下或者氮等惰性氣體氣氛下以50～80℃的加熱溫度進行固化。
加熱的目的不僅是固化，還通過暫時降低粘度來得到流動性，提高表面的平坦性，將圖案端部的錐形角度調(diào)整為目的角度。即，可以使在有機緩沖層210的圖案端部，與陰極保護層55的接觸角α為1～20度。為了防止隨后的吸濕，優(yōu)選不是返回到大氣氣氛而是再次返回真空，向接下來的阻氣層30的形成加工工序移行。
接著，覆蓋有機緩沖層210，形成阻氣層30。阻氣層30優(yōu)選通過減壓下的高密度等離子成膜法形成的主要由硅氮化物或者硅氮氧化物構(gòu)成的透明的薄膜。另外，為了將小分子的水蒸氣完全阻斷而使之具有致密性，優(yōu)選具有一些壓縮應力。優(yōu)選的膜密度為2.3/cm3以上，彈性模量為100GPa以上，膜厚與無機緩沖層一致在1000nm以下為優(yōu)選，50～500nm為合適。
作為阻氣層30的具體形成方法，先用濺射法或離子鍍法等物理氣相生長法進行成膜，接著，可以由等離子體CVD法等化學氣相生長法進行成膜。濺射法或離子鍍法等物理氣相生長法，通常對于異質(zhì)的基板表面也可以得到粘合性比較好的膜，因而趨向阻氣層30的形成；另一方面，在化學氣相生長法中，得到應力較少階梯覆蓋性出色的缺陷較少、致密且膜質(zhì)良好的層，因此趨向阻氣層30。這些方法，可以考慮批量生產(chǎn)性而適時選擇。
其中，阻氣層30在形成有機緩沖層210之后，不是返回到大氣氣氛，而是在真空氣氛下連續(xù)地形成。
另外，關(guān)于阻氣層30的形成，可以如上所述由相同的材料以單層形成，還可以由不同的材料在多層上層疊而形成，還有，盡管以單層形成，但可以以使其組成在膜厚方向連續(xù)或者非連續(xù)地發(fā)生變化的方式而形成。
進而，如圖7(c)所示，覆蓋阻氣層30的外周區(qū)域(或者整個面)，形成外殼加強層212。作為形成外殼加強層212的方法，與有機緩沖層210的形成方法同樣，由液相法即濕法加工形成。并且，除了噴墨法之外，還可以采用狹縫涂敷法、簾式淋涂法、絲網(wǎng)印刷法、苯胺印刷法、通過噴嘴噴出的分配(dispense)法等方法。
另外，由于外殼加強層212，配置在形狀產(chǎn)生平穩(wěn)變化的阻氣層30的外周區(qū)域，因此優(yōu)選涂布時的粘度為高粘度，例如優(yōu)選1000mPa.s以上。作為樹脂材料，優(yōu)選在比較低的溫度下發(fā)生固化且耐水性優(yōu)良的環(huán)氧樹脂或含氟樹脂?？梢允且雅浜狭硕人狒虬坊衔锏裙袒煞值?液混合類型也可。為了提高粘度，在形成外殼加強層212的材料中，含有微粒213。
外殼加強層212的膜厚優(yōu)選為例如5～100μm左右，但在同時覆蓋安裝連接端子等結(jié)構(gòu)體的情況下，可以為將它們覆蓋的膜厚。
關(guān)于外殼加強層212的涂布后的固化，因為已經(jīng)存在阻氣層，所以最好在大氣氣氛下，以50～80℃的加熱溫度進行固化。
接著，在阻氣層30和外殼加強層212上，設置由膠粘層205和表面保護基板206構(gòu)成的保護層204(參照圖3和圖4)。
關(guān)于膠粘層205，通過絲網(wǎng)印刷法或狹縫涂敷法等被大致均勻地涂敷在阻氣層30和外殼加強層212上，在其上貼合表面保護基板206。
如果這樣在阻氣層30和外殼加強層212上設置保護層204，表面保護基板206具有耐壓性或耐磨損性、防光反射性、阻氣性、紫外線阻斷性等功能，由此反射層60或陰極50、進而是阻氣層30和外殼加強層212也能夠由該表面保護基板206所保護，因而能夠?qū)崿F(xiàn)發(fā)光元件的長壽命化。
另外，由于膠粘層205發(fā)揮對于機械沖擊的緩沖功能，因此在從外部施加機械沖擊的情況下，緩和給阻氣層30或其內(nèi)側(cè)的發(fā)光元件的機械沖擊，能夠防止因該機械沖擊導致的發(fā)光元件的功能劣化。
如上所述，形成EL顯示裝置1。
圖8是表示保護層204的變形例的剖面圖。
作為由膠粘層205和表面保護基板206構(gòu)成的保護層204的形成區(qū)域，沒有必要將阻氣層30和外殼加強層212完全覆蓋，更優(yōu)選膠粘層205在外殼加強層212上稍微重疊的程度。如圖8所示，按照外殼加強層212在外周區(qū)域露出的方式形成有保護層204。
在表面保護基板206是將大部分的主基板208切斷分割(劃線)成多塊后得到的情況下，可以由1塊主基板208得到更多的表面保護基板206。
特別是，在膠粘層205上配置主基板208之后，即使對主基板208進行切斷分割，由于外殼加強層212緩和給阻氣層30或其內(nèi)側(cè)的發(fā)光元件的機械沖擊，因此能夠防止因切斷分割導致的阻氣層30的裂紋發(fā)生或發(fā)光元件的功能劣化。
在這里，關(guān)于將大部分的主基板208切斷分割成多塊而得到表面保護基板206的方法，簡單進行說明。
圖9為用于說明主基板208的分割方法的圖。
如圖9A所示，在大部分的基體200上，形成多個EL顯示裝置1、2。在EL顯示裝置1、2上，覆蓋阻氣層30的外周區(qū)域，形成外殼加強層212。
進而，如圖9B所示，覆蓋阻氣層30，涂布膠粘層205。此時，膠粘層205通過按照將外殼加強層212的一部分覆蓋的方式進行涂布，以使阻氣層30不露出來。
接著，如圖9C所示，在形成于大部分的基體200上的多個EL顯示裝置1、2上，配置大部分的主基板208。然后，在該狀態(tài)下，使膠粘層205固化。
然后，如圖9D所示，在規(guī)定位置將大部分的基體200以及大部分的主基板208進行切斷分割。此時，大部分的主基板208沿著膠粘層205的大致外周進行切斷分割(對三角標記部分按下切割刀后切斷)。這樣，如圖9E所示，得到多個EL顯示裝置1、2。
這樣，由于實現(xiàn)表面保護基板206的狹小化(在比阻氣層30狹窄的范圍內(nèi)形成)，通過可以使大部分的主基板208的框緣寬度變窄等效果，可以由1塊大部分的主基板208得到大量的表面保護基板206。另外，在主基板208的劃線之際，由于膠粘層205和外殼加強層212緩和給阻氣層30或其內(nèi)側(cè)的發(fā)光元件的機械沖擊，因此不會使阻氣層30或發(fā)光元件受到損傷，能夠?qū)崿F(xiàn)良好的劃線。
第2實施方式以下，對本發(fā)明的第2實施方式的EL顯示裝置2進行說明。其中，在本實施方式中，關(guān)于與第1實施方式相同的構(gòu)成，附加相同符號并省略說明。
圖10為表示本發(fā)明的第2實施方式的EL顯示裝置2的剖面構(gòu)造的模式剖面圖。
EL顯示裝置2采用發(fā)出白色光的白色發(fā)光層60W作為發(fā)光層，以及采用濾色器基板207作為表面保護基板，但與第1實施方式的EL顯示裝置1不同。
作為白色有機發(fā)光材料，采用苯乙烯胺系發(fā)光材料、蒽系摻雜劑(藍色)、或者苯乙烯胺系發(fā)光材料、紅熒烯(ruburen)系摻雜劑(黃色)。
其中，優(yōu)選在白色發(fā)光層60W的下層或者上層，使三芳基胺(ATP)多聚物空穴注入層、TDP(三苯基二胺)系空穴輸送層、羥基喹啉鋁(Alq3)層(電子輸送層)、LiF(電子注入緩沖層)進行成膜。
另外，如第1實施方式的EL顯示裝置1那樣，由于不需要按每個R、G、B對發(fā)光層60進行劃分，因此可以在各像素電極23上形成白色發(fā)光層60W并使其跨過有機隔壁層221。
其中，可以在有機隔壁層221的上面配置輔助電極64。輔助電極64具有比陰極50低的電阻值，通過與陰極50的中途部位電連接，防止電阻值較高的陰極50的電壓下降。
另外，濾色器基板207是，在基板主體207A上形成紅色著色層208R、綠色著色層208G、藍色著色層208B、以及黑矩陣209的基板。另外，著色層208R、208G、208B、以及黑矩陣209的形成面通過膠粘層205朝向基體200對向配置。其中，基板主體207A的材質(zhì)，能夠采用與第1實施方式的表面保護基板206同樣的材質(zhì)。
另外，著色層208R、208G、208B分別與像素電極23上的白色發(fā)光層60W對向配置。這樣，白色發(fā)光層60W的發(fā)光光，分別透過各著色層208R、208G、208B，作為紅色光、綠色光、藍色光的各色光向觀察者側(cè)射出。
這樣，在EL顯示裝置2中，利用白色發(fā)光層60W的發(fā)光光，并且通過具有多色著色層208的濾色器基板207進行彩色顯示。
另外，著色層208R、208G、208B與白色發(fā)光層60W的距離，按照白色發(fā)光層60W的發(fā)光光僅向?qū)ο虻闹珜由涑龅姆绞?，要求為盡可能短的距離。這是因為，在其距離較長的情況下，因白色發(fā)光層60W的發(fā)光光對鄰接的著色層射出的可能性較高，故為了對其進行抑制，優(yōu)選使其距離變短。
具體來說，優(yōu)選從絕緣層284的表面到濾色器基板207為止的間隔為15μm左右。這樣，白色發(fā)光層60W的發(fā)光光僅向?qū)ο虻闹珜影l(fā)射，能夠抑制發(fā)光光向鄰接的著色層泄漏。這樣便能夠?qū)焐M行抑制。
另外，由于利用單色的白色發(fā)光層60W，因此不需要對每個R、G、B分開形成發(fā)光層。具體來說，在形成低分子系的白色發(fā)光層的掩模蒸鍍工序、或形成高分子系的白色發(fā)光層的液滴噴出工序等中，可以只用1道工序形成1種白色發(fā)光層，因此與分開形成每個R、G、B的發(fā)光層的情況相比，制造工序更容易。另外，能夠抑制各發(fā)光層60的壽命的偏差。
另外，即使在EL顯示裝置2中，也是覆蓋阻氣層30的外周區(qū)域(或者整面)覆蓋，形成外殼加強層212。
另外，在阻氣層30以及外殼加強層212上，設置由膠粘層205和表面保護基板206構(gòu)成的保護層204。作為保護層204的形成區(qū)域，可以是外殼加強層212的外周區(qū)域露出的程度。
這樣，可以由1塊主基板208得到更多的表面保護基板206。尤其是，在膠粘層205上配置主基板208之后，即使對主基板208進行劃線，膠粘層205和外殼加強層212也會緩和給阻氣層30或其內(nèi)側(cè)的發(fā)光元件的機械沖擊，因此能夠防止因劃線導致的阻氣層30的裂紋產(chǎn)生或發(fā)光元件的功能劣化。
其中，在上述EL顯示裝置1、2的實施方式中，以頂布發(fā)射型為例進行說明，但本發(fā)明并非限定于此，還可以應用于底部發(fā)射型，或者向兩側(cè)射出發(fā)光光的類型。
另外，在作為底部發(fā)射型、或者向兩側(cè)射出發(fā)光光的類型的情況下，關(guān)于在基體200上形成的開關(guān)用TFT 112或驅(qū)動用TFT 123，不是在發(fā)光元件的正下面形成，而是在親液性控制層25以及有機隔壁層221的正下面形成，優(yōu)選使數(shù)值孔徑提高的一方。
另外，在EL顯示裝置1、2中，使本發(fā)明的第一電極作為陽極發(fā)揮功能，使第二電極作為陰極發(fā)揮功能，然而也可以與其相反，使第一電極作為陰極，第二電極作為陽極分別發(fā)揮功能。但是，在那種情況下，有必要替換發(fā)光層60與空穴輸送層70的形成位置。
另外，在本實施方式中，雖然表示了將EL顯示裝置1、2應用于發(fā)光裝置的例子，然而本發(fā)明并非限定于此，只要是基本上將第二電極設置在基體的外側(cè)，則可以應用于任一種形式的發(fā)光裝置。
接著，關(guān)于本發(fā)明的電子機器進行說明。
電子機器具有上述EL顯示裝置1、2作為顯示部，具體來說，列舉如圖11所示。
圖11(a)為表示便攜式電話的一個例子的立體圖。在圖11(a)中，便攜式電話1000具備使用了上述EL顯示裝置1的顯示部1001。
圖11(b)為表示手表型電子機器的一個例子的立體圖。在圖11(b)中，鐘表1100具備使用了上述EL顯示裝置1的顯示部1101。
圖11(c)為表示文字處理機、個人電腦等便攜式信息處理裝置一個例在的立體圖。在圖11(c)中，信息處理裝置1200具備鍵盤等輸入部1202、使用了上述EL顯示裝置1的顯示部1206、和信息處理裝置主體(筐體)1204。
圖11(d)為表示薄型大畫面電視的一個例子的立體圖。在圖11(d)中，薄型大畫面電視1300具備薄型大畫面電視主體(筐體)1302、揚聲器等聲音輸出部1304、使用了上述EL顯示裝置1的顯示部1306。
這樣，圖11(a)～(d)所示的各種電子機器，由于具備具有上述EL顯示裝置1、2的顯示部1001、1101、1206、1306，因此實現(xiàn)顯示部的的長壽命化。
另外，如圖11(d)所示的薄型大畫面電視1300，應用與面積無關(guān)而能夠?qū)︼@示部進行密封的本發(fā)明，因此與以往相比，具備更大面積(例如對角20英寸以上)的顯示部1306。
另外，并非限于具備EL顯示裝置1、2作為顯示部的情況，也可以是作為發(fā)光部而具備的電子機器。例如，可以是具備EL顯示裝置1、2作為曝光頭(行頭，line head)的頁式打印機(圖像形成裝置)。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光裝置，其特征在于，在基體上具有多個第一電極；具有與所述第一電極的形成位置對應的多個開口部的隔壁；在所述各個開口部配置的有機功能層；將所述隔壁以及所述有機功能層覆蓋的第二電極；將所述第二電極覆蓋的有機緩沖層；按照覆蓋所述有機緩沖層的圖案及其周圍的方式延伸配置的阻氣層；和按照覆蓋所述有機緩沖層的外周區(qū)域的方式配置的外殼加強層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述外殼加強層是按照覆蓋所述有機緩沖層的圖案的端部的周邊的方式被配置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述外殼加強層是按照覆蓋所述阻氣層的圖案的外周區(qū)域及其周圍的方式被延伸配置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，具有覆蓋所述第二電極的電極保護層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，具有覆蓋所述阻氣層的保護層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述有機緩沖層的端部的接觸角度為形成為45°以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述外殼加強層是由樹脂形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述外殼加強層含有微粒。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述外殼加強層和所述有機緩沖層由同一樹脂形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求5～9中任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述保護層是按照使所述外殼加強層的外周區(qū)域露出的方式被配置。
11.根據(jù)權(quán)利要求5～10中任一項所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述保護層是由覆蓋所述阻氣層的膠粘層、和表面保護基形成。
12.一種發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，具有在基體上，形成多個第一電極的工序；形成具有多個開口部的隔壁的工序，其中，所述的多個開口部與所述第一電極的形成位置對應；形成在所述各個開口部分別配置的有機功能層的工序；形成將所述隔壁以及所述有機功能層覆蓋的第二電極的工序；形成將所述第二電極覆蓋同時形成平坦的上面的有機緩沖層的工序；形成將所述有機緩沖層覆蓋的阻氣層的工序；和形成將所述阻氣層的至少外周區(qū)域覆蓋的外殼加強層的工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，形成所述外殼加強層的工序包含將含有微粒的有機材料涂布在所述阻氣層的至少外周區(qū)域的工序。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，具有按照使所述外殼加強層的外周區(qū)域露出的方式形成將所述阻氣層以及所述外殼加強層覆蓋的保護層的工序。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，形成所述保護層的工序包括形成將所述阻氣層以及所述外殼加強層的一部分覆蓋的膠粘層的工序；在所述膠粘層上配置表面保護基板的工序；和沿著所述膠粘層的大致外周將所述表面保護基板切斷的工序。
16.一種電子機器，其特征在于，具備權(quán)利要求1～11中任一項所述的發(fā)光裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種抑制由阻氣層的剝離或裂紋引起的水分的浸入的發(fā)光裝置及其制造方法、以及電子機器。發(fā)光裝置(1)是，在基體(200)上具備多個第一電極(23)；具有與第一電極(23)的形成位置對應的多個開口部(221a)的隔壁(221)；在各個開口部(221a)配置的有機功能層(60)；將隔壁(221)以及有機功能層(60)覆蓋的第二電極(50)；將第二電極(50)覆蓋同時形成平坦的上面的有機緩沖層(210)；將有機緩沖層(210)覆蓋的阻氣層(30)；和將阻氣層(30)的至少外周區(qū)域覆蓋的外殼加強層(212)。
文檔編號H05B33/12GK1815751SQ20061000595
公開日2006年8月9日 申請日期2006年1月17日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月17日
發(fā)明者林建二 申請人:精工愛普生株式會社