專利名稱：用于物體相對基底或與基底一起的定位或定向的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于使物體相對于基底或與基底一起的定位或 定向的裝置，其中j殳有至少一個用于在待定位的物體的至少一個標(biāo)記的 區(qū)域中照射物體的光源和一個接收裝置，該接收裝置接收由所述待定位 的物體和/或基底反射的光，基于所述被接收的反射射線來確定所述物體 的位置和/或?qū)λ鑫矬w的位置或方向進(jìn)行校正。
背景技術(shù)：
盡管下面將主要借助實施例特別是結(jié)合對印制電路板的制造或加工 詳細(xì)地說明本實用新型，但還是需要說明，本實用新型通?？稍谟糜谑?物體相對于或與基底一起或者保持或支撐裝置的定位或定向的方法以及 裝置上使用，其中利用必要時不同波長的光進(jìn)行照射之后，由物體或支 撐物體的基底或支撐裝置反射的光被接收在接收裝置中，并對物體相對 于基底或與基底一起相對于加工機器的定位或定向進(jìn)行校正。這種方法 和裝置可應(yīng)用于很多場合，在這些場合中要對工件進(jìn)行高精度的加工， 例如鉆孔過程、剪裁過程、蝕刻過程等。此外例如在曝光過程和裝配過 程中，精確的定向和定位也很重要。
與印制電路板的制造或加工相關(guān)地，例如對于待進(jìn)行的鉆孔過程、 特別是激光鉆孔過程來說公知的是，在印制電路板上或者在具有多個印 制電路板的基本上板狀的部件上設(shè)置標(biāo)記，接著電路板或通常板狀的部 件被輸送給加工工位，并在該工位上通過設(shè)置通常至少兩個標(biāo)記而相對 于基底或者與形成基底的保持或支撐裝置一起移動并被校準(zhǔn)，以便在后 續(xù)過程中例如根據(jù)計算機控制的鉆孔程序在印制電路板上或通常板狀的 部件上設(shè)置出多個待精確設(shè)置的孔，這些孔例如在后續(xù)的加工步驟中用 于連接印制電路板的各個部件、用于裝配附加部件或者用于接觸印制電 路板的不同的層。
迄今為止，與這樣的定向或定位過程相關(guān)地通常如下地進(jìn)行，即光、
4例如相應(yīng)地成束的光在一個或多個標(biāo)記的區(qū)域中指向或射到待定位的物 體、例如印制電路板上，并且利用接收裝置將由印制電路板或通常待定 位的物體反射的光和在設(shè)置例如完全穿透待定位的物體的孔狀的標(biāo)記的 情況下由基底反射的光接收在接收裝置中，必要時進(jìn)行自動的圖像處理， 以便確定待定位的物體相對于基底的位置或方向，"必要時調(diào)整或校正為 預(yù)先給定值，以便能夠進(jìn)行后續(xù)的加工過程，例如以相應(yīng)高的精度進(jìn)行 鉆孔過程。
在這種>^知的接收反射光并如此地確定待定位的物體的位置和方向 的相關(guān)方法和裝置具有如下缺點，即待定位的物體、特別是印制電路板 或具有多個印制電路板的板狀的部件至少局部設(shè)有反射的表面，從而很 難或無法產(chǎn)生待定位的物體的包圍標(biāo)記的區(qū)域相對于標(biāo)記或在設(shè)有貫通 的孔狀的標(biāo)記的情況下相對于基底的相應(yīng)良好的對比，該基底例如具有 用于產(chǎn)生足夠的對比的亮色或白色，因為無法通過相應(yīng)的精度在由待定 位的物體的反射的表面反射的光或散射的光和由標(biāo)記或位于標(biāo)記下面的 基底反射的光之間進(jìn)行區(qū)分，而這種區(qū)分應(yīng)為確定物體的定位或定向提 供輛依據(jù)。
特別是與例如對于制造或加工印制電路板要求的高精度相關(guān)地，在 考慮局部具有非常小的尺寸的部件的情況下，這些部件在后續(xù)過程中例 如將被連接或接觸，待安裝的部件或例如待制造的孔的、這樣待設(shè)置的 小的尺寸由此出發(fā)，即在使用公知的方法和裝置的情況下，得到相應(yīng)大 份額的未相應(yīng)精確地加工的、在此特別是未足夠精確地校正的物體并由 此產(chǎn)生大量廢品。此外在嚴(yán)重的錯誤定向或誤對準(zhǔn)時還會導(dǎo)致生產(chǎn)中斷， 因為控制設(shè)備在這種情況下通常會使生產(chǎn)處于停頓狀態(tài)。
實用新型內(nèi)容
因此本實用新型的目的在于，避免在開頭所述類型的裝置中的前述
問題，并對開頭部分所述類型的裝置進(jìn)行如下改進(jìn)即一種用于使物體 相對于基底或與基底一起的定位或定向的裝置，其中設(shè)有至少一個用于 在待定位的物體的至少一個標(biāo)記的區(qū)域中照射物體的光源和一個接收裝 置，該接收裝置接收由所述待定位的物體和/或基底反射的光，并且基于所述被接收的反射射線來確定所述物體的位置和/或?qū)λ鑫矬w的位置 或方向進(jìn)行校正，設(shè)有一個接收裝置，該接收裝置用于有選擇地接收相 對于照射到所述物體上的光波長改變的光，在待定位或待定向的物體的 標(biāo)記的區(qū)域中通過使用發(fā)熒光的材料反射所述波長改變的光。
本實用新型的技術(shù)效果是以提高的精度和通過簡化地或容易地接 收和必要時分析,iL^射的光可以進(jìn)行物體相對于基底或與基底一起的定 位或定向，以便特別是在高精度地制造或加工物體的情況下減少不符合 質(zhì)量要求的待加工的物體的份額或廢品的份額。
此外為了實現(xiàn)上述目的，使用所述類型的裝置的特征在于設(shè)有一接 收裝置，該接收裝置用于有選擇地接收具有不同于照射到物體上的光的 波長的光，該光在待定位或待定向的物體的標(biāo)記的區(qū)域中特別是通過使 用發(fā)熒光的材料而M射?？梢酝ㄟ^如下方式簡單且可靠地接收和分析 待定位的物體的位置或方向，即本實用新型的裝置被用于可選擇地接收 被改變的或轉(zhuǎn)換的波長的光，其中特別是通過使用發(fā)熒光的材料對波長 進(jìn)行改變，其中防止接收相應(yīng)地改變的波長的反射的光。
為了避免散射光進(jìn)入和可以簡單地只將改變波長的光接收到接收裝 置中，根據(jù)一種優(yōu)選的實施方式提出，在接收裝置之前連接與改變的波 長的光匹配的過濾器、特別是濾光器。
此外替代地或附加地可以規(guī)定，所述接收裝置由具有多個用于接收 不同波長的光的顏色通道的接收裝置、特別是相機構(gòu)成，這例如相應(yīng)于 本實用新型的裝置的另一優(yōu)選的實施方式。
為了有時需要校正待定位的物體的位置或方向，根據(jù)另一優(yōu)選實施 方式提出，用于使待定位的或待定向的物體相對于基底或與基底一起移 動的裝置與接收裝置聯(lián)接。
為了提供可靠的且簡單的具有必要時窄的光譜范圍的光源，根據(jù)另 一優(yōu)選的實施方式提出，所述光源由發(fā)光二極管、激光二極管或白熾燈 或氣體放電燈結(jié)合濾色器等構(gòu)成。
根據(jù)另一優(yōu)選的實施方式提出，待定位或待定向的物體由基本上板 狀的部件構(gòu)成，該部件具有至少一個由發(fā)熒光的材料構(gòu)成的標(biāo)記。此外為了正確和符合規(guī)定地定位，才艮據(jù)另一優(yōu)選的實施方式提出， 待定位或待定向的物體以本身公知的方式設(shè)有至少兩個標(biāo)記，其中這兩 個彼此位置分開的標(biāo)記或者可以通過唯一 的 一個接收裝置在該接收裝置 相應(yīng)的移動之后檢測，或者才艮據(jù)對有待定位或定向的物體的定位以及待 ^沒置的標(biāo)記利用數(shù)量等于所述標(biāo)記的接收裝置對有關(guān)所述物體的位置或 方向進(jìn)行接收并在必要時進(jìn)行分析。
為了實現(xiàn)相應(yīng)的對比，此外規(guī)定，待定位的物體的標(biāo)記由下凹或凹 槽構(gòu)成。
根據(jù)另一優(yōu)選實施方式，本實用新型提出，待定位的物體的標(biāo)記由 通孔構(gòu)成，基底具有一由發(fā)熒光的材料構(gòu)成的層組成。
用于物體相對基底或與基底一起的定位或定向的方法的特征主要在
改變的波i的光，，并在接收裝置中接收改變的波長的光且必要時進(jìn)行分
和特別是標(biāo)記或基底反射的光，而是根據(jù)本實用新型特別是通過使用發(fā)
線，、并在后續(xù)過程;、僅僅或優(yōu)選將該改變的波長的光接i:在接收裝置中 和必要時進(jìn)行分析，由此確保，由物體例如在標(biāo)記周圍的區(qū)域內(nèi)反射的 光不被接收在接收裝置中，該光具有原先用于照射物體特別是標(biāo)記的光 的波長，從而可以以提高的精度和必要時簡單的接收和分析求得待定位 或定向的物體的至少一個相對于基底或者與J^底一起或保持或支撐裝置 的實際位置或方向。因此通過根據(jù)本實用新型規(guī)定的特別是使用發(fā)熒光 的即發(fā)熒光或磷光的材料將用于特別是在標(biāo)記的區(qū)域中用于照射物體的 光變換或轉(zhuǎn)換成改變的波長的光可以提高定向和定位的精度，由此可以 在后續(xù)過程中根據(jù)改善的更精確的定位和定向以相應(yīng)提高的精度對待加 工的物體進(jìn)行加工，從而可以大大地減少或整體上防止由于待定位的物 體的實際位置或方向的不精確的定位或定向或者錯誤的固定所引起的錯 誤的加工，因而可以減少不符合相應(yīng)的質(zhì)量要求的被加工的物體的份額
并因此減少由此引起的廢品的份額。此外可以避免由于嚴(yán)重錯誤的定向或誤對準(zhǔn)引起的生產(chǎn)中斷問題。此外通過本實用新型的方法可以實現(xiàn)縮 短定向或定位所需要的時間，從而通過使用本實用新型的方法可以提高 產(chǎn)量或生產(chǎn)率。對于本實用新型的方法重要的是，反射光不可以被引入 到接收和分析裝置中，而是由至少一個光源照射到待定向或待定向的物
并且接收和必要時接著分析該改變波長的射線。
為了簡化接收和必要時接下來的例如或特別是自動的圖像分析，根 據(jù)本實用新型的方法的一種優(yōu)選的實施方式提出，使用具有窄光語范圍
的光照射物體，該光通過發(fā)熒光的材料^^變換成波長不同于用于照射的 光的波長的光。
為了在本實用新型的方法的范圍內(nèi)也能使用基本上不同于公知的現(xiàn) 有技術(shù)的接收裝置，才艮據(jù)另一優(yōu)選的實施方法提出，在接收裝置前面連 接與改變的波長的光的波長相匹配的過濾器、特別是濾光器，其中通過
這種過濾器可以簡單且可靠以及精確地匹配^L變換的或改變的波長。此 外通過使用這種過濾器可以以簡單的方式防止原先波長的例如由物體反 射的光以及有時存在的其它散射光進(jìn)入到接收裝置中。
替代地或附加地，為了避免接收原先用于特別是在標(biāo)記的區(qū)域中照 射物體的光的散射光或反射光可以規(guī)定，接收裝置具有多個不同波長的 光接收通道，并且為了接收和必要時接著分析反射的光而選擇相應(yīng)于改 變的波長的光的通道，此點例如相應(yīng)于本實用新型的方法的另一優(yōu)選的
實施方式o
對于使用相應(yīng)容易可得到的光源的特別簡單和可靠的實施方式，根 據(jù)另一優(yōu)選的實施方式提出，作為用于照射待定位或待定向的物體的光 源，發(fā)光二極管、激光二極管或白熾燈和氣體放電燈結(jié)合濾色器使用。 這種光源可以發(fā)出基本上各種可見顏色的光或者紫外范圍內(nèi)的光或者紅 外光，優(yōu)選具有比較窄的光語范圍，其中考慮到所使用的或?qū)⑹褂玫陌l(fā) 熒光的材料，通過不同顏色或波長的這種光相應(yīng)地'M材料和發(fā)出不同 顏色或波長的光，該光在后續(xù)過程中被接收在接收裝置中并在必要時進(jìn)
行分析。根據(jù)本實用新型的一種變型的實施方式提出，在接收裝置和/或光源 之前連接二向色鏡。
特別是與本實用新型的方法在對印制電路板部件的加工或制造的區(qū) 域中的使用相關(guān)，該印制電路板部件具有多個印制電路板，根據(jù)本實用 新型的方法的另一優(yōu)選的實施方式提出，待定位或待定向的物體由基本 上板狀的部件構(gòu)成，該部件具有至少一個由發(fā)熒光的材料構(gòu)成的標(biāo)記。
為了可靠且正確的定位，才艮據(jù)另一優(yōu)選的實施方式提出，待定位或 待定向的物體以本身7>知的方式設(shè)有至少兩個標(biāo)記。
為了便于接收和必要時分析待定位的物體的位置或方向，根據(jù)另一 優(yōu)選的實施方式提出，標(biāo)記由下凹或凹槽構(gòu)成。
例如可以通過如下方式來使用標(biāo)記的一種特別簡單的實施方式，即 標(biāo)記由通孔構(gòu)成，并且基底具有一由發(fā)熒光的材料構(gòu)成的層或者由該層 組成，這例如相應(yīng)于本實用新型的方法的另一優(yōu)選的實施方式。
此外根據(jù)本實用新型提出，用于板狀部件、特別是印制電路板的定
位的本實用新型的方法和本實用新型的裝置在制造或加工印制電路板時 使用。
根據(jù)一種特別優(yōu)選的實施方式，補充地提出，本實用新型的方法以 及本實用新型的裝置在定位和定向印制電路板時用于實施利用鉆孔機
器、特別是激光鉆孔;f幾器的鉆孔工藝、實施銑削工藝、照相印刷工藝、
掩模工藝、絲網(wǎng)印刷工藝、曝光過程或裝配過程等。


下面借助附圖中示意示出的實施例更詳細(xì)地說明本實用新型。圖中 示出
圖1為用于實施本實用新型的方法的本實用新型的裝置的第一實施 方式的示意立體圖2為才艮據(jù)圖1的實施方式的在待定位或待定向的物體的標(biāo)記區(qū)域 中的》文大的局部剖-f見圖3為用于實施本實用新型的方法的本實用新型的裝置的變型的實 施方式的類似于圖2的局部剖^L圖；和圖4為用于實施本實用新型的方法的本實用新型的裝置的另一變化 的實施方式的同樣類似于圖2的視圖。
具體實施方式

圖1中示意地以1標(biāo)示待定位或待定向的物體，該物體例如由基本 為板狀的部件構(gòu)成，該部件具有多個示意地以2表示的印制電路板部件，
件。在根據(jù)圖1的實施方式中，待定位或待定向的物體1具有兩個例如 通孔3形式的標(biāo)記3，這例如特別是將對照圖2更加詳細(xì)地說明。
光由光源4按照示意示出的光路5照射到板狀部件1的標(biāo)記3的區(qū) 域或標(biāo)記上，接著通過在標(biāo)記3的區(qū)域中設(shè)置發(fā)熒光材料，這例如還將 對照以下附圖更加詳細(xì)地說明， 一與由光源4按照光路5發(fā)出的光不同 的改變的波長的光或通常電磁的射線按照光路6朝向示意地以7示出的 接收裝置、例如相機發(fā)射。該相機7的前面例如連接有濾光器8，該濾 光器可以使只有所述改變的波長的、按照光路6的光射入到接收裝置或 相機7中，而例如由標(biāo)記3的周圍區(qū)域反射的帶有與由光源4發(fā)出的波 長相同的波長的光則不能穿過濾光器8,這例如將在下面特別是對照其 它附圖詳細(xì)說明。
接收裝置7通過示意示出的連接導(dǎo)線9與分析和顯示裝置或單元10 聯(lián)接，在該分析和顯示裝置或單元中根據(jù)在接收裝置7中所接收的信號 對待定位的物體1的位置和/或方向進(jìn)行分析，例如特別是進(jìn)行自動的圖 像分析。
如果在分析單元10中確定板狀物體1相對于預(yù)先給定的值的錯誤校 準(zhǔn)或4f^定位，那么為了定位通過控制導(dǎo)線11例如對裝置12進(jìn)行控制 或調(diào)節(jié)，該裝置12用于使板狀物體1相對于基底或者保持或支撐裝置 13按照箭頭x和y例如根據(jù)笛卡爾坐標(biāo)系定位或移動，以便鑒于物體1 的正確定位和定向使標(biāo)記3與預(yù)先給定值一致。
替代地或附加地，在物體l被錯誤校準(zhǔn)時，也可以通過控制單元IO 對一裝置14進(jìn)行控制或調(diào)節(jié)，裝置14用于^^底13或者保持或支撐裝 置按照箭頭x和y移動，以便為了后續(xù)的加工步驟實現(xiàn)對板狀物體1的正確定位。這種后續(xù)加工步驟例如可以是利用未詳細(xì)示出的鉆孔裝置進(jìn) 行激光鉆孔。
在根據(jù)圖1的實施方式中，可以為第二個例如正相對的標(biāo)記3設(shè)置 帶有相應(yīng)的第二光源4的第二接收裝置7，以便實現(xiàn)對待定位的物體1 的正確的空間定位或定向。作為替代方案，可以4吏接收裝置7相應(yīng)地移 動到標(biāo)記3的區(qū)域中，其中同樣只接收具有相對于原先用于特別是在標(biāo) 記3
由根據(jù)圖2的詳圖可見，在待定位的、基本上板狀的物體1上的標(biāo) 記3由通孔構(gòu)成。此外圖2中示意示出，同樣以13標(biāo)示的基底或者保持 或支撐裝置至少一個在待定位的物體1的標(biāo)記3的區(qū)域中設(shè)有由發(fā)熒光 材料構(gòu)成的層15,從而由光源4按照光路5發(fā)出的光被發(fā)焚光層15變 換成按照光路6的、改變的波長的光。在相應(yīng)地選擇濾光器8之后，該改 變的波長的光穿過該濾光器射入到接收裝置7中。相反，未改變的波長 的被物體1的表面按照光路16和17反射的光被濾光器8阻止，因此不 會到達(dá)接收裝置7中，從而以簡單且可靠的方式確保射入到接收裝置7 中的光是改變的波長的光，該光通過由光源4按照光路5射到位于標(biāo)記 3下面的發(fā)熒光材料15上而被變換，由此散射光效應(yīng)或反射光效應(yīng)不會 不利地影響對待定位的物體1的正確定位或定向的分析。
因此可以通過簡單地設(shè)置發(fā)熒光層15和由此可實現(xiàn)的將原先波長的 按照光路5的光簡單地變換或轉(zhuǎn)換成具有改變的波長的、按照光路6的 光，實現(xiàn)有待定位的物體1的可靠且精確的定位，從而減少或避免g 定向。
在當(dāng)前情況下重要的是，由至少一個光源4射到待定位的物體上的 光按照光路5被待發(fā)熒光的層15接收，并由該層發(fā)出改變的波長的光或 通常電磁的射線6，其中該射線按照示意示出的光路6在后續(xù)過程中并 且特別是在穿過濾光器8之后被接收在接收裝置7中，必要時進(jìn)行后續(xù) 分析。
代替圖1和2中所示的發(fā)熒光或發(fā)熒光的層，例如也可以使用發(fā)熒光的或帶有熒光色彩的薄膜、聚合物或玻璃。
圖3中示出一種變型的實施方式，其中同樣由以4標(biāo)示的光源將原 先或初始的波長的光按照光路5在標(biāo)記19的區(qū)域中射到同樣基本上板狀 的物體18上，其中在圖3所示的實施方式中，待定位的物體18例如由 多層印制電路^板構(gòu)成。例如由圖3可見，標(biāo)記19由待定位的物體18的 表面上的下凹或盲孔構(gòu)成，其中該多層的待定位的物體18在下凹或標(biāo)記 19的底部區(qū)域中具有同樣由發(fā)熒光材料20構(gòu)成的層，從而按照光路5 發(fā)射的光同樣被變換成改變的波長的按照光路6的光或通常電磁的射 線，其在穿過同樣以8標(biāo)示的濾光器之后射入到接收裝置7中。
類似于根據(jù)圖2的實施方式，被物體18的表面按照同樣以16和17 標(biāo)示的光路反射的光不能或者以大大減小的強度穿過濾光器8，因此不 能到達(dá)接收裝置7中。
因此與根據(jù)圖2的構(gòu)造不同，在圖3所示的實施方式中，無需為基 底13或者保持或支撐裝置設(shè)置發(fā)熒光層。
在圖4所示的變型的實施方式中，標(biāo)以21的待定位的物體在其表面 上具有由發(fā)熒光材料構(gòu)成的標(biāo)記22,從而類似于前述實施方式，由同樣 標(biāo)以4的光源發(fā)出的光按照光路5在射到發(fā)熒光的標(biāo)記22之后被變換成 改變的波長的按照光路6的光，其在穿過濾光器8之后同樣被接收在接 收裝置7中，必要時接著被予以分析。
類似于根據(jù)圖3的實施方式，在根據(jù)圖4的實施方式中，基底13也 未設(shè)有發(fā)熒光層。
類似于根據(jù)圖1和2的實施方式，在根據(jù)圖3和4的實施方式中， 也可以為了對板狀物體18或21相對于基底13或者與該基底一起的定 位，設(shè)有用于使板狀的物體移動的裝置12和/或用于使基底13與板狀的 物體一起移動的裝置14,或者所述裝置與在接收裝置7之后連接的分析 裝置IO聯(lián)接。
此外圖2至4中示出，除了光源4夕卜，對于該光源為了清楚地表示 分別示出或設(shè)置光路5或6，還可以設(shè)有至少一個其它的標(biāo)以f的附加 的光源，該附加的光源例如可用于提高接收裝置10的區(qū)域中的分辨率。代替所示出的附加光源4'可以規(guī)定，例如基本上環(huán)狀地圍繞接收裝 置或相機7設(shè)有多個光源4'。與圖1和2中所示的無中心的設(shè)置相比， 這種設(shè)置的一個優(yōu)點例如在于，在特別是環(huán)狀地設(shè)置多個光源4'的情 況下可以減小陰影影響。
光源4例如可以由發(fā)熒光二極管、激光二極管、不同類型的燈例如 與濾色器相結(jié)合等構(gòu)成，從而發(fā)射可見范圍或UV范圍或紅外范圍中的優(yōu) 選具有窄的光鐠范圍并且由此具有良好規(guī)定的顏色或波長的光。在與為 了將用于照射待定位的物體1的光的波長轉(zhuǎn)換或變換而使用的發(fā)熒光材 料15, 20或22匹配時選擇相應(yīng)波長或顏色的光源4。
在選擇相應(yīng)的電磁射線、例如UV光時，也可以使用印制電路板材料 或通常待定位的物體1的材料、特別是該物體的聚合物材料的固有的熒 光，其中這特別是可用于圖3和4所示的實施方式。作為所謂的反向?qū)?比，它們可以以類似的方式在根據(jù)圖1和2的實施方式中使用。
在與通過發(fā)熒光材料15， 20或22改變的波長匹配時，^使用與在標(biāo) 記3， 19， 22的區(qū)域中通過發(fā)熒光材料發(fā)出的光的顏色或改變的波長相 應(yīng)匹配的濾光器8，其中特別是光源4或4'的光被屏蔽。
代替濾光器8和接在后面的接收裝置7，例如也可以使用帶有多個顏 色通道的接收裝置7,例如RGB相機，其中在這種情況下通過選#^接收 裝置7的相應(yīng)的通道或通道組合可以實現(xiàn)顏色區(qū)分或?qū)νㄟ^發(fā)熒光材料 15， 20或22改變的波長的區(qū)分或調(diào)節(jié)。
代替具有多個顏色通道的接收裝置或相機，作為接收裝置7，可以使 用不同類型的相機，例如黑/白CCDs、 CMOS和其它的相機。
此外可以在接收裝置7和/或至少一個光源4的區(qū)域中使用二向色鏡。
如圖1所示，在使用例如帶有多個印制電路板或印制電路板部件2 的板狀的待定位的物體1時，例如在對物體1進(jìn)行定位和定向之后，例 如利用用于各個印制電路板的區(qū)域中設(shè)置多個鉆孔或通孔或微通孔的鉆 孔裝置、特別是激光鉆孔裝置對印制電路板2進(jìn)行加工。替代地或附加 地，也可以釆用利用至少一個銑床的銑削工藝。附加地，也可以特別是與對印制電路板的加工或制造相關(guān)地實施其 它制造步驟，例如照相印刷工藝、掩模工藝、絲網(wǎng)印刷工藝、曝光過程 或裝配過程等，為此要求分別對有待加工的物體1相應(yīng)地進(jìn)行準(zhǔn)確且高 精度的定向和定位。
權(quán)利要求1. 一種用于使物體相對于基底或與基底一起的定位或定向的裝置，其中設(shè)有至少一個用于在待定位的物體的至少一個標(biāo)記的區(qū)域中照射物體的光源和一個接收裝置，該接收裝置接收由所述待定位的物體和/或基底反射的光，并且基于所述被接收的反射射線來確定所述物體的位置和/或?qū)λ鑫矬w的位置或方向進(jìn)行校正，其特征在于，設(shè)有一個接收裝置(7)，該接收裝置用于有選擇地接收相對于照射到所述物體(1，18，21)上的光波長改變的光，在待定位或待定向的物體(1，18，21)的標(biāo)記(3，19，22)的區(qū)域中通過使用發(fā)熒光的材料(15，20，22)反射所述波長改變的光。
2. 如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，在所述接收裝置(7) 的前面連接一個與所述波長改變的光匹配的、濾光的過濾器(8)。
3. 如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述接收裝置(7)由 具有多個用于接收不同波長的光的顏色通道的接收裝置構(gòu)成。
4. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，用于使所 述待定位或待定向的物體(1, 18, 21)相對于基底或與所述基底(13) 一起移動的裝置(12, 14)與所述接收裝置(7)聯(lián)接。
5. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，所述光源 (4)由發(fā)光二極管、激光二極管或白熾燈和氣體放電燈結(jié)合濾色器等構(gòu)成。
6. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，所述待定 位的或待定向的物體(18, 21)由板狀的部件構(gòu)成，該部件具有至少一 個由發(fā)熒光的材料構(gòu)成的標(biāo)記(20， 22)。
7. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，所述待定 位或待定向的物體(1， 18, 21)以公知的方式設(shè)有至少兩個標(biāo)記(3, 19, 22)。
8. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，所述待定 位的物體(18)的標(biāo)記(19)由下凹或凹槽構(gòu)成。
9. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，所述待定 位的物體(1)的標(biāo)記(3)由一通孔構(gòu)成，并且所述基底(13)具有由 發(fā)熒光的材料構(gòu)成的層(15)組成。
10. 如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述接收裝置(7)由 具有多個用于接收不同波長的光的顏色通道的相機構(gòu)成。
專利摘要本實用新型涉及一種用于使物體相對于基底或與基底一起的定位或定向的裝置，其中設(shè)有至少一個用于在待定位的物體的至少一個標(biāo)記的區(qū)域中照射物體的光源和一個接收裝置，該接收裝置接收由所述待定位的物體和/或基底反射的光，基于所述被接收的反射射線來確定所述物體的位置和/或?qū)λ鑫矬w的位置或方向進(jìn)行校正，其特征在于，設(shè)有一個接收裝置(7)，該接收裝置用于有選擇地接收相對于照射到所述物體(1，18，21)上的光波長改變的光，在待定位或待定向的物體(1，18，21)的標(biāo)記(3，19，22)的區(qū)域中通過使用發(fā)熒光的材料(15，20，22)反射所述波長改變的光。
文檔編號H05K3/00GK201252679SQ20072030534
公開日2009年6月3日 申請日期2007年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月12日
發(fā)明者克里斯托弗·莫澤, 盧祖博米爾·馬雷爾杰科 申請人:奧特斯(中國)有限公司