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      微波加熱器的制作方法

      文檔序號:8108989閱讀:675來源:國知局
      專利名稱:微波加熱器的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及用于介電加熱要被加熱的物體的微波加熱設(shè)備。
      背景技術(shù)
      作為代表性的微波加熱設(shè)備的微波爐可以直接加熱作為要被加熱的代表 物體的食物。因此,其不需要蒸煮盤或蒸煮罐的便利性使得微波爐成為生活
      不可缺少的設(shè)備。到現(xiàn)在為止,如下的微波爐通常廣為普及該微波爐的加 熱室具有寬度和深度尺寸分別為300到400mm并且高度尺寸大約為200mm 的食物裝載空間,其中通過所述加熱室傳播微波。
      近年來,實際使用了如下產(chǎn)品該產(chǎn)品具有橫向較寬的加熱室,該加熱 室的食物裝載空間具有扁平底面,且該加熱室的橫向?qū)挾韧ㄟ^將寬度尺寸設(shè) 置為400mm或比深度尺寸更大來加寬,以便可以并行加熱多個食物以增強(qiáng)其 <更利性。
      而且,由于微波爐的功能的進(jìn)步,配備有"燒烤菜單(grillmenu)"以及 所謂"加溫菜單(hot-up menu)"(通過向食物福射4鼓波來力口熱食物的高步頁力口 熱)的傳統(tǒng)提供的微波爐被投入市場。"燒烤菜單"意味著通過升高在上面放 了食物的加熱盤的溫度經(jīng)由加熱盤來加熱食物的方法、通過燒烤加熱器來加 熱食物的方法以及它們的組合,以燒烤方式來烹調(diào)食物的烹調(diào)菜單(其中, 烹調(diào)食物以便具有脆的表面和多汁的內(nèi)部)。
      傳統(tǒng)地,如圖17所示,這種高頻加熱設(shè)備300包括用于傳播從作為代 表性的微波生成部件的磁控管302輻射的微波的波導(dǎo)303;加熱室301;被固 定在加熱室301中的裝載臺306,其中放置作為要被加熱的代表物體的食物 (未示出),且該裝載臺306由諸如陶瓷、玻璃等的低損耗介電材料制成以便 容易地傳輸微波;在加熱室301中的裝載臺306以下形成的天線空間310; 旋轉(zhuǎn)天線305,其^^波導(dǎo)303到天線空間310裝配到加熱室301的中心,以 將傳播通過波導(dǎo)303的微波輻射至加熱室301的內(nèi)部;電動機(jī)304,作為用 于轉(zhuǎn)動/驅(qū)動旋轉(zhuǎn)天線305的代表驅(qū)動部件;加熱盤308,根據(jù)應(yīng)用被提供在加熱室301中;盤支撐部分307,用于支持加熱盤308;以及加熱器309,用 于進(jìn)4亍電力口熱。
      在通過高頻加熱來直接加熱要被加熱的物體的加溫菜單中,在將食物等 放在裝載臺306上的情況下執(zhí)行高頻加熱。從磁控管302輻射的微波經(jīng)由波 導(dǎo)303 ^皮旋轉(zhuǎn)天線305吸收一次(once ),并且隨后,該微波從旋轉(zhuǎn)天線305 的輻射部分的上表面向加熱室301輻射。此時,為了在加熱室301中均勻地^ 攪動(stir)微波,通常旋轉(zhuǎn)天線305在以預(yù)定速度轉(zhuǎn)動(tum)的同時輻射微波。
      而且,當(dāng)選擇以燒烤方式來烹調(diào)食物的燒烤菜單時,食物(例如黑肉、 魚等)凈皮放在由盤支撐部分307支持的加熱盤308上。在這種狀態(tài)下,由位 于食物上方的加熱器309來加熱/處理該食物的表面部分。而且,由其溫度被 微波升高的加熱盤308來加熱/處理該食物的背面部分。
      在將微波集中到食物上的加熱烹調(diào)中,由于微波的屬性而過度地蒸發(fā)了 食物內(nèi)部所包含的水分。相反,由加熱器和加熱盤兩者來加熱食物的處理可 以以所謂燒烤方式來加工完成食物,以使食物的表面松脆,同時保持了食物 內(nèi)部的水分或口感(見專利文獻(xiàn)l)
      專利文獻(xiàn)1: JP-A-2004-07121
      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明所要解決的問題
      但是,在專利文獻(xiàn)1中闡述的傳統(tǒng)高頻加熱設(shè)備被構(gòu)造以便當(dāng)執(zhí)行前述 燒烤菜單時,與在加溫菜單中一樣'在以預(yù)定速度轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)天線305的同時
      輻射微波。
      本發(fā)明的發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)了如下事實當(dāng)旋轉(zhuǎn)天線305在以預(yù)定速度轉(zhuǎn)動 的同時輻射高頻功率時,被輻射的高頻功率的一部分對于加熱盤308的溫度 升高沒有貢獻(xiàn)。這是因為該高頻功率被攪動并被輻射到加熱室301的內(nèi)部。
      而且,在傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)中,在一些情況下導(dǎo)致了這種情形被輻射到加熱室 內(nèi)部的部分微波傳播到加熱盤308的上層空間(其中放置了食物的空間),然 后直接加熱食物。
      在這種情況下,食物的水分被蒸發(fā),且因此使得食物被加工完成為具有 干的內(nèi)部(干透的結(jié)果)。取決于作為要被加熱的物體的食物的類型,這種情 形給出了不期望的結(jié)果。
      6已經(jīng)做出了本發(fā)明以解決上述問題,且本發(fā)明的目的是提供一種高頻加 熱設(shè)備,即使當(dāng)選擇燒烤菜單時其也能夠獲得適用于要被加熱的物體的類型 的期望的烹調(diào)結(jié)果,并改進(jìn)加熱效率。
      解決問題的手段
      本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備包括加熱室,用于在其上裝載要被加熱的物體
      的加熱盤可分離地附接到該加熱器;微波生成單元;波導(dǎo),用于從所述微波 生成單元發(fā)送微波;旋轉(zhuǎn)天線,用于將所述微波從所述波導(dǎo)輻射到所述加熱 室;驅(qū)動單元,用于轉(zhuǎn)動/驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)天線;操作部分,能夠選擇燒烤菜單 和加溫菜單,其中通過所述燒烤菜單加熱放在所述加熱盤上的要被加熱的物 體,且通過所述加溫菜單加熱被加熱的盤而不使用所述加熱盤;以及控制單 元,用于基于來自所述操作部分的輸出信號來控制所述驅(qū)動單元;其中,所 述控制單元進(jìn)行控制以響應(yīng)于來自所述操作部分的輸出信號而改變所述旋轉(zhuǎn) 天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分的方向。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),旋轉(zhuǎn)天線的操作被控制為滿足烹調(diào)菜單的內(nèi)容。因此,當(dāng) 選擇加溫菜單時,微波^L均勻地攪動以均勻地加熱要^皮加熱的物體,而當(dāng)選 擇了燒烤菜單時,微波被集中到加熱室內(nèi)適當(dāng)?shù)奈恢蒙?。因此,可以獲得適 于要被加熱的物體種類的期望的烹調(diào)結(jié)果,還可以改進(jìn)加熱效率。
      而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,控制單元控制旋轉(zhuǎn)天線的輻射 方向性的強(qiáng)烈部分的方向,以便當(dāng)操作部分選擇燒烤菜單時微波集中到加熱 盤上,并且控制單元控制旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分的方向,以便當(dāng) 操作部分選擇加溫菜單時,微波集中到要被加熱的物體上。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),根據(jù)烹調(diào)菜單的內(nèi)容來控制旋轉(zhuǎn)天線的操作。因此,當(dāng)選 擇加溫菜單時,微波被集中到要被加熱的物體上,而當(dāng)選擇燒烤菜單時控制 微波的集中位置以有效地升高加熱盤的溫度。因此,可以獲得適于要被加熱 的物體種類的期望的烹調(diào)結(jié)果,還可以改進(jìn)加熱效率。
      而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,加熱室包括多層盤支撐部分, 用于支撐加熱盤;以及當(dāng)所述操作部分選擇燒烤菜單時,所述控制單元根據(jù) 在所述多層的任何一層上支持的加熱盤的位置,來控制所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射 方向性的強(qiáng)烈部分的方向。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),可以根據(jù)層位置來選擇烹調(diào)菜單,且可以通過"燒烤菜單"來加熱/烹調(diào)各種食物。例如,當(dāng)在上層盤支撐部分上放置加熱盤時,可以燒 烤諸如魚或黑肉的薄食物材料。當(dāng)在中層盤支撐部分上放置加熱盤時,可以 烹調(diào)諸如烤牛肉或烤雞的大食物材料。當(dāng)在下層盤支撐部分上放置加熱盤時, 可以烹調(diào)諸如比薩或肉菜飯等需要其背面加熱功率但應(yīng)該使上表面加熱功率 柔和的食物材料。因此,可以增加適用燒烤烹調(diào)的物體食物的類型,且可以 改進(jìn)烹調(diào)性能。
      而且,根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備還包括在所述加熱室的頂部上提供
      的加熱單元;其中,當(dāng)指向所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向的強(qiáng)烈部分以便將所述
      微波集中到所述加熱盤上時,所述控制單元使得所述加熱單元生成熱量。 根據(jù)該結(jié)構(gòu),還可以在燒烤烹調(diào)期間執(zhí)行由加熱器所給定的加熱。 而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,旋轉(zhuǎn)天線被提供在所述加熱室
      的底部上,并從所述加熱室的底部輻射翻轉(zhuǎn)微波。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),可以從加熱室的下表面輻射微波。因此,當(dāng)通過在預(yù)定位
      置中停止旋轉(zhuǎn)天線將微波集中到加熱盤上時,可以減少傳播到加熱盤上方的
      上層空間的微波的量。
      而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,加熱盤具有高頻吸收器。 根據(jù)該結(jié)構(gòu),通過將微波集中到高頻吸收器上來有效地升高加熱盤的溫度。
      同樣,高頻加熱設(shè)備包括微波生成單元;波導(dǎo),用于從所迷微波生成 單元發(fā)送微波;加熱室,用于在其上裝載要被加熱的物體的加熱盤可分離地 附接到該加熱室,該加熱室連接到所述波導(dǎo)的上部,且其寬度方向尺寸大于 深度方向尺寸;加熱器,用于電加熱所述加熱室;不轉(zhuǎn)動裝載臺,布置在所 述加熱室中以在其上裝載要被加熱的物體;被加熱物體容納空間,形成在所 述加熱室中的裝載臺上;天線空間,形成在所述加熱室中的加熱臺下;旋轉(zhuǎn) 天線,用于將所述波導(dǎo)中的微波輻射到所述加熱室;驅(qū)動單元,用于轉(zhuǎn)動/驅(qū) 動所述旋轉(zhuǎn)天線;以及控制單元,用于通過控制所述驅(qū)動單元來控制所述旋 轉(zhuǎn)天線的方向;其中,所迷加熱盤具有在所述裝載臺的側(cè)面上的高頻吸收器 的鐵氧體,其中,所述加熱室具有用于在所述被加熱物體容納空間中支持加 熱盤的盤支撐部分,以及所述控制單元將所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向的強(qiáng)烈部 分控制在預(yù)定方向,以便通過高頻功率集中加熱所迷加熱盤。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),旋轉(zhuǎn)天線的操作被控制為滿足烹調(diào)菜單的內(nèi)容。因此,當(dāng)選擇加溫菜單時,微波被均勻地攪動以均勻地加熱要被加熱的物體,而當(dāng)選 擇了燒烤菜單時,微波集中到加熱室內(nèi)的適當(dāng)位置上。因此,可以獲得適用 于要被加熱的物體的種類的期望的烹調(diào)結(jié)果,還可以改進(jìn)加熱效率。
      而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,所述旋轉(zhuǎn)天線由兩個旋轉(zhuǎn)天線 構(gòu)成,所述兩個旋轉(zhuǎn)天線被布置在相對于所述天線空間中的加熱室的寬度方 向?qū)ΨQ的位置中,以及所述控制單元將所述兩個旋轉(zhuǎn)天線中的至少 一個旋轉(zhuǎn) 天線的輻射方向的強(qiáng)烈部分控制到預(yù)定方向。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),多個旋轉(zhuǎn)天線使得在旋轉(zhuǎn)天線的停止位置的組合的數(shù)量能 夠增加(例如, 一個旋轉(zhuǎn)天線位于原點位置,另一旋轉(zhuǎn)天線位于在逆時針方 向上距離原點90度,等)。因此,微波也可以被更多地集中到加熱盤的高頻 吸收器。因此,可以改進(jìn)加熱盤的加熱效率。同時,可以集中i也加熱加熱盤 的右半或左半?yún)^(qū)域或上半或下半?yún)^(qū)域,這擴(kuò)展了烹調(diào)方法的變形。
      而且,根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備還包括溫度檢測單元,用于檢測在所 述加熱室中的要被加熱的物體或所述加熱盤的溫度;其中,所述控制單元基 于所述溫度檢測單元的檢測結(jié)果來控制所述旋轉(zhuǎn)天線。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),即使當(dāng)選擇"燒烤菜單,,時,可以在加熱開始的初始階段 以恒定速度轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)天線,且當(dāng)在加熱室或加熱盤中的溫度分布中的差異開 始出現(xiàn)時,還可以基于存儲在控制單元中的位置信息,來轉(zhuǎn)變旋轉(zhuǎn)天線到操 作控制。
      而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,所述控制單元控制所述驅(qū)動單 元,以便使所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向的強(qiáng)烈部分在預(yù)定位置停止。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),驅(qū)動單元可以精確地控制旋轉(zhuǎn)天線的停止位置,這改善了 力口熱盤的力口熱凌文率。
      而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,所述控制單元控制所述驅(qū)動單 元,以使得所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分在靠近預(yù)定位置附近搖擺。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),可以防止由于在輻射微波期間保持旋轉(zhuǎn)天線的停止?fàn)顟B(tài)而 在向旋轉(zhuǎn)天線的一部分集中微波時造成過度加熱。即使旋轉(zhuǎn)天線圍繞目標(biāo)角
      度(停止位置)在大約±5度轉(zhuǎn)動,但很難影響加熱盤的加熱效率,而可以
      實現(xiàn)防止天線組件的過度溫度升高的充足效果。
      而且,在根據(jù)本發(fā)明的高頻加熱設(shè)備中,所述控制單元控制所述驅(qū)動單 元,以便在微波加熱期間轉(zhuǎn)動所述旋轉(zhuǎn)天線,并且所述輻射方向性的強(qiáng)烈部分在預(yù)定位置附近減速。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),可以防止由于在輻射微波期間保持旋轉(zhuǎn)天線的停止?fàn)顟B(tài)而 在向旋轉(zhuǎn)天線的一部分集中微波時而造成的過度加熱。
      本發(fā)明的優(yōu)點
      根據(jù)本發(fā)明,可以提供即使當(dāng)選擇燒烤菜單時也能夠獲得適于要被加熱 的物體種類的期望的烹調(diào)結(jié)果并且還改善了加熱效率的高頻加熱設(shè)備。


      根據(jù)本發(fā)明的實施例1的微波爐的正面剖面結(jié)構(gòu)圖。 [圖2]根據(jù)本發(fā)明的實施例1的微波爐的側(cè)面剖面結(jié)構(gòu)圖(沿著圖1的 A-A'線的剖面圖)。說明當(dāng)加熱被放在上層上的加熱盤時旋轉(zhuǎn)天線的方向的圖(沿著圖 1的B-B'線的剖面圖)。說明當(dāng)加熱祐L放在中層上的加熱盤時旋轉(zhuǎn)天線的方向的圖。 [圖5]說明當(dāng)加熱祐:放在下層上的加熱盤時旋轉(zhuǎn)天線的方向的圖。 [圖6]說明旋轉(zhuǎn)天線的原點檢測機(jī)構(gòu)的圖(沿著圖1的C-C,線的剖面圖)。 [圖7]控制部件411的示意結(jié)構(gòu)圖。 [圖8]根據(jù)本發(fā)明的實施例1的微波爐的操作流程圖。 [圖9A]現(xiàn)有技術(shù)的加熱盤和根據(jù)本發(fā)明的加熱盤的溫度分布的比較圖 (上層)。圖9A的參考圖?,F(xiàn)有技術(shù)的加熱盤和根據(jù)本發(fā)明的加熱盤的溫度分布的比較圖
      (下層)。圖IOA的參考圖。溫度檢測部件的示意結(jié)構(gòu)圖。示出本發(fā)明的實施例1的微波爐的變型的圖(具有兩個旋轉(zhuǎn)天線 的例子)。示出本發(fā)明的實施例1的微波爐的變型的圖(具有兩個旋轉(zhuǎn)天線 的例子)。示出旋轉(zhuǎn)天線的變型的圖。[圖15]示出旋轉(zhuǎn)天線的另一變型的圖。 [圖16]示出旋轉(zhuǎn)天線的另一變型的圖。 [圖17]現(xiàn)有技術(shù)的微波爐的示意結(jié)構(gòu)圖。
      附圖標(biāo)記的描述
      31微波爐(微波加熱設(shè)備)
      32磁控管(微波生成部件)
      33波導(dǎo)
      34力0熱室
      35裝載臺
      37天線空間
      39旋轉(zhuǎn)天線
      41電動才幾(驅(qū)動部件)
      411控制部件
      具體實施例方式
      以下將參考附圖詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的實施例。 (實施例1 )
      圖1到圖3是作為根據(jù)本發(fā)明的代表性微波加熱部件的微波爐31的結(jié)構(gòu) 圖,其中,圖l是當(dāng)從正面看時的剖面圖,圖2是沿著圖1的A-A,線的剖面 圖,圖3是沿著圖1的B-B,線的剖面圖,且圖6是沿著圖1的C-C,線的剖面圖。
      如圖1所示,微波爐31包括波導(dǎo)33,用于傳輸從作為代表性微波生 成部件的磁控管32輻射的微波;加熱室34,連接于波導(dǎo)33的上部,且具有 其寬度尺寸(大約410mm)大于深度尺寸(大約315mm)的形狀;裝載臺 35,固定在加熱室34中,其中放入了作為要被加熱的代表性物體的食物(未 示出),且裝載臺35由諸如陶資或玻璃的低損耗介電材料制成以容易地傳輸 微波;天線空間37,形成在加熱室34中的裝載臺35之下;旋轉(zhuǎn)天線39,被 裝配到天線空間37,以向加熱室34的內(nèi)部輻射傳播經(jīng)過波導(dǎo)33的微波;電 動機(jī)41,作為用于轉(zhuǎn)動/驅(qū)動旋轉(zhuǎn)天線39的代表性驅(qū)動部件;控制部件411, 用于通過控制電動機(jī)41來控制旋轉(zhuǎn)天線39的方向;以及光電斷續(xù)器36,構(gòu)成用于檢測旋轉(zhuǎn)天線39的轉(zhuǎn)動的原點的原點檢測機(jī)構(gòu)。
      而且,為加熱室34的上表面部分提供用于進(jìn)行電加熱的加熱器401。而 且,加熱室34具有用于支持分別在三個層處的加熱盤402的盤支撐部分。具 體地,加熱室34具有上層盤支撐部分403、中層盤支撐部分404、和下層盤 支撐部分405。加熱盤402在不放置要被加熱的物體的背面?zhèn)?裝載臺35側(cè)) 上具有高頻吸收器(例如鐵氧體(ferrite))。
      而且,如圖2所示,微波爐31具有門64。而且,在門64的下部布置了 操作部分63。用戶可以根據(jù)食物或烹調(diào)的內(nèi)容經(jīng)由操作部分63來選擇各種 烹調(diào)菜單。例如,用戶可以經(jīng)由操作部分63來設(shè)置加熱時間并選擇先前設(shè)置 的烹調(diào)菜單,諸如"加溫菜單"、"燒烤菜單"等。
      "加溫菜單"提供通過向食物輻射微波來加熱食物的烹調(diào)方法。"燒烤菜 單"提供通過升高在其上放置了食物的加熱盤的溫度來經(jīng)由加熱盤加熱食物 的烹調(diào)方法,或通過升高其溫度的加熱盤和燒烤加熱器的組合來加熱食物的 烹調(diào)方法。
      控制部件411基于來自操作部分63的輸出信號來控制^茲控管32和電動 機(jī)41。
      旋轉(zhuǎn)天線39被構(gòu)造為具有輻射方向性。實施例1的微波爐31被構(gòu)造為 使得通過將旋轉(zhuǎn)天線39的輻射方向性的強(qiáng)烈部分(sharp part)控制在預(yù)定方 向上來集中地加熱加熱盤402。稍后將描述應(yīng)該如何具體控制旋轉(zhuǎn)天線。
      而且,旋轉(zhuǎn)天線39具有耦合部分46和輻射部分48。該耦合部分46由 大約18mm直徑的幾乎圓形的圓柱體導(dǎo)電材料構(gòu)成,以穿過在波導(dǎo)33和加熱 室底面42之間的邊界面上提供的大約30mm直徑的幾乎圓形的耦合孔44。 該輻射部分48由在水平方向上大致具有比在垂直方向上更寬的區(qū)域的導(dǎo)電 材料形成,且被電連接于耦合部分46的上端。
      而且,旋轉(zhuǎn)天線39被構(gòu)造為以便耦合部分46被裝配在電動機(jī)41的軸 50上,以使得耦合部分44的中心與轉(zhuǎn)動/驅(qū)動的中心一致。輻射部分48被構(gòu) 造為具有輻射方向性,因為其形狀在轉(zhuǎn)動方向上不均勻。
      旋轉(zhuǎn)天線39的轉(zhuǎn)動中心被布置在加熱室34的內(nèi)部的中心。當(dāng)從圖3的 頂部查看時,波導(dǎo)33構(gòu)成T形,且具有左右(bilaterally)對稱的形狀。
      輻射部分48被構(gòu)造為圍繞著輻射部分上表面52的四角形的四個角,且 分別向兩個相對側(cè)提供向加熱室底部表面42側(cè)彎曲的輻射部分彎曲部分54,以限制微波輻射到兩側(cè)的外面。在加熱室底部表面42和輻射部分上表面52 之間的距離被設(shè)置為大約10mm,且輻射部分彎曲部分54 ^皮下拉到低于上表 面52大約5mm的位置。
      而且,剩余的兩側(cè)在水平方向上從耦合部分46到末端部分(end portion ) 分別具有不同的長度,且構(gòu)成其距離耦合部分的中心的長度為大約75mm的 末端部分56和其距離耦合部分的中心的長度為大約55mm的末端部分58。 而且,在寬度方向上兩個末端部分尺寸被設(shè)置為80mm或更多。根據(jù)該結(jié)構(gòu), 旋轉(zhuǎn)天線39在從耦合部分45到末端部分58的方向上增強(qiáng)輻射方向性。
      在該結(jié)構(gòu)中,當(dāng)"加溫菜單,,均勻地加熱普通食物時,不像傳統(tǒng)的微波 爐一樣特別擔(dān)心放置加熱設(shè)備的地方,且旋轉(zhuǎn)天線30還可以像現(xiàn)有4支術(shù)一樣 以恒定速度轉(zhuǎn)動。
      相反,當(dāng)放在加熱盤302上的食物通過"燒烤菜單,,加熱時,在旋轉(zhuǎn)天 線39的末端部分58指向預(yù)定位置的狀態(tài)下停止旋轉(zhuǎn)天線39的操作。
      該預(yù)定位置取決于加熱室的大小和加熱盤的位置以及其他之間的關(guān)系來 決定,且應(yīng)該預(yù)先基于實驗來得出。例如,當(dāng)已經(jīng)獲得示出微波^R集中在正 被放在上層盤支撐部分403的加熱盤402且有效地升高了加熱盤402的溫度 這一事實的結(jié)果、作為在如圖3所示的旋轉(zhuǎn)天線39的末端部分58指向門64 (正面方向)的情形下的實驗結(jié)果時,在控制部件411中存儲這一位置,作 為當(dāng)加熱盤402纟皮;改在上層盤支撐部分403上時旋轉(zhuǎn)天線39的停止位置。
      在實施例1的微波爐31中,控制部件411基于具有光電斷續(xù)器36的原 點檢測機(jī)構(gòu)已經(jīng)檢測的原點,來存儲旋轉(zhuǎn)天線39的角度信息(停止位置)。 在實施例1的微波爐31中,其中旋轉(zhuǎn)天線39的末端部分58指向門64的旋 轉(zhuǎn)天線39的位置(如圖3所示)被設(shè)置為原點位置(0度)。
      而且,當(dāng)在如圖4所示的旋轉(zhuǎn)天線39的末端部分58指向加熱室34的右 側(cè)的情形下,已經(jīng)獲得示出微波被集中在正4皮放在中層盤支撐部分404的加 熱盤402且有效地升高了加熱盤402的溫度這一事實的結(jié)果時,微波爐31的 控制部件411存儲這一位置(在逆時針方向上距原點45度)作為當(dāng)加熱盤 402被放在中層盤支撐部分404上時旋轉(zhuǎn)天線39的停止位置。
      而且,當(dāng)在如圖5所示的旋轉(zhuǎn)天線39的末端部分58指向加熱室34的左 側(cè)的情形下,已經(jīng)獲得示出微波被集中在正被放在下層盤支撐部分405的加 熱盤402且有效地升高了加熱盤402的溫度這一事實的結(jié)果時,微波爐31的控制部件411存儲這一位置(在逆時針方向上距原點315度)作為當(dāng)加熱盤402被放在下層盤支撐部分405上時旋轉(zhuǎn)天線39的停止位置。
      如上所述,實施例1的微波爐31 4艮據(jù)加熱盤的位置來控制旋轉(zhuǎn)天線的方向。為了將旋轉(zhuǎn)天線39定向于預(yù)定方向,可以使用步進(jìn)式電動機(jī)(steppingmotor)作為電動機(jī)41 ,可以使用通過檢測參考位置來控制恒定速度電動機(jī)的電流供應(yīng)時間的部件等。
      在實施例1的微波爐31中,可以使用步進(jìn)式電動機(jī)作為電動機(jī)41,且向電動才幾的軸41-提供原點檢測機(jī)構(gòu)。如圖6所示,由具有作為中心軸(axis)的軸的圓板36a和光電斷續(xù)器36來構(gòu)造該原點沖全測機(jī)構(gòu)。在圓板36a中提供矩形縫隙(rectangular slit) 36b。
      圓板36a被裝配到轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)天線39的電動機(jī)的軸59。轉(zhuǎn)動圓板36a來中斷具有發(fā)光元件和光接收元件的光電斷續(xù)器36的光路。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),當(dāng)縫隙36b穿過光電斷續(xù)器36的光路時,不遮斷該光路,且因此可以檢測當(dāng)縫隙穿過光路時的時間點。因此,如果先前設(shè)置縫隙36b的位置作為旋轉(zhuǎn)天線39的原點,則被裝配到電動機(jī)的光電斷續(xù)器36可以檢測旋轉(zhuǎn)天線的這一原點。
      接下來,以下將說明控制部件411的結(jié)構(gòu)。如圖7所示,控制部件411具有天線控制部分412,用于通過控制電動機(jī)41的操作來控制旋轉(zhuǎn)天線39的操作;以及存儲部分413,用于存儲旋轉(zhuǎn)天線39的位置信息(角度信息)。
      天線控制部分412響應(yīng)于來自操作部分63的命令信號而參考在存儲部分413中的必要信息,并控制電動機(jī)41。存儲部分413存儲適用于加熱在加熱室中放置加熱盤402的每個(上、中、下)位置的加熱盤412的旋轉(zhuǎn)天線39的位置信息。具體地,存儲部分413存儲上層盤支撐部分的位置信息414(原點)、中層盤支撐部分的位置信息415 (在逆時針方向上距原點"度)、和下層盤支撐部分的位置信息416 (在逆時針方向上距原點315度)。
      接下來,以下將參考圖8來說明本發(fā)明的實施例1的微波爐31的操作。
      首先,通過接通電源,微波爐31被置于待機(jī)狀態(tài)(S101)。然后,用戶根據(jù)要被力口熱的物體的內(nèi)容(要被加熱的食物的類型)選擇"加溫菜單"、"燒烤菜單"等。如果選擇了 "加溫菜單,,(S102-A),則操作部分63向天線控制
      部分412輸出通知選擇了 "加溫菜單,,的信號。
      天線控制部分412在接收到輸出信號時,通過以恒定速度轉(zhuǎn)動電動機(jī)41來以預(yù)定速度轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)天線39 (S103)。然后,控制部件411通過操:作磁控
      管32來開始加熱處理(S107)。在經(jīng)過了預(yù)定時間之后(S108),控制部件411停止旋轉(zhuǎn)天線39、 ^茲控管32等的操作。然后,結(jié)束"加溫菜單,,的加熱處理(S109)。
      相反,如果選擇了 "燒烤菜單"(S102-B),操作部分63向天線控制部分412輸出通知選擇了 "燒烤菜單"的信號。天線控制部分412在接收到輸出信號時,基于該輸出信號來決定現(xiàn)在加熱盤裝載在上層、中層、和下層位置中的哪一個上(S104)。在"燒烤菜單,,中,可以選擇諸如魚、黑肉、烤牛肉、烤雞、比薩餅、肉菜飯等被燒烤物體的類型,且先前存儲了加熱盤的上層、中層、和下層位置的任何一個以對應(yīng)于燒烤物體的類型。因此,當(dāng)在"燒烤菜單,,中選擇了燒烤物體的類型時,決定加熱盤的位置。但裝載位置的決定不局限于該模式。例如,可以向各個盤支撐位置提供檢測部件,且可以由來自該;險測部件的信號來決定盤位置。
      然后,天線控制部分412基于在S104中決定的位置信息來參考在存儲部分413中的對應(yīng)的位置信息,并控制電動機(jī)40。例如,當(dāng)才喿作部分63在"燒烤菜單,,中選擇上層裝載位置時,天線控制部分412通過參考位置信息414來控制電動機(jī)40,然后轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)天線39到在逆時針方向上距原點90度的位置,且然后在該位置上停止旋轉(zhuǎn)天線39 (S105)。
      在預(yù)定位置上停止旋轉(zhuǎn)天線39之后,控制部件411開始加熱加熱器401(S106)。然后,控制部件411通過操作磁控管32來開始加熱處理(S107)。在經(jīng)過預(yù)定時間之后(S108),控制部件411停止旋轉(zhuǎn)天線39、加熱器401、,茲控管32等的操作。然后,結(jié)束"燒烤菜單,,的加熱處理(S109)。
      利用上述結(jié)構(gòu),實施例1的微波爐31在加熱室34中具有三個(上層、中層、下層)盤支撐部分。因此,可以4艮據(jù)層位置來選擇烹調(diào)菜單,且可以通過"燒烤菜單,,來加熱/烹調(diào)各種食物。
      例如,在被應(yīng)用了典型的燒烤烹調(diào)的諸如魚、黑肉等的薄食物材料的情況下使用上層(盤支撐部分403 )。在應(yīng)該烹調(diào)諸如烤牛肉、烤雞等的大食物材料的情況下使用中層(盤支撐部分404)。在下層(盤支撐部分404)的情況下,可以在例如比薩餅、肉菜飯等需要背面加熱功率但上表面加熱功率應(yīng)該柔和的這種情況下通過保持距上表面加熱器的距離來改進(jìn)烹調(diào)性能。
      而且,實施例1的微波爐31可以烘焙被烹調(diào)的物體的背面,因為作為被粘貼到加熱盤402的背面的高頻吸收器的鐵氧體可以吸收高頻功率并生成熱量。而且,由于在加熱室的頂部上安置加熱器,因此該;微波爐31可以通過從
      加熱器加熱來執(zhí)行上表面烹調(diào)。另外,該微波爐31可以#4&層位置來控制旋轉(zhuǎn)天線在高頻加熱設(shè)備中的位置,以有效地加熱加熱盤402的背面。
      由于高頻波形根據(jù)放入加熱盤402的位置而改變,因此旋轉(zhuǎn)天線39的臨時停止位置變得不同。在這種情況下,如上所述,預(yù)先通過實驗來決定這樣的停止位置,且在存儲部分413中存儲該停止位置??梢酝ㄟ^向電動機(jī)41提供原點檢測機(jī)構(gòu)來精確地控制旋轉(zhuǎn)天線39的停止位置,以便可以在各個層位置中以最大效率來實現(xiàn)加熱,且可以減少傳播到加熱盤上方的上部空間(其中裝載了食物的空間)的微波的量。因此,可以預(yù)防食物內(nèi)的水分被過度蒸發(fā)。
      圖9A是比較當(dāng)在加熱室的上層處放入加熱盤時、現(xiàn)有技術(shù)中的加熱盤的溫度分布和本發(fā)明的加熱盤的溫度分布的圖。在圖9A中,(a)示出現(xiàn)有技術(shù)中的加熱盤的溫度分布。在圖9A中,(b)示出本發(fā)明的加熱盤的溫度分布。在圖9A中,(c)是示出現(xiàn)有技術(shù)中的加熱盤的溫度分布的頻率的圖。在圖9A中,(d)是示出才艮據(jù)本發(fā)明的加熱盤的溫度分布的頻率的圖。在此,"頻率,,表示在加熱盤的整個區(qū)域中處于預(yù)定溫度的區(qū)域的比率。
      基于實驗結(jié)果來進(jìn)行比較,同時在相同地保持磁控管的操作條件的情況下的僅改變旋轉(zhuǎn)天線的才喿作。在圖9A中的(a)和圖9A中的(b)的比較中,在兩個圖中,90° C到120。 C的范圍沿著加熱盤的食物裝載部分450的外部邊緣而分布。相反,在現(xiàn)有技術(shù)中,120° C到180° C的范圍未分布在加熱盤上的食物裝載部分450的一部分上(圖9A (a)中的左下部分),而在本發(fā)明中,這一范圍在加熱盤上的整個食物裝載部分450上分布。換句話說,本發(fā)明的加熱盤可以總體上均勻地保持在高溫度狀態(tài)。
      而且,在圖9A中的(c)和圖9A中的(d)之間的比較中,圖9A (d)中的圖中的峰值比9A ( c )中的圖中的峰值位于更高的溫度范圍。可以從該結(jié)果知道,相比于現(xiàn)有^t支術(shù)中的加熱盤,本發(fā)明的加熱盤可以廣泛地分布高溫度范圍。
      為了參考的目的、圖9B通過使用等溫線(contour)示出了圖9A中的溫度分布。圖9B中的(a)對應(yīng)于圖9A中的U),并示出了現(xiàn)有技術(shù)中的加熱盤的溫度分布。圖9B中的(b)對應(yīng)于圖9A中的(b),并示出本發(fā)明的加熱盤的溫度分布。
      而且,可以從該比較結(jié)果確認(rèn),當(dāng)加熱盤裝載在加熱室的上層時,可以通過在預(yù)定位置停止旋轉(zhuǎn)天線而在"燒烤菜單,,上改進(jìn)加熱盤的加熱效率。
      圖IOA是比較當(dāng)加熱盤放置在加熱室的下層時,現(xiàn)有4支術(shù)中的加熱盤上
      的溫度分布和本發(fā)明的加熱盤上的溫度分布的圖。圖10A中的(a)示出現(xiàn)有技術(shù)中加熱盤上的溫度分布。圖10A中的(b)示出本發(fā)明的加熱盤的溫度分布。圖IOA中的(c)是示出現(xiàn)有技術(shù)中加熱盤上的溫度分布的頻率的圖。圖IOA中的(d)是示出本發(fā)明的加熱盤上的溫度分布的頻率的圖。
      在圖IOA的(a)和圖IOA的(b)之間的比較中,相比于現(xiàn)有技術(shù)中的加熱盤,本發(fā)明中加熱盤上的整個食物裝載部分450上分布20。 C到180。 C的范圍。換句話說,本發(fā)明的加熱盤可以總體上均勻地保持在高溫度狀態(tài)。而且,本發(fā)明的加熱盤可以廣泛地分布180° C或更高的范圍。
      而且,在圖10A的(c)和圖10A的(d)之間的比4交中,10A (d)中的圖中的峰值比圖10A (c)中的圖中的峰值位于更高的溫度范圍中??梢詮脑摻Y(jié)果知道,相比于現(xiàn)有技術(shù)中的加熱盤,本發(fā)明的加熱盤可以廣泛地分布高溫度范圍。
      為了參考的目的,圖IOB通過使用等溫線示出了圖IOA中的溫度分布。圖10B中的(a)對應(yīng)于圖10A中的(a),并示出了現(xiàn)有4支術(shù)中的加熱盤的溫度分布。圖10B中的(b)對應(yīng)于圖10A中的(b),且示出本發(fā)明的加熱盤的
      溫度分布。
      而且,還可以從該比較結(jié)果確認(rèn),當(dāng)加熱盤裝載在加熱室的上層時,可以通過在預(yù)定位置停止旋轉(zhuǎn)天線而在"燒烤菜單,,中改進(jìn)加熱盤的加熱效率。
      從這些結(jié)果,可以理解,當(dāng)分別在每個層位置,在最佳位置停止在"燒烤菜單,,中旋轉(zhuǎn)天線的操作時,在各個層位置中可以以最大的效率來實現(xiàn)加熱。
      在實施例1的微波爐31的說明中,說明了其中在"燒烤菜單,,期間停止旋轉(zhuǎn)天線39的例子。但旋轉(zhuǎn)天線的操作控制不局限于該模式。例如,擔(dān)心當(dāng)旋轉(zhuǎn)天線39仍然停止在預(yù)定位置的同時繼續(xù)向加熱室輻射微波時,旋轉(zhuǎn)天線39本身的溫度過度升高,且旋轉(zhuǎn)天線39熔斷。
      鑒于該方面,控制部件411的天線控制部分412可以圍繞目標(biāo)角度(停止位置)在預(yù)定角度內(nèi)(例如±5度)往復(fù)地(reciprocal ly)搖擺旋轉(zhuǎn)天線39。因此,可以防止旋轉(zhuǎn)天線39的劣化不對加熱盤的加熱效果造成相當(dāng)大的 影響。而且,可以防止由于在輻射微波期間保持旋轉(zhuǎn)天線的停止?fàn)顟B(tài)而在向 旋轉(zhuǎn)天線39的一部分集中微波時造成的過度加熱??梢詮募訜衢_始的時間點 或在從加熱開始的時間點經(jīng)過了預(yù)定時間(例如,在30秒到1分鐘之后)之 后執(zhí)行該往復(fù)運動。
      為了執(zhí)行該往復(fù)運動,控制部件411具有上限停止時間存儲部分,用 于預(yù)先存儲上限時間,在該上限時間內(nèi)允許旋轉(zhuǎn)天線39的停止;停止時間計 數(shù)部分,用于計數(shù)旋轉(zhuǎn)天線39停止的時間;以及往復(fù)角存儲部分,用于存儲 旋轉(zhuǎn)天線39在其中往復(fù)地?fù)u擺的角度。
      而且,可以在從"燒烤菜單"上的加熱開始的時間點經(jīng)過預(yù)定時間(例 如,在30秒到1分鐘以后)之后,將旋轉(zhuǎn)天線39轉(zhuǎn)動預(yù)定角度(例如,5 度)。
      而且,為了相同的目的,可以控制旋轉(zhuǎn)天線39的轉(zhuǎn)動速度。例如,可以 通過圍繞預(yù)定位置緩慢地轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)天線39、但在剩余位置以恒定速度轉(zhuǎn)動旋 轉(zhuǎn)天線39來將微波集中至加熱盤402。類似地,預(yù)先基于實驗來決定當(dāng)應(yīng)該 圍繞哪個位置且以哪種速度來控制旋轉(zhuǎn)天線時樣史波可以被集中到加熱盤上。
      而且,控制部件411可以存儲旋轉(zhuǎn)天線39在預(yù)定停止位置(角度)的位 置作為原點。而且,控制部件411在例如^M于加熱處理之前或在扭^亍加熱處 理之后執(zhí)行檢查旋轉(zhuǎn)天線39的原點的原點檢測模式、以及"加溫菜單"或"燒 烤菜單"。
      在原點檢測模式,控制部件411不能指定旋轉(zhuǎn)天線39的角度。因此,當(dāng) 仍然照原樣振蕩微波時,有時生成非計劃的加熱狀態(tài)從而導(dǎo)致故障。由于這 個原因,控制部件411執(zhí)行控制,以便當(dāng)在原點檢測模式中驅(qū)動旋轉(zhuǎn)天線39 時停止磁控管的操作。
      而且,控制部件411在結(jié)束加熱處理之后執(zhí)行原點檢測模式,且在已經(jīng) 檢測到了原點的情況下在非加熱狀態(tài)下等待(standby)。因此,可以防止在開 始加熱處理之前出現(xiàn)檢測原點所需要的等待時間。
      而且,即使當(dāng)選擇"燒烤菜單,,時,控制部件411也可以在加熱開始的 初始階段下以恒定速度轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)天線39,且還可以當(dāng)在加熱室34中的溫度 分布中的差異開始出現(xiàn)時、基于存儲部分413的位置信息將旋轉(zhuǎn)天線39轉(zhuǎn)變 至操作控制。為了檢測溫度分布,應(yīng)該提供圖11所示的溫度檢測部件。該溫度檢測部
      件具有在底斧反(base plate) l9上對準(zhǔn)的多個紅外檢測元件13、用于容納 (housing)整個底板19的外殼18、以及用于在與對準(zhǔn)紅外檢測元件13的方向 垂直地交叉的方向上移動外殼18的步進(jìn)式電動機(jī)11。
      在底板19上提供用于密封紅外檢測元件13的金屬罐15、和用于處理紅 外檢測元件的操作的電子電路20。而且,在金屬罐15上提供使紅外線穿過 的透鏡14。而且,在外殼18上提供使紅外線穿過的紅外線穿過孔16、和使 得來自電子電路20的導(dǎo)線穿過的孔17。
      根據(jù)該結(jié)構(gòu),當(dāng)轉(zhuǎn)動步進(jìn)式電動機(jī)11時,可以在與對準(zhǔn)紅外4企測元件 13的方向垂直的方向上移動外殼18。由于作為溫度檢測部件的步進(jìn)式電動機(jī) 11進(jìn)行往復(fù)轉(zhuǎn)動操作,因此可以從力。熱室34中的所有區(qū)域?qū)嵸|(zhì)地檢測到溫 度分布。
      而且,說明使用一個旋轉(zhuǎn)天線的情況。但旋轉(zhuǎn)天線的數(shù)量不局限于該數(shù) 量,且可以使用超過2個的復(fù)數(shù)個旋轉(zhuǎn)天線。例如,如圖12和圖13所示, 可以在加熱室的寬度方向上布置兩個旋轉(zhuǎn)天線。在圖13所示的情況中,各個 旋轉(zhuǎn)天線的末端部分指向加熱室中的中心。在這種情況下,同樣預(yù)先基于實 驗來決定,當(dāng)應(yīng)該以哪一位置關(guān)系控制兩個旋轉(zhuǎn)天線時,微波可以被集中到 加熱盤上。
      多個旋轉(zhuǎn)天線使得在旋轉(zhuǎn)天線的停止位置的組合的數(shù)量能夠增加(例如, 一個旋轉(zhuǎn)天線處于原點位置,且另一旋轉(zhuǎn)天線處于逆時針方向上距離原點90 度等)。因此,微波也可以被更多地集中到加熱盤的高頻吸收器。因此,可以 改進(jìn)加熱盤的加熱效率。同時,可以集中地加熱加熱盤的右半或左半?yún)^(qū)域或 上半或下半?yún)^(qū)域。因此,可以擴(kuò)展烹調(diào)方法的變形。
      旋轉(zhuǎn)天線的形狀不局限于本實施例中示出的例子。例如,如圖14所示, 可以使用具有在圓板的 一部分中的開口部分的天線作為旋轉(zhuǎn)天線。
      具體地,旋轉(zhuǎn)天線83和84分別具有在輻射部分85和86中的圓弧形的 開口部分87和88。在寬度方向上開口部分87和88的長度L1被i殳置為超過 或等于被輻射到加熱室中的微波的波長的1/4。因此,當(dāng)旋轉(zhuǎn)天線83和M停 止時,它們具有在開口部分的輻射方向性,以便可以局部加熱在加熱室34中 的特定區(qū)域。
      而且,作為旋轉(zhuǎn)天線的另一變型,存在矩形旋轉(zhuǎn)天線卯和91,例如,如圖15所示。旋轉(zhuǎn)天線90和91具有彎曲部分94和95,每個所述彎曲部分 分別在矩形的三個側(cè)面上被彎曲到加熱室的底表面?zhèn)?,且旋轉(zhuǎn)天線90和91 分別具有剩余的一個不彎曲側(cè)部分92和93。因此,不彎曲側(cè)部分92和93 具有強(qiáng)烈的方向性(sharp directivity),以便可以局部加熱在加熱室34中的特 定區(qū)域。
      而且,作為旋轉(zhuǎn)天線的另一變型,存在矩形旋轉(zhuǎn)天線201和202,例如, 如圖16所示。旋轉(zhuǎn)天線201和202具有彎曲部分203和203,每個所述彎曲 部分分別在矩形的四個側(cè)面上被彎曲到加熱室的底面?zhèn)?,且旋轉(zhuǎn)天線201和 202具有在輻射部分206、 207上的開口部分208和209。因此,旋轉(zhuǎn)天線201 和202具有強(qiáng)烈的方向性,以便可以局部加熱在加熱室34中的特定區(qū)域。
      而且,以5[mm]或更大的間隔來相互提供各個旋轉(zhuǎn)天線。因此,可以防 止如下情形各個旋轉(zhuǎn)天線彼此干擾,且過度加熱并損壞部分旋轉(zhuǎn)天線等。
      在這種情況下,可以以各種組合實現(xiàn)上述實施例。
      雖然參考特定實施例詳細(xì)描述了本發(fā)明,-f旦本領(lǐng)域^支術(shù)人員明白,可以
      在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下應(yīng)用各種變形和修改。
      雖然參考特定實施例詳細(xì)描述了本發(fā)明,但本領(lǐng)域技術(shù)人員明白,可以
      在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下應(yīng)用各種變形和々務(wù)改。
      該申請是基于在2006年6月19日提交的日本專利申請(專利申請 No.2006-169269);其內(nèi)容通過引用并入于此。
      工業(yè)實用性
      如上所述,本發(fā)明可以通過將布置在加熱室中的旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性 的強(qiáng)烈部分控制在預(yù)定方向上來集中地加熱加熱盤。因此,當(dāng)選擇燒烤菜單
      時,可以獲得適合于將被加熱的物體類型的期望的烹調(diào)結(jié)果,并且可以改進(jìn) 加熱效率。
      權(quán)利要求
      1. 一種高頻加熱設(shè)備,包括加熱室,用于在其上裝載被加熱的物體的加熱盤可分離地附接到該加熱器;微波生成單元;波導(dǎo),用于從所述微波生成單元發(fā)送微波;旋轉(zhuǎn)天線,用于將所述微波從所述波導(dǎo)輻射到所述加熱室中;驅(qū)動單元,用于轉(zhuǎn)動/驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)天線;操作部分,能夠選擇燒烤菜單和加溫菜單,其中通過所述燒烤菜單加熱放在所述加熱盤上的要被加熱的物體,且通過所述加溫菜單加熱被加熱的盤而不使用所述加熱盤;以及控制單元,用于基于來自所述操作部分的輸出信號來控制所述驅(qū)動單元;其中,所述控制單元進(jìn)行控制,以響應(yīng)于來自所述操作部分的輸出信號而改變所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分的方向。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1的高頻加熱設(shè)備,其中,所述控制單元控制所述旋轉(zhuǎn) 天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分的方向,以便當(dāng)所述"^喿作部分選擇燒烤菜單時, ^微波集中到所述加熱盤上,并且該控制單元控制所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性 的強(qiáng)烈部分的方向,以便當(dāng)所述操作部分選擇加溫菜單時,微波集中到要被 加熱的物體上。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的高頻加熱設(shè)備,其中,所述加熱室包括用于支持所述加熱盤的多層盤支撐部分;其中,當(dāng)所述操作部分選擇燒烤菜單時,所述控制單元根據(jù)在所述多層的任何一層上支持的加熱盤的位置,控制所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分的方向。
      4. 根據(jù)權(quán)利要求1的高頻加熱設(shè)備,還包括 在所述加熱室的頂部上提供的加熱單元;其中,當(dāng)指向所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向的強(qiáng)烈部分以便將所述微波集中 到所述加熱盤上時,所述控制單元使得所述加熱單元生成熱量。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求1的高頻加熱設(shè)備,其中旋轉(zhuǎn)天線配備在所述加熱室的 底部上,并從所述加熱室的底部輻射翻轉(zhuǎn)微波。
      6. 根據(jù)權(quán)利要求1到5的任何一個的高頻加熱設(shè)備,其中,所述加熱盤 具有高頻吸收器。
      7. —種高頻加熱設(shè)備,包括 微波生成單元;波導(dǎo),用于從所述微波生成單元發(fā)送微波;加熱室,用于在其上裝載被加熱的物體的加熱盤可分離地附接到該加熱 室,該加熱室連接到所述波導(dǎo)的上部,且其寬度方向尺寸大于深度方向尺寸; 加熱器,用于電加熱所述加熱室;不轉(zhuǎn)動裝載臺,布置在所述加熱室中以在其上裝載被加熱的物體; 神皮加熱物體容納空間,形成在所述加熱室中的該裝載臺上; 天線空間,形成在所述加熱室中的該裝載臺下; 旋轉(zhuǎn)天線,用于將所述波導(dǎo)中的微波輻射到所述加熱室; 驅(qū)動單元,用于轉(zhuǎn)動/驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)天線;以及其中,所述加熱盤具有在所述裝載臺的側(cè)面上的高頻吸收器的鐵氧體, 其中,所述加熱室具有用于在所述^C加熱物體容納空間中支持加熱盤的盤支撐部分,以及其中,所述控制單元將所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向的強(qiáng)烈部分控制在預(yù)定 方向,以便通過高頻功率集中加熱所述加熱盤。
      8. 根據(jù)權(quán)利要求1到7中的任何一個的高頻加熱設(shè)備,其中,所述旋轉(zhuǎn) 天線由兩個旋轉(zhuǎn)天線構(gòu)成,所述兩個旋轉(zhuǎn)天線被布置在相對于所述天線空間 中的加熱室的寬度方向?qū)ΨQ的位置中,以及其中,所述控制單元將所述兩個旋轉(zhuǎn)天線中的至少一個旋轉(zhuǎn)天線的輻射 方向性的強(qiáng)烈部分控制到預(yù)定方向。
      9. 根據(jù)權(quán)利要求1到8中的任何一個的高頻加熱設(shè)備,還包括 溫度檢測單元,用于檢測所述加熱室中要被加熱的物體或所述加熱盤的溫度;其中,所述控制單元基于所述溫度檢測單元的檢測結(jié)果來控制所述旋轉(zhuǎn) 天線。
      10. 根據(jù)權(quán)利要求1到9的任何一個的高頻加熱設(shè)備,其中,所述控制 單元控制所述驅(qū)動單元,以使得所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分在預(yù)定位置停止。
      11. 根據(jù)權(quán)利要求1到IO的任何一個的高頻加熱設(shè)備,其中,所述控制 單元控制所述驅(qū)動單元,以^^l尋所述旋轉(zhuǎn)天線的輻射方向性的強(qiáng)烈部分在預(yù) 定位置附近搖擺。
      12. 根據(jù)權(quán)利要求1到11的任何一個的高頻加熱設(shè)備,其中,所述控制 單元控制所述驅(qū)動單元,以使得在微波加熱期間轉(zhuǎn)動所述旋轉(zhuǎn)天線,并且所 述輻射方向性的強(qiáng)烈部分在預(yù)定位置附近減速。
      全文摘要
      提供一種高頻微波加熱器,用于實現(xiàn)適于當(dāng)選擇燒烤菜單時的此類物體的要被加熱的物體的期望的烹調(diào)狀態(tài),并以改進(jìn)的加熱效率來加熱物體。該微波加熱器包括加熱室,其中,可分離地附接了在其上放置要被加熱的物體的加熱盤;微波生成部件;波導(dǎo),用于從微波生成部件發(fā)送微波;旋轉(zhuǎn)天線,用于將微波從波導(dǎo)發(fā)射到加熱室;驅(qū)動部件,用于旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動旋轉(zhuǎn)天線;以及操作部分,用于選擇用于加熱被放置在加熱盤上的物體的燒烤菜單或用于加熱物體而不使用加熱盤的加溫菜單;以及控制部件,用于根據(jù)來自操作部分的輸出信號來控制驅(qū)動部件。該控制部件控制該驅(qū)動部件以便根據(jù)來自操作部分的輸出信號來改變旋轉(zhuǎn)天線的強(qiáng)輻射方向性的部分的方向。
      文檔編號H05B6/72GK101473693SQ20078002311
      公開日2009年7月1日 申請日期2007年6月18日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月19日
      發(fā)明者吉野浩二, 森泰久, 河合佑, 瀧崎健 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社
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