專利名稱：：氣體阻擋薄膜和采用了該薄膜的顯示元件的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及氣體阻擋薄膜及其制造方法以及采用了氣體阻擋薄膜的顯示元件。
背景技術：
：一直以來人們都在研究有機EL元件等顯示元件中使用的氣體阻擋薄膜。日本特開2007-30451號公報中公開了一種在基材薄膜的一個面上設有氣體阻擋層、在另一個面上設有玻璃化轉變溫度為6(TC以上的樹脂層的氣體阻擋薄膜。另外，在日本特開平9-254303號公報中公開了一種在基材薄膜的一個面上設有氣體阻擋層、在另一個面上設有耐溶劑層的氣體阻擋薄膜。但是，這樣的氣體阻擋薄膜在未設置氣體阻擋層的一面上缺乏水分遮蔽性。因此，在有機EL元件等的制造過程中，會受到因薄膜攝入水分等或攝入的成分釋放等產生的影響。另一方面，在日本特開2006-35737號公報中公開了一種在基材薄膜的兩面均具有有機無機層疊型氣體阻擋層的氣體阻擋薄膜。但是，在日本特開2006-35737號公報中，由于在兩面均設有有機無機層疊型氣體阻擋層，因此其制造制造較為困難。
發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于解決上述課題，即提供即使僅在單面上設有有機無機層疊型氣體阻擋層也能有效地防止水分從未設氣體阻擋層的一側滲入的氣體阻擋薄膜?；谏鲜稣n題，發(fā)明人進行了潛心研究，結果發(fā)現(xiàn)通過在基材薄膜的單面上設置有機無機層疊型氣體阻擋層，而在另一個面上僅設置以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層(以下有時稱為"阻擋性樹脂層")來作為具有阻擋性能的層，能夠解決上述課題。具體而言，通過以下方法來實現(xiàn)。(1)氣體阻擋薄膜，其在基材薄膜的一個面上具有氣體阻擋層，該氣體阻擋層具有至少1個有機區(qū)域和至少1個無機區(qū)域，在上述基材薄膜的另一個面上僅具有以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層來作為具有阻擋性能的層。(2)如(1)所述的氣體阻擋薄膜，其中，氣體阻擋層具有至少1層有機層和至少l層無機層。(3)如(1)或(2)所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層中的樹脂是聚乙烯醇。(4)如(1)或(2)所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層中的樹脂是多官能丙烯酸酯。(5)如(2)(4)中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，有機層是通過使含有至少1種具有雙酚骨架的(甲基)丙烯酸酯的組合物固化而形成的。(6)如(2)(5)中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層和有機層的主要成分相同。(7)如(2)、(4)(6)中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層和有機層的主要成分均為(甲基)丙烯酸酯衍生物。(8)如(1)(7)中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層的厚度為0.53(^m。(9)如(1)(8)中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，氣體阻擋薄膜的厚度為10300|im。(10)如(1)(9)中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其用于顯示元件。(11)(1)(10)中任一項所述的氣體阻擋薄膜的制造方法，其特征在于，在基材薄膜上設置氣體阻擋層后，在上述基材薄膜的相反側設置以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層。(12)顯示元件，其采用了(1)(10)中任一項所述的氣體阻擋薄膜。(13)如(12)所述的顯示元件，其特征在于，氣體阻擋薄膜用作顯示元件的基板。(14)如(12)所述的顯示元件，其特征在于，氣體阻擋薄膜用作顯示元件的封固薄膜。(15)如(12)(14)中任一項所述的顯示元件，其中，在顯示元件上按以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層位于外側的方式設置氣體阻擋薄膜。根據(jù)本發(fā)明，即使僅在氣體阻擋薄膜的單面上設置有機無機層疊型氣體阻擋層，也能抑制基材薄膜攝入或釋放水分或氣體，其結果是，在制作有機EL元件等顯示元件時，能減少該顯示元件的劣化，從而穩(wěn)定地制造顯示元件。圖1是表示將現(xiàn)有的氣體阻擋薄膜和本發(fā)明的氣體阻擋薄膜用作有機EL元件的封固薄膜時的概略圖。具體實施例方式下面對本發(fā)明的內容進行詳細說明。另外，本說明書中""是指包含其前后記載的數(shù)值作為下限值和上限值。本發(fā)明中的有機EL元件指有機電致發(fā)光元件。本發(fā)明的氣體阻擋薄膜的特征在于，在基材薄膜的一個面上設有氣體阻擋層，該氣體阻擋層(本說明書中有時稱為"有機無機層疊型氣體阻擋層")具有至少1個有機區(qū)域和至少1個無機區(qū)域，在基材薄膜的另一個面上僅設有以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層(阻擋性樹脂層)來作為具有阻擋性能的層。在此，關于阻擋性樹脂層，構成該層的第一成分為具有阻擋性能的樹脂，其通常含有80重量％以上具有阻擋性能的樹脂。因此，在不脫離本發(fā)明主旨的范圍內，并不排除含有其他的成分。"作為具有阻擋性能的層"是指，作為具有阻擋性能的層可以僅設有該阻擋性樹脂層，也可設有具有其他功能的層。即，設有其他氣體阻擋層的實施方式不屬于本發(fā)明的范圍，但設有用于使阻擋性樹脂層與基材薄膜貼合的粘接層或其他功能層的實施方式屬于本發(fā)明的范圍。下面，以將本發(fā)明的氣體阻擋薄膜用于有機EL元件的封固薄膜的情況為例進行說明。當然，本發(fā)明并不止限于這些實施方式。圖1為表示將現(xiàn)有的氣體阻擋薄膜和本發(fā)明的氣體阻擋薄膜用于有機EL元件的封固薄膜時的概略圖，(a)表示現(xiàn)有的氣體阻擋薄膜，(b)表示本發(fā)明的氣體阻擋薄膜。這里分別用l表示基材薄膜，2表示有機無機層疊型氣體阻擋層，3表示阻擋性樹脂層。另外，(c)是有機EL元件，在基板4上設有一對電極及該電極與設于該電極間的有機化合物層等的層疊體若采用現(xiàn)有的氣體阻擋薄膜(a)，則水分從基材薄膜1側滲入，由于該滲有水分的狀態(tài)的氣體阻擋薄膜與有機EL元件貼合，因而有因水分導致元件劣化的問題。而若采用本發(fā)明的氣體阻擋薄膜(b)，則有機無機層疊型氣體阻擋層2和阻擋性樹脂層3能夠防止水分滲入。另外，在圖1中，本發(fā)明的氣體阻擋薄膜被作為有機EL元件的封固薄膜使用，但也可作為有機EL元件的基板使用，亦可作為兩者使用。而且，還可在其他的顯示元件中使用。在這些情況下，優(yōu)選將阻擋性樹脂層設在顯示元件的外側。本發(fā)明的氣體阻擋薄膜的厚度優(yōu)選為1030(Him，更優(yōu)選為25250jim。(以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層)本發(fā)明的以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層(阻擋性樹脂層)中的具有阻擋性能的樹脂是指，例如抑制對構成有機EL元件的材料產生影響的氧或水分等氣體成分擴散的材料。具體而言，可列舉出聚乙烯醇、聚偏氯乙烯類共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、含有合成云母的樹脂層、有機無機層疊型氣體阻擋層的有機層中使用的多官能丙烯酸酯，優(yōu)選聚乙烯醇和多官能丙烯酸酯。阻擋性樹脂層的主要成分優(yōu)選與構成氣體阻擋層的有機層的主要成分相同。采用這樣的構成具有易成膜的優(yōu)點。關于阻擋性樹脂層的氣體阻擋性，在25-C、相對濕度50%的條件下測定時，優(yōu)選水蒸氣透過率為0.00110g/m2天。阻擋性樹脂層的厚度優(yōu)選為0.530um，更優(yōu)選為l20um。阻擋性樹脂層優(yōu)選通過在基材薄膜上涂布樹脂組合物來設置，也可采用使用粘接劑等粘貼樹脂薄膜等方法。(氣體阻擋層)本發(fā)明的氣體阻擋層是具有遮斷阻斷大氣中的氧、水分的功能的層，是將有機區(qū)域與無機區(qū)域或有機層與無機層層疊而成的有機無機層疊型。有機區(qū)域與無機區(qū)域或有機層與無機層通常交替層疊。當由有機區(qū)域和無機區(qū)域構成時，可以是各區(qū)域沿膜厚方向連續(xù)變化的所謂的傾斜材料層。作為上述傾斜材料的例子，可列舉出木村的論文"真空科學與技術學報A第23巻，971頁977頁(2005年發(fā)行，美國真空學會)(JournalofVacuumScienceandTechnologyAVol.23p971—977(2005AmericanVacuumSociety))"中記載的材料、美國公開專利2004-46497號說明書中公開的有機層和無機層為無界面的連續(xù)的層等。下面，為簡略化起見，將有機層和有機區(qū)域記作"有機層"，將無機層和無機區(qū)域記作"無機層"。對構成氣體阻擋層的層數(shù)沒有特殊限制，典型的優(yōu)選2層30層，更優(yōu)選3層20層。氣體阻擋層的厚度不受特殊限制，例如為0.230um，優(yōu)選為0.515um。(無機層)無機層通常是由金屬化合物形成的薄膜層。關于無機層的形成方法，只要是能形成目標薄膜的任何方法均可使用。例如涂布法、濺射法、真空蒸鍍法、離子鍍法、等離子體CVD法等均適用，具體而言，可采用日本特許第3400324號、日本特開2002-322561號、日本特開2002-361774號公報記載的形成方法。上述無機層中含有的成分只要能滿足上述性能即可，沒有特殊限制，例如可使用含有選自Si、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce或Ta等中的1種以上的金屬的氧化物、氮化物、碳化物、氧氮化物、氧碳化物、氮碳化物、氧氮碳化物等。其中，優(yōu)選選自Si、Al、In、Sn、Zn、Ti的金屬的氧化物、氮化物或氧氮化物，特別優(yōu)選Si或Al的金屬氧化物、氮化物或氧氮化物。它們還可以含有其他元素作為次要成分。對上述無機層的厚度沒有特殊限制，優(yōu)選在5nm500nm的范圍內，更優(yōu)選10nm200nm。另外，也可層疊2層以上的無機層。此時，各層可以是相同組成，也可以是不同組成。另外，也可以是美國公開專利2004-46497號說明書中公開的與有機層的界面不明顯且組成在膜厚方向上連續(xù)變化的層。(有機層)本發(fā)明的有機層由作為聚合物優(yōu)選的自由基聚合性化合物和/或具有醚基這一官能團的陽離子聚合性化合物的聚合物形成。(聚合性化合物)本發(fā)明使用的聚合性化合物是末端或側鏈具有烯鍵式不飽和鍵的化合物和/或末端或側鏈具有環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷的化合物。其中，優(yōu)選末端或側鏈具有烯鍵式不飽和鍵的化合物。作為末端或側鏈具有烯鍵式不飽和鍵的化合物的例子，可列舉出(甲基)丙烯酸酯類化合物(將丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯合并表示為(甲基)丙烯酸酯)、丙烯酰胺類化合物、苯乙烯類化合物、馬來酸酐等。作為(甲基)丙烯酸酯類化合物，優(yōu)選(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或聚酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯等。作為苯乙烯類化合物，優(yōu)選苯乙烯、(x-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、二乙烯基苯、4-羥基苯乙烯、4-羧基苯乙烯等。下面，列舉(甲基)丙烯酸酯類化合物的具體例子，但本發(fā)明不限于這些。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>CH3CH3(聚合引發(fā)劑)本發(fā)明的有機層一般通過涂布聚合性組合物使其固化來獲得，該聚合性組合物可以含有聚合引發(fā)劑。在使用光聚合引發(fā)劑的情況下，其含量優(yōu)選為聚合性化合物總量的0.1摩爾％以上，更優(yōu)選為0.52摩爾％。采用這樣的組成能適當?shù)乜刂茪v經活性成分生成反應的聚合反應。作為光聚合引發(fā)劑的例子，可列舉出CibaSpecialtyChemicals出售的Irgacure系列(例如Irgacure651、Irgacure754、Irgacure184、Irgacure2959、Irgacure907、Irgacure369、Irgacure379、Irgacure819等)、Darocure系列(例如DarocureTPO、Darocure1173等)、QuantacurePDO，Sartomer公司出售的Ezacure系列(例如EzacureTZM、EzacureTZT等)。(有機層的形成方法)作為有機層的形成方法，沒有特殊限制，例如可采用溶液涂布法或真空成膜法來形成。作為溶液涂布法，例如可采用浸漬涂布法、氣刀涂布法、簾式涂布法、輥涂法、繞線棒涂布法、凹版涂布法、坡流涂布法或者美國專利第2681294號說明書中記載的使用料斗的擠出涂布法來進行涂布。作為真空成膜法，沒有特殊限制，優(yōu)選蒸鍍、等離子體CVD等成膜方法。在本發(fā)明中，可以將聚合物進行溶液涂布，也可以如日本特開2000-323273號公報、日本特開2004-25732號公報中公開的那樣采用含有無機物的雜化涂布法。(聚合性化合物的交聯(lián)方法)在本發(fā)明中，使上述聚合性化合物受熱或照射各種能量射線來進行聚合、交聯(lián)，從而形成以高分子為主要成分的有機層。作為能量射線的例子，可列舉出紫外線、可見光、紅外線、電子射線、X射線、y射線等。此時，若用熱進行聚合則采用熱聚合引發(fā)劑，若用紫外線進行聚合則采用光聚合引發(fā)劑，若用可見光進行聚合則采用光聚合引發(fā)劑和增感劑。其中，優(yōu)選用紫外線使含有光聚合引發(fā)劑的聚合性化合物聚合并交聯(lián)。在本發(fā)明中，通常對含有聚合性化合物的組合物進行光照射來使其固化，照射的光通常為高壓汞燈或低壓汞燈產生的紫外線。照射能量優(yōu)選為0.5J/cn^以上，更優(yōu)選為2J/ci^以上。若是(甲基)丙烯酸酯類化合物，因空氣中的氧會阻礙其聚合，因此優(yōu)選降低聚合時的氧濃度或氧分壓。當用氮置換法來降低聚合時的氧濃度時，氧濃度優(yōu)選為2%以下，更優(yōu)選為0.5%以下。當用減壓法來降低聚合時的氧分壓時，總氣壓優(yōu)選在1000Pa以下，更優(yōu)選在100Pa以下。另外，特別優(yōu)選在100Pa以下的減壓條件下照射2J/cm2以上的能量來進行紫外線聚合。本發(fā)明的有機層以平滑且膜硬度高為宜。有機層的平滑性優(yōu)選ljam見方的平均粗糙度(Ra值)為低于lnm，更優(yōu)選為低于0.5nm。單體的聚合率優(yōu)選在85%以上，更優(yōu)選在88%以上，進一步優(yōu)選在90%以上，特別優(yōu)選在92%以上。這里所謂的聚合率是指單體混合物中總的聚合性基團(丙烯酰基和甲基丙烯?；?中反應了的聚合性基團的比率。聚合率可通過紅外線吸收法來測定。對有機層的膜厚沒有特殊限制，若過薄，則難以得到均一的膜厚，若過厚，則會在外力的作用下產生裂縫而降低阻擋性?；诖擞^點，有機層的厚度優(yōu)選為50nm2000nm，更優(yōu)選為200nm1500nm。如上所述，有機層以平滑為宜。有機層的平滑性優(yōu)選l^m見方的平均粗糙度(Ra值)為低于lnm，更優(yōu)選為低于0.5nm。要求有機層的表面沒有顆粒等異物、突起。因此，優(yōu)選在潔凈室內進行有機層的成膜。潔凈度優(yōu)選在10000級以下，更優(yōu)選在1000級以下。有機層的硬度越高越好。若有機層的硬度高，則無機層形成平滑的薄膜而提高阻擋能力。有機層的硬度可表示為基于納米壓痕法的微小硬度。有機層的微小硬度優(yōu)選在150N/mm以上，更優(yōu)選在180N/mm以上，特別優(yōu)選在200N/mm以上。有機層優(yōu)選層疊2層以上。此時，至少1層是上述有機層即可，其他有機層可以是上述有機層，也可以是其他組成的有機層。作為有機層的1層，也可以是如美國公開專利2004-46497號說明書中公開的與無機層的界面不明顯且組成在膜厚方向上連續(xù)變化的層。(基材薄膜)本發(fā)明的氣體阻擋薄膜通常用塑料薄膜作為基材薄膜。所使用的塑料薄膜只要是能保持有機層、無機層等層疊體的薄膜即可，對材質、厚度等沒有特殊限制，可根據(jù)使用目的等來適當選擇。作為上述塑料薄膜，具體可列舉出聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸-馬來酸共聚物、聚苯乙烯樹脂、透明氟樹脂、聚酰亞胺、氟化聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰胺酰亞胺樹脂、聚醚酰亞胺樹脂、纖維素?；飿渲?、聚氨酯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚碳酸酯樹脂、脂環(huán)式聚烯烴樹脂、聚芳酯、聚醚砜樹脂、聚砜樹脂、環(huán)烯烴共聚物、芴環(huán)改性聚碳酸酯樹脂、脂環(huán)改性聚碳酸酯樹脂、芴環(huán)改性聚酯樹脂、丙烯酰化合物等熱塑性樹脂。其中，優(yōu)選聚酯樹脂(例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET))、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。將本發(fā)明的氣體阻擋薄膜作為后述的有機EL元件等元器件的基板使用時，塑料薄膜優(yōu)選由具有耐熱性的材料形成。具體而言，優(yōu)選由玻璃化轉變溫度(Tg)為10(TC以上和/或線熱膨脹系數(shù)為40ppmTC以下的高耐熱性透明材料形成。Tg和線熱膨脹系數(shù)可用添加劑等來調節(jié)。作為這樣的熱塑性樹脂，可列舉出聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN:120°C)、聚碳酸酯(PC:140。C)、脂環(huán)式聚烯烴(例如日本Zeon株式會社制的ZEONOR160Q160°C)、聚芳酯(PAr:210°C)、聚醚砜(PES:220°C)、聚砜(PSF:190°C)、環(huán)烯烴共聚物(COC:日本特開2001-150584號公報的化合物162°C)、聚酰亞胺(例如三菱氣體化學株式會社氺才yy厶260°C)、芴環(huán)改性聚碳酸酯(BCF-PC:日本特開2000-227603號公報的化合物225°C)、脂環(huán)改性聚碳酸酯(IP-PC:日本特開2000-227603號公報的化合物205°C)、丙烯酰化合物(日本特開2002-80616號公報的化合物30(TC以上)(括號內表示Tg)。特別是在要求具有透明性的情況下，優(yōu)選使用脂環(huán)式聚烯烴等。將本發(fā)明的氣體阻擋薄膜與偏振片組合使用時，優(yōu)選使氣體阻擋薄膜的阻擋性層疊體面向單元的內側來將氣體阻擋薄膜配置在最內側(與元件相鄰)。此時，由于與偏振片相比氣體阻擋薄膜配置在單元的內側，因此氣體阻擋薄膜的延遲值變得很重要。該種實施方式下的氣體阻擋薄膜的使用方式優(yōu)選將采用延遲值為10nm以下的基材薄膜的氣體阻擋薄膜與圓偏振片(1/4波長片+(1/2波長片)+直線偏振片)層疊使用，或在采用能用作1/4波長片的延遲值為100nm180nm的基材薄膜的氣體阻擋薄膜上組合直線偏振片來使用。作為延遲在10nm以下的基材薄膜，可列舉出纖維素三乙酸酯(富士膠片株式會社富士夕y夕)、聚碳酸酯(帝人化成株式會社Pure-ace、Kaneka株式會社Elmec)、環(huán)烯烴聚合物GSR株式會社Arton、日本Zeon株式會私Zeonor)、環(huán)烯烴共聚物(三井化學株式會thApd(粒料)、p。iypiastic株式會社Topas(粒料))、聚丙烯酸酯(Unitika株式會社U100(粒料))、透明聚酰亞胺(三菱氣體化學株式會社氺才yy厶)等。作為1/4波長片，可采用通過將上述薄膜適當延伸而調節(jié)至所需延遲值的薄膜。由于本發(fā)明的氣體阻擋薄膜作為有機EL元件等元器件使用，因此塑料薄膜為透明，即透光率通常為80%以上，優(yōu)選85%以上，進一步優(yōu)選為90%以上。透光率可用JIS-K7105中記載的方法來求出，即用積分球式透光率測定裝置來測定總透光率和散射光量，從總透光率減去擴散透過率即可求出。即使將本發(fā)明的氣體阻擋薄膜用于顯示器用途，當不設置在觀察側等時不一定要有透明性。因此，在這樣的情況下，塑料薄膜也可使用不透明的材料。作為不透明的材料，可列舉出例如聚酰亞胺、聚丙烯腈、公知的液晶聚合物等。在本發(fā)明的氣體阻擋薄膜中使用的塑料薄膜的厚度可根據(jù)用途來適當選擇，因此沒有特殊限制，典型的為1800pm，優(yōu)選為10200nm。這些塑料薄膜還可具有透明導電層、底漆層等功能層。關于功能層，在日本特開2006-289627號公報的段落編號00360038中有詳細記載。作為上述功能層以外的功能層的例子，可列舉出消光劑層、保護層、防靜電層、平滑化層、防靜電層、粘附改良層、遮光層、防反射層、硬涂層、應力緩和層、防霧層、防污層、被印刷層、易粘接層等。(顯示元件)作為本發(fā)明中的顯示元件，可列舉出液晶顯示元件、觸摸面板、有機EL元件、薄膜晶體管(TFT)圖像顯示元件、電子紙等。液晶顯示元件反射型液晶顯示裝置的結構為從下到上依次為下基板、反射電極、下取向膜、液晶層、上取向膜、透明電極、上基板、X/4板以及偏振膜。若是彩色顯示，則優(yōu)選進一步在反射電極與下取向膜之間或在上取向膜與透明電極之間設置濾色器層。透射型液晶顯示裝置的結構為從下到上依次為背光、偏振片、V4板、下透明電極、下取向膜、液晶層、上取向膜、上透明電極、上基板、V4板以及偏振膜。若是彩色顯示，則優(yōu)選進一步在下透明電極與下取向膜之間或在上取向膜與透明電極之間設置濾色器。液晶單元的種類不受特殊限制，優(yōu)選TN(扭曲向列)型、STN(超扭曲向列)型或HAN(混合取向向列)型、VA(垂直取向)型、ECB型(電控雙折射)、OCB型(光學補償彎曲)、IPS型(面內切換)、CPA型(ContinuousPinwheelAlignment:連續(xù)焰火狀排列)。觸摸面板觸摸面板可在日本特開平5-127822號公報、日本特開2002-48913號公報等中記載的器件中應用。有機EL元件有機EL元件是指有機電致發(fā)光元件。有機EL元件在基板上具有陰極和陽極，在兩電極之間具有含發(fā)光層的有機化合物層。發(fā)光元件的性質上，陽極和陰極中的至少一個的電極是透明的。作為本發(fā)明的有機化合物層的層疊的實施方式，優(yōu)選從陽極側依次層疊空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層的方式。在空穴輸送層與發(fā)光層之間或在發(fā)光層與電子輸送層之間還可以具有電荷屏蔽層等。在陽極與空穴輸送層之間可具有空穴注入層，在陰極與電子輸送層之間可具有電子注入層。作為發(fā)光層，可以僅是一層，也可以將發(fā)光層分為第一發(fā)光層、第二發(fā)光層、第三發(fā)光層等。此外，各層還可分成多層次級層。下面，對構成有機EL元件的各要素進行詳細說明。基板本發(fā)明的有機EL元件中使用的基板可以是本發(fā)明的氣體阻擋薄膜，也可以是公知的在有機EL元件中使用的基板。當采用公知的基板時，可以是樹脂薄膜，也可以是氣體阻擋薄膜。若采用氣體阻擋薄膜，則可優(yōu)選使用日本特開2004-136466號公報、日本特開2004-148566號公報、日本特開2005-246716號公報、日本特開2005-262529號公報等中記載的氣體阻擋薄膜。當采用公知的基板時，其厚度不受特殊限制，優(yōu)選30pm70(^m，更優(yōu)選40pm200nm，進一步優(yōu)選50pm150^im。此外，無論在何種情況下，霧度均優(yōu)選在3%以下，更優(yōu)選在2%以下，進一步優(yōu)選在1%以下，總透光率優(yōu)選為70%以上，更優(yōu)選在80%以上，進一步優(yōu)選在卯°/。以上。陽極通常，陽極只要具有作為向有機化合物層提供空穴的電極的功能即可，對其形狀、結構、大小等沒有特殊限制，可根據(jù)發(fā)光元件的用途、目的，從公知的電極材料中適當選擇。如上所述，陽極通常作為透明陽極而設。關于透明陽極，在沢田豐主編的《透明電極膜的新進展》CMC發(fā)行(1999)(沢田豊監(jiān)修「透明電極膜o新展開」、乂一工厶、;y—刊(1999))中有詳細記載。當用耐熱性低的塑料基材作為基板時，優(yōu)選使用ITO或IZO、在15(TC以下的低溫下成膜得到的透明陽極。通常，陰極只要具有作為向有機化合物層注入電子的電極的功能即可，對其形狀、結構、大小等沒有特殊限制，可根據(jù)發(fā)光元件的用途、目的，從公知的電極材料中適當選擇。作為構成陰極的材料，可列舉出例如金屬、合金、金屬氧化物、導電性化合物、它們的混合物等。作為具體例子，可列舉出第2族金屬(例如Mg、Ca等)、金、銀、鉛、鋁、鋰-鋁合金、鎂-銀合金、銦、鎗等稀土類金屬等。它們可以1種單獨使用，但從兼顧穩(wěn)定性和電子注入性的觀點出發(fā)，也可以優(yōu)選2種以上并用。其中，作為構成陰極的材料，優(yōu)選以鋁為主體的材料。以鋁為主體的材料是指鋁單獨、鋁與0.0110質量％的堿金屬或第2族金屬的合金(例如鋰-鋁合金、鎂-鋁合金等)。另外，關于陰極的材料，在日本特開平2-15595號公報、日本特開平5-121172號公報中有詳細記載。而且，在陰極與上述有機化合物層之間還可以插入厚0.15nm的由堿金屬或第2族金屬的氟化物、氧化物等形成的電介質層。該電介質層也可視為一種電子注入層。陰極的厚度可根據(jù)構成陰極的材料來適當選擇，無法一并規(guī)定，通常為10nm5jmi左右，優(yōu)選50nml(im。陰極可以透明，也可以不透明。另外，透明的陰極可通過將陰極的材料形成厚110nm的薄膜后層疊ITO或IZO等透明導電性材料來形成。發(fā)光層有機EL元件具有至少一層含有發(fā)光層的有機化合物層，作為有機發(fā)光層以外的其他的有機化合物層，如上所述可列舉出空穴輸送層、電子輸送層、電荷屏蔽層、空穴注入層、電子注入層等各層。-有機發(fā)光層-有機發(fā)光層是具有如下功能的層，即當施加電場時，從陽極、空穴注入層或空穴輸送層接收空穴，從陰極、電子注入層或電子輸送層接收電子，提供空穴與電子再結合的場所并使其發(fā)光。發(fā)光層可僅由發(fā)光材料構成，也可以是基質材料與發(fā)光材料的混合層。發(fā)光材料可以是熒光發(fā)光材料，也可以是磷光發(fā)光材料，摻雜物可以是l種，也可以是2種以上?；|材料優(yōu)選為電荷輸送材料?；|材料可以是l種，也可以是2種以上，可列舉出例如電子輸送性的基質材料與空穴(示一》)輸送性的基質材料混合而成的結構。此外，發(fā)光層中還可以含有不具有電荷輸送性、不發(fā)光的材料。發(fā)光層可以是l層，也可以是2層以上，各層可按不同的發(fā)光色進行發(fā)光。作為上述熒光發(fā)光材料的例子，可列舉出例如苯并噁唑衍生物、苯并咪唑衍生物、苯并噻唑衍生物、苯乙烯基苯衍生物、聚苯衍生物、二苯基丁二烯衍生物、四苯基丁二烯衍生物、萘二甲酰亞胺衍生物、香豆素衍生物、縮合芳香族化合物、紫環(huán)酮衍生物、噁二唑衍生物、噁嗪衍生物、醛連氮衍生物、Pyraridine衍生物、環(huán)戊二烯衍生物、雙苯乙烯基蒽衍生物、喹吖酮衍生物、吡咯并吡啶衍生物、噻二唑吡啶衍生物、環(huán)戊二烯衍生物、苯乙烯胺衍生物、二酮吡咯并吡咯衍生物、芳香族二次甲基化合物、以8-羥基喹啉衍生物的金屬配位化合物或亞甲基吡咯衍生物的金屬配位化合物為代表的各種金屬配位化合物等、聚噻吩、聚亞苯基、聚亞苯基亞乙烯基等聚合物化合物、有機硅烷衍生物等化合物等。上述磷光發(fā)光材料可列舉出例如含有過渡金屬原子或鑭系原子的配位化合物。作為上述過渡金屬原子，沒有特殊限制，優(yōu)選釘、銠、鈀、鎢、錸、鋨、銥及鉑，更優(yōu)選錸、銥及鉑。作為上述鑭系原子，可列舉出鑭、鈰、鐠、釹、釤、銪、軋、鋱、鏑、鈥、鉺、銩、鐿、镥。這些鑭系原子中優(yōu)選釹、銪及釓。作為配位化合物的配位體，可列舉出例如G.Wilkinson等著，ComprehensiveCoordinationChemistry,PergamonPress公司1987年發(fā)行；H.Yersin著，《PhotochemistryandPhotophysicsofCoordinationCompoundsSpringer-verlag公司1987年發(fā)行；山本明夫著《有機金屬化學一基礎和應用一》裳華房社1982年(山本明夫著「有機金屬化學一基礎S応用一」裳華房社l982年)發(fā)行等中記載的配位體等。作為發(fā)光層中含有的基質材料，可列舉出例如具有咔唑骨架的材料、具有二芳基胺骨架的材料、具有吡啶骨架的材料、具有吡嗪骨架的材料、具有三嗪骨架的材料以及具有芳基硅垸骨架的材料或在后述的空穴注入層、空穴輸送層、電子注入層、電子輸送層的項下例示的材料。-空穴注入層、空穴輸送層-空穴注入層、空穴輸送層是具有從陽極或陽極側接收空穴并將其輸送到陰極側的功能的層。空穴注入層、空穴輸送層具體優(yōu)選含有咔唑衍生物、三唑衍生物、噁唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、聚芳基烷衍生物、吡唑啉衍生物、吡唑啉酮衍生物、苯二胺衍生物、芳胺衍生物、氨基取代査耳酮衍生物、苯乙烯基蒽衍生物、芴酮衍生物、腙衍生物、芪衍生物、硅氨烷衍生物、芳香族叔胺化合物、苯乙烯胺化合物、芳香族二次甲基類化合物、卟啉類化合物、有機硅烷衍生物、碳等的層。-電子注入層、電子輸送層-電子注入層、電子輸送層是具有從陰極或陰極側接收電子并將其輸送到陽極側的功能的層。電子注入層、電子輸送層具體優(yōu)選含有三唑衍生物、噁唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、芴酮衍生物、蒽醌二甲烷衍生物、蒽酮衍生物、二苯基苯醌衍生物、噻喃二氧化物衍生物、碳二亞胺衍生物、亞芴基甲烷衍生物、二苯乙烯基哌嗪衍生物、萘、茈等芳香環(huán)四羧酸酐、酞菁衍生物、以8-羥基喹啉衍生物的金屬配位化合物或配位體是金屬酞菁、苯并噁唑或苯并噻唑的金屬配位化合物為代表的各種金屬配位化合物、有機硅烷衍生物等的層。-空穴屏蔽層-空穴屏蔽層是具有防止從陽極側輸送至發(fā)光層的空穴通過陰極側的功能的層。在本發(fā)明中，作為在陰極側與發(fā)光層鄰接的有機化合物層，可設置空穴屏蔽層。另外，電子輸送層'電子注入層也可兼具空穴屏蔽層的功能。作為構成空穴屏蔽層的有機化合物的例子，可列舉出BAlq等鋁配位化合物、三唑衍生物、BCP等菲繞啉衍生物等。另外，也可以將具有防止從陰極側輸送至發(fā)光層的電子通過陽極側的功能的層設在陽極側與發(fā)光層鄰接的位置上?？昭ㄝ斔蛯印犊昭ㄗ⑷雽右部梢约婢咴摴δ堋?太陽電池)本發(fā)明的氣體阻擋薄膜可作為太陽電池元件的封固薄膜使用。這里，本發(fā)明的氣體阻擋薄膜優(yōu)選以粘接層位于靠近太陽電池元件側的方式進行封固。作為優(yōu)選使用本發(fā)明的氣體阻擋薄膜的太陽電池元件，沒有特殊限制，可列舉出單晶硅類太陽電池元件、多晶硅類太陽電池元件、以單連接型(Vy夕W接合型)或串聯(lián)結構型(夕Vf厶構造型)等構成的非結晶型硅類太陽電池元件、鎵砷(GaAs)或銦磷(InP)等III-V族化合物半導體太陽電池元件、鎘碲(CdTe)等II-VI族化合物半導體太陽電池元件、銅/銦順類(所謂的CIS類)、銅/銦/鎵/硒類(所謂的CIGS類)、銅/銦/鎵/硒/硫類(所謂的cigss類)等i-m-vi族化合物半導體太陽電池元件、色素增感型太陽電池元件、有機太陽電池元件等。其中，本發(fā)明中的上述太陽電池元件優(yōu)選銅/銦/硒類(所謂的CIS類)、銅順條/硒類(所謂的C1GS類)、銅湖/鎵順/硫類(所謂的ciGss類)等i-m-vi族化合物半導體太陽電池元件。實施例下面，列舉實施例更具體地說明本發(fā)明。下述實施例中所示的材料、用量、比例、處理內容、處理順序等只要不脫離本發(fā)明的主旨，均可適當變更。因此，本發(fā)明的范圍不限于以下所示的具體例子。氣體阻擋薄膜的制作和評價(1)按下述順序制作在基材薄膜上設有無機層和有機層而成的氣體阻擋薄膜(樣品N0.101U5)。各氣體阻擋薄膜的詳細結構如表1所述。基材薄膜采用聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN，厚100pm，帝人杜邦株式會社制，Q65A)薄膜。無機層(x)的形成用反應濺射裝置形成氧化鋁的無機層。具體成膜條件如下所示。將反應濺射裝置的真空室用油旋轉泵和渦輪分子泵減壓至極限壓力5x10—4Pa。然后導入氬氣作為等離子體氣體，由等離子體電源施加2000W電力。向室內導入高純度氧氣，將成膜壓力調節(jié)到0.3Pa而進行一定時間的成膜，形成氧化鋁的無機層。得到的氧化鋁膜的膜厚為40nm，膜密度為3.01g/cm3。有機層(Y、W、Z、V、U)的形成有機層采用常壓下溶劑涂布的成膜方法(有機層Y、W、V、U)和減壓下閃光蒸鍍法的成膜方法(有機層Z)這5種方法來形成。具體的成膜內容如下所示。在常壓下利用溶劑涂布進行有機層(Y)的成膜將作為光聚合性丙烯酸酯的三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA、夕'^ir》廿<亍、乂夕制)9g和光聚合引發(fā)劑(CibaSpecialtyChemicals、Irgacure907)O.lg溶于甲乙酮190g，制成涂布液。用繞線棒將該涂布液涂布于基材薄膜上，在氧濃度0.1%以下的氮吹掃下用160W/cm的氣冷式金屬鹵素燈(EyeGraphics株式會社制)，照射照度為350mW/cm2、照射量為500mJ/cm2的紫外線，形成有機層(Y)。膜厚約為500nm。在常壓下利用溶劑涂布進行有機層(W)的成膜除了用二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA:新中村化學工業(yè)制)代替三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)作為光聚合性丙烯酸酯外，其它均依照有機層Y的成膜條件。膜厚約為500nm。在減壓下利用閃光蒸鍍法進行有機層(Z)的成膜將作為光聚合性丙烯酸酯的丁基乙基丙烷二醇二丙烯酸酯(BEPGA、共榮社化學制)9.7g和光聚合引發(fā)劑(Lambertispa制、EZACURE-TZ丁)0.3g混合，制成蒸鍍液。在真空室的內壓為3Pa的條件下用閃光蒸鍍法將該蒸鍍液蒸鍍于基板。然后，在同一真空度的條件下，照射照射量為2J/cm2的紫外線，形成有機層Z。膜厚約為1200nm。在有機層Z的形成中釆用有機無機層成膜裝置Guardian200(VitexSystems公司制)來實施。[2-4]在常壓下利用溶劑涂布進行有機層(V)的成膜將作為光聚合性丙烯酸酯的雙酚A型環(huán)氧丙烯酸酯(新中村化學制、NK才U〕、、EA-1020)9g以及光聚合引發(fā)劑(CibaSpecialtyChemicals、Irgacure907)O.lg溶于甲乙酮190g，制成涂布液。用繞線棒將該涂布液涂布于基材薄膜上，在氧濃度0.1%以下的氮吹掃下用160W/cm的氣冷式金屬鹵素燈(EyeGraphics株式會社制)，照射照度為350mW/cm2、照射量為500mJ/cmS的紫外線，形成有機層(V)。膜厚約為500nm。[2-5]在常壓下利用溶劑涂布進行有機層(U)的成膜除了用環(huán)氧丙烯酸酯(夕'^ir少'廿^亍:y夕制、EB3702)代替雙酚A型環(huán)氧丙烯酸酯(新中村化學制、NK才'J-'EA-1020)作為光聚合性丙烯酸酯外，其它均依照有機層V的成膜條件。膜厚約為500nm。阻擋性樹脂層(P)的形成阻擋性樹脂層用以下6種方法來形成。具體的成膜內容如下所示。[3-l]阻擋性樹脂層(P-l)的成膜將聚乙烯醇(PVA117H、夕，W制)以2重量％溶解于純水中，制成涂布液。用繞線棒將該涂布液涂布于基材薄膜上，在8(TC下干燥，形成阻擋性樹脂層(P-l)。膜厚約為700nm。阻擋性樹脂層(P-2)的成膜將偏氯乙烯類共聚物(廿，y^^yF216、旭化成工業(yè)制)溶解在甲苯/四氫呋喃=1/2(重量比)的混合溶劑中使其為15重量％，制成涂布液。用繞線棒將該涂布液涂布于基材薄膜上，在105t:下干燥，形成阻擋性樹脂層(P-2)。膜厚約為2.5pm。阻擋性樹脂層(P-3)的成膜將乙烯-乙烯醇共聚物(乂7乂一小30L、日本合成化學工業(yè)制)溶解在純水/異丙醇=1/1(重量比)的混合溶劑中使其為12重量％，制成涂布液。用繞線棒將該涂布液涂布于基材薄膜上，在11(TC下干燥，形成阻擋性樹脂層(P-3)。膜厚約2pm。阻擋性樹脂層(P-4)的成膜將合成云母(亍卜，、乂y!i:y夕7,力(Na-Ts)、TOPY工業(yè)制)分散在純水中而得到的0.65重量％的分散液(1)和聚乙烯醇(PVA210、夕，^制)溶于純水中而得到的0.325重量％的溶液(2)，按照分散液(1)和溶液(2)的固體成分比(體積比)(1)/(2)=3/7的比例混合，制成涂布液。用繞線棒將該涂布液涂布于基材薄膜上，形成阻擋性樹脂層(P-4)。膜厚約為lpm。阻擋性樹脂層(P-5)的成膜除了用羥乙基纖維素(和光純藥制)代替上述溶液(2)的聚乙烯醇外，其它均依照阻擋性樹脂層(P-4)的成膜條件。膜厚約為ljam。[3-6]阻擋性樹脂層(P-6)的成膜將作為光聚合性丙烯酸酯的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPAH、新中村化學工業(yè)制)9g和光聚合引發(fā)劑(CibaSpecialtyChemicals、Irgacure907)O.lg溶于甲乙酮190g，制成涂布液。用繞線棒將該涂布液涂布于基材薄膜上，在氧濃度0.1%以下的氮吹掃下用160W/cm的氣冷式金屬鹵素燈(EyeGraphics株式會社制)，照射照度為350mW/cm2、照射量為lJ/cn^的紫外線，形成阻擋性樹脂層(P-6)。膜厚約為lpm。氣體阻擋薄膜的制作氣體阻擋薄膜通過在基材薄膜上根據(jù)表1所述的各樣品的構成依次形成上述無機層和有機層來形成。制作方法按下述3種方法來進行。反復進行利用溶劑涂布形成有機層和在減壓下形成無機層的方法(層疊A)在基板上交替層疊有機層和無機層。當在有機層上層疊無機層時，用溶劑涂布來成膜形成有機層后，置于真空室內進行減壓，在真空度為10.3Pa以下的狀態(tài)下保持一定時間來成膜無機層。當在無機層上層疊有機層時，在成膜無機層后立即通過溶劑涂布來成膜有機層。在減壓下連續(xù)成膜有機層和無機層的方法(層疊B)用上述有機無機層疊成膜裝置Guardian200，層疊有機層和無機層。該裝置在減壓環(huán)境下進行有機層和無機層的成膜，且有機層和無機層的成膜室相連，因此能在減壓環(huán)境下連續(xù)成膜。因此，在形成阻擋層之前不需向大氣開放。僅第一層用溶劑涂布來形成而其余有機層均在減壓下連續(xù)成膜的方法(層疊C)在基板上用溶劑涂布法形成第1有機層。然后，將具有第1有機層的基板置于真空室內，減壓，在真空度為10—3以下的狀態(tài)下保持一定時間后，交替成膜無機層和有機層。氣體阻擋薄膜的物性評價用下述裝置評價氣體阻擋薄膜的各種物性。[層結構(膜厚)]用日立株式會社制的掃描型電子顯微鏡"S-卯O型"觀察薄膜樣品的超薄切片并進行測定。用膜康(MOCON)公司制的"PERMATRAN-W3/31"(條件40°C、相對濕度卯％)進行測定。上述膜康裝置的測定界限即0.01g/m"天以下的值用以下方法來補足。首先，在氣體阻擋薄膜上直接蒸鍍金屬Ca，用市售的有機EL用封固材料以蒸鍍Ca位于內側的方式將該薄膜與玻璃基板封固，制作測定樣品。然后，在上述溫濕度條件下保持該測定樣品，由氣體阻擋薄膜上的金屬Ca的光學濃度變化(因氫氧化或氧化使金屬光澤減少)來求出水蒸氣透過率。詳細內容參見下述參考文獻中記載的方法來測定。<參考文獻>G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEER等SIDConferenceRecordoftheInternationalDisplayResearchConference1435-1438頁[X射線反射率測定(無機層的膜密度)]采用Si晶片上成膜無機層的評價用樣品，用理學電氣制ATX-G進行測定。由測定結果算出無機層薄膜的膜密度。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>[實施例2]氣體阻擋薄膜的制作和評價(2)除了用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET、厚10(Him、Tomy株式會社、》$，一T60)作為基材薄膜外，與實施例1同樣操作，按照表2制作氣體阻擋薄膜(樣品No.201208)。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>[實施例3]有機EL元件的制作和評價(1)[l]有機EL元件基板的制作將具有ITO膜的導電性玻璃基板(表面電阻值10Q/口)用2-丙醇洗滌后，進行10分鐘UV-臭氧處理。在該基板(陽極)上用真空蒸鍍法依次蒸鍍以下的有機化合物。(第1空穴輸送層)銅酞菁膜厚10nm(第2空穴輸送層)N，N'-二苯基-N，N，-二萘基聯(lián)苯胺膜厚40nm(發(fā)光層兼電子輸送層)三(8-羥基喹啉)鋁膜厚60nm最后依次蒸鍍氟化鋰lnm、金屬鋁100nm，制成陰極，在其上用平行平板CVD法貼上厚3pm的氮化硅膜，制作有機EL元件。有機EL元件上的氣體阻擋層的設置用熱固型粘接劑(工求X、乂夕310、夕、V、/—二于千Ii株式會社)，將上述實施例1中制作的阻擋薄膜與有機EL元件基板以阻擋層位于有機EL元件側的方式貼合，在65。C下加熱3小時使粘接劑固化。各制作20個按此方法封固得到的有機EL元件(樣品No.301315)。有機EL元件發(fā)光面情況的評價(1)用源測量單元(SMU2400型、Keithley公司制)對剛制得的有機EL元件(樣品No.301315)施加7V電壓使其發(fā)光。用顯微鏡觀察發(fā)光面情況后證實每個元件均發(fā)出無暗點的均勻光。然后將各元件在60。C、相對濕度90%的暗室內靜置24小時后，觀察發(fā)光面情況。將觀察到直徑大于300pm的暗點的元件的比率定義為故障率，各元件的故障率如表3所示。有機EL元件的制作和評價(2)用實施例2中制作的氣體阻擋薄膜作為封固薄膜，制作被封固的有機EL元件(樣品No.401408)。在有機EL元件上設置氣體阻擋層時，用紫外線固化型粘接劑(XNR5516HV、長瀬Ciba株式會社制)代替熱固型粘接劑，在用氬氣置換后的手套箱內照射紫外線使其固化、粘合。與實施例3同樣，評價各元件在6(TC、相對濕度90%、24小時靜置后的故障率。結果如表4所示。將氣體阻擋薄膜用作基板的有機EL元件的制作(1)將實施例1中制作的氣體阻擋薄膜導入真空室內，用ITO靶材，通過DC磁控濺射，形成由厚0.2,的1丁0薄膜形成的透明電極。將具有ITO膜的氣體阻擋薄膜置于清洗容器中，在2-丙醇中進行超聲波洗滌，然后進行30分鐘UV-臭氧處理。采用該基板，與實施例3同樣地制作有機EL元件(樣品No.501508)。該元件的基板和封固薄膜兩者均以樹脂為主體，因此具有撓性。與實施例3同樣評價各元件在6(TC、相對濕度90%、24小時靜置后的故障率。結果如表5所示。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>表4<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>由表35的結果可知，本發(fā)明的具有阻擋性樹脂層的阻擋薄膜優(yōu)于無阻擋性樹脂層的阻擋薄膜，且有機EL元件的故障率低。另外，本發(fā)明的阻擋薄膜不管是用作封固薄膜，還是用作有機EL元件的基板，均很有效。權利要求1、一種氣體阻擋薄膜，其在基材薄膜的一個面上具有氣體阻擋層，該氣體阻擋層具有至少1個有機區(qū)域和至少1個無機區(qū)域，在所述基材薄膜的另一個面上僅具有以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層來作為具有阻擋性能的層。2、一種氣體阻擋薄膜，其在基材薄膜的一個面上具有氣體阻擋層，該氣體阻擋層具有至少1層有機層和至少1層無機層，在所述基材薄膜的另一個面上僅具有以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層來作為具有阻擋性能的層。3、如權利要求2所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層中的樹脂是聚乙烯醇。4、如權利要求2所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層中的樹脂是多官能丙烯酸酯。5、如權利要求2所述的氣體阻擋薄膜，其中，有機層是通過使含有至少l種具有雙酚骨架的(甲基)丙烯酸酯的組合物固化而形成的。6、如權利要求25中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層和有機層的主要成分相同。7、如權利要求2、4、5中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層和有機層的主要成分均為(甲基)丙烯酸酯衍生物。8、如權利要求15中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層的厚度為0.530pm。9、如權利要求15中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其中，氣體阻擋薄膜的厚度為10300pm。10、如權利要求15中任一項所述的氣體阻擋薄膜，其用于顯示元件。11、權利要求110中任一項所述的氣體阻擋薄膜的制造方法，其特征在于，在基材薄膜上設置氣體阻擋層后，在所述基材薄膜的相反側設置以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層。12、顯示元件，其采用了權利要求110中任一項所述的氣體阻擋薄膜。13、如權利要求12所述的顯示元件，其特征在于，氣體阻擋薄膜用作顯示元件的基板。14、如權利要求12所述的顯示元件，其特征在于，氣體阻擋薄膜用作顯示元件的封固薄膜。15、如權利要求1214中任一項所述的顯示元件，其中，在顯示元件上按以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層位于外側的方式設置氣體阻擋薄膜。全文摘要本發(fā)明涉及氣體阻擋薄膜和采用了該薄膜的顯示元件。本發(fā)明提供即使僅在單面上設有有機無機層疊型氣體阻擋層也能有效地防止水分從未設有氣體阻擋層的一側滲入的氣體阻擋薄膜。本發(fā)明公開的氣體阻擋薄膜在基材薄膜的一個面上具有氣體阻擋層，該氣體阻擋層具有至少1個有機區(qū)域和至少1個無機區(qū)域，在上述基材薄膜的另一個面上僅具有以具有阻擋性能的樹脂為主要成分的層來作為具有阻擋性能的層。文檔編號H05B33/02GK101389166SQ20081021597公開日2009年3月18日申請日期2008年9月12日優(yōu)先權日2007年9月14日發(fā)明者饗場聰申請人:富士膠片株式會社