專利名稱：：感光性元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及感光性元件。
背景技術(shù)：
：以往，在印刷電路布線板的制造領(lǐng)域和金屬的精加工領(lǐng)域中，作為在蝕刻或鍍覆等中使用的抗蝕劑材料，廣泛使用由含感光性樹脂組合物的層(以下，稱為感光層)、支承膜和保護(hù)膜構(gòu)成的感光性元件。印刷電路布線板例如可以用以下方法來制造。首先，從感光層剝離感光性元件的保護(hù)膜后，在電路形成用基板的導(dǎo)電膜上層壓感光層。然后，對感光層實施圖形曝光后，用顯影液除去沒有曝光的部分，形成光致抗蝕劑圖形。接下來，基于該光致抗蝕劑圖形通過圖形化導(dǎo)電膜，形成印刷電路布線板。作為在該未曝光部分的除去中使用的顯影液，主要使用碳酸氬鈉溶液等堿性顯影型。顯影液通常只要有一定程度的溶解感光層的能力就可以，顯影時感光層溶解或分散在顯影液中。近年來，伴隨著印刷電路布線板的高密度化，電路形成用基板和作為抗蝕劑材料的感光層的接觸面積變小。因此，對于感光層要求在蝕刻或鍍覆工序中具有優(yōu)異的機械強度、耐藥品性和柔軟性的同時，也要求和電路形成用基板的優(yōu)異的密合性或圖形形成時的優(yōu)異的分辨率。通常，使用感光性元件形成抗蝕劑時，在基板上層壓感光層后，在不剝離支承膜的狀態(tài)下進(jìn)行曝光。為了與像這樣的曝光處理相對應(yīng)，作為支承膜可以采用光透過性的材料。另外，為了得到圖形形成時的高分辨率，需要盡量薄化支承膜。另一方面，為了以均一的厚度且合格率高的在支承膜上涂布感光性樹脂組合物，對支承膜要求一定程度的厚度(一般為10(_im~30^im)。另外，為了提高支承膜的生產(chǎn)率，即，為了提高支承膜的巻繞性，一般使支承膜含無機或有機微粒。因此，以往的支承膜霧度增大、由支承膜含有的微粒引起曝光時的光散射，有不能適應(yīng)感光性膜的高分辨率化的要求的傾向。作為實現(xiàn)高分辨率化的方法，有在曝光前，剝離感光性元件具有的支承膜，不隔著支承膜而進(jìn)行曝光的方法。這種情況下，有時將光具(phototool)直接密合在感光層上。但是，感光層通常具有某程度的粘著性，因此，在感光層上直接密合光具而進(jìn)行曝光時，除去密合的光具變得困難。另外，光具被感光層污染，由于剝離支承膜，感光層暴露在大氣中的氧氣中，變得容易降低感光度。為了改善上述的問題，提出了各種各樣的手段。例如，專利文獻(xiàn)l-3中公開了一種形成2層以上的感光層，讓它們中的和光具直接密合的層形成非粘著性的方法。專利文獻(xiàn)4~9中提出了一種在支承膜和感光層之間設(shè)置中間層的方法。另外，專利文獻(xiàn)IO、ll提出了如下方案通過使無機或有機微粒含在支承膜一側(cè)的最表面，來降低霧度，即使隔著支承膜進(jìn)行曝光，也可以高分辨率化的方法。專利文獻(xiàn)1:日本特開昭61-031855號公報專利文獻(xiàn)2:日本特開平01-221735號公報專利文獻(xiàn)3:日本特開平02-230149號公報專利文獻(xiàn)4:日本特公昭56-040824號公報專利文獻(xiàn)5:日本特開昭55-501072號7>才艮專利文獻(xiàn)6:日本特開昭47-000469號公報專利文獻(xiàn)7:日本特開昭59-097138號公報專利文獻(xiàn)8:日本特開昭59-216141號公報專利文獻(xiàn)9:日本特開昭63-197942號公報專利文獻(xiàn)10:日本特開平07-333853號公才艮專利文獻(xiàn)ll:國際申請WO00/079344小冊子
發(fā)明內(nèi)容但是，在上述專利文獻(xiàn)1~9中記載的手段，需要進(jìn)行設(shè)置中間層用或設(shè)置多個感光層用的多余的涂布工序，增加該制造工序it。另外，專利文獻(xiàn)1~3記載的手段，由于在基板上設(shè)置時感光層被暴露在大氣中的氧氣中，高度維持其感光度是困難的。進(jìn)一步，專利文獻(xiàn)4~9中記載的手段，由于中間層薄，感光性元件的操作不容易。進(jìn)一步，本發(fā)明者們討論的結(jié)果表明，專利文獻(xiàn)IO、11中記載的手段，雖然可以高分辨率化，但是往往有在光致抗蝕劑圖形中產(chǎn)生微小的缺損，降低高密度的印刷電路布線板的制造合格率的傾向。本發(fā)明為鑒于上述事實而完成的發(fā)明，其目的在于提供一種感光性元件，其是具有薄膜的含感光性樹脂組合物的層的感光性元件，可以形成充分減少了抗蝕劑的微小缺損的光致抗蝕劑圖形。本發(fā)明提供一種感光性元件，其具有支承膜和形成在該支承膜上的含感光性樹脂組合物的層的感光性元件，支承膜的霧度為0.01~2.0%,且在該支承膜中含有的直徑為5拜以上的粒子和直徑為5pm以上的凝集物的總數(shù)為5個/mm2以下，含所述感光性樹脂組合物的層含有(A)粘合劑聚合物、(B)具有烯類不飽和鍵的光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑，且含所述感光性樹脂組合物的層的厚度為3~30|am。本發(fā)明者們針對光致抗蝕劑圖形產(chǎn)生微小缺損的原因，進(jìn)行了詳細(xì)的探討。首先，可以認(rèn)為，含在感光層中的成分，即，粘合劑聚合物、具有烯類不飽和鍵的光聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑中的任何一個都是主要因素，對含在感光層中的成分的影響進(jìn)行了各種各樣的探討，但是沒能解決光致抗蝕劑圖形的微小缺損。然后，對保護(hù)膜也進(jìn)行了探討，也不能解決光致抗蝕劑圖形的微小缺損。然后，本發(fā)明者們對支承膜進(jìn)行了銳意的研究。上述專利文獻(xiàn)IO、11中清楚的記載有含有平均粒徑為0.01~5pm左右的無機或有機微粒，霧度為0.01-2.0%的兩層支承膜。但是，本發(fā)明者們探究出實際上，在上述支承膜中存在有多個直徑為5拜以上不到20nm的粒子(根據(jù)本發(fā)明者們的調(diào)查為20個/mi^以上)。于是，發(fā)現(xiàn)如下事實像這樣的支承膜，由直徑5拜以上的粒子和凝集物引起的曝光時照射的活性光線的光散射，變得活性光線難于到達(dá)感光層，因此，顯影后在光致抗蝕劑圖形中產(chǎn)生微小的缺損。在本申請中，可以認(rèn)為通過下述方案實現(xiàn)了上述目的，從而完成了本發(fā)明作為支承膜，采用不僅僅霧度充分降低至0.01~2.0%，而且進(jìn)一步在膜中含有的直徑為5pm以上的粒子和直徑為5pm以上的凝集物的總數(shù)為5個/mn^以下這樣充分少的膜。本發(fā)明的感光性元件中，含感光性樹脂組合物的層具有的(A)粘合劑聚合物的重均分子量優(yōu)選為30000-150000。由此，可以使含感光性樹脂組合物的層的薄膜化變得容易，形成進(jìn)一步減小了抗蝕劑的孩么小缺損的光致抗蝕劑圖形。通過本發(fā)明可以提供一種，具有薄膜的含感光性樹脂組合物的層的感光性元件，其可以形成充分減少了抗蝕劑的微小缺損的光致抗蝕劑圖形。圖1為顯示本發(fā)明的感光性元件的適宜實施方式的示意截面圖。圖2為觀察具有直徑為5pm以上的粒子等的支承膜的表面的偏光顯微鏡照片。圖3為使用感光性元件形成的光致抗蝕劑圖形的掃描型顯微鏡照片所述感光性元件是在有多個直徑為5pm以上的粒子等的支承膜上具有感光層的感光性元件。符號說明1感光性元件10支承膜12第1主表面14第2主表面20感光層具體實施例方式以下，根據(jù)需要一邊參照附圖，一邊詳細(xì)的說明本發(fā)明的適宜的實施方式。另外，圖中同一個要素賦予同一個符號，省略重復(fù)的說明。上下左右等的位置關(guān)系，只要沒有特別的要求，基于圖面所示的位置關(guān)系。進(jìn)一步，圖面的尺寸比例不限于圖示的比例。另外，本說明書中的"(曱基)丙烯酸酯"是指丙烯酸酯和與其對應(yīng)的曱基丙烯酸酯。同樣的，"(曱基)丙烯酸基"是指"丙烯酸基"和與其對應(yīng)的"曱基丙烯酸基"，"(曱基)丙烯?；?，，是指"丙烯?；?和與其對應(yīng)的"曱基丙烯酰基"。圖1為顯示本發(fā)明的感光性元件的一個適宜實施方式的示意截面圖。圖1所示的感光性元件1由支承膜10和感光層20構(gòu)成。感光層20設(shè)置在支承膜10的第1主表面12上。另外，支承膜10在與第1主表面12的相反側(cè)具有第2主表面14。(支承膜)支承膜10的霧度為0.01~2.0%，且在支承膜10中含有的直徑為5pm以上的粒子及凝集物(以下，簡稱為r粒子等」)的總數(shù)為5個/mn^以下。這里，在支承膜10中含有的直徑為5pm以上的粒子等包括突出于支承膜的主表面的粒子等和存在于膜內(nèi)部的粒子等這兩者。另外，在直徑為5|im以上的粒子等中包括直徑為5pm以上的一次粒子和直徑不到5|im的一次粒子的凝集物。上述直徑為5^im以上的粒子等優(yōu)選為5個/mm2以下，更優(yōu)選為3個/mm2以下，進(jìn)一步優(yōu)選為1個/mii^以下。該粒子等的數(shù)如果超過5個/mm2，容易產(chǎn)生曝光和顯影后的抗蝕劑的一部分缺損(抗蝕劑微小缺損)。于是，如果將這樣的感光性元件使用在印刷電路布線板中，成為蝕刻時的多孔不良現(xiàn)象的發(fā)生，或鍍覆時的短路不良現(xiàn)象發(fā)生的一個原因，有降低印刷電路布線板的制造合格率的傾向。另外，即使在支承膜10中含有大量的直徑不到5pm的粒子，對光散射的影響也不大。這是因為，在曝光工序中對感光層照射光時，感光層的光固化反應(yīng)不僅僅在光照射部，而且還向光沒有直接照射的橫方向(相對于光照射方向的垂直方向)進(jìn)行若干光固化反應(yīng)。因此，可以認(rèn)為粒徑小時，粒子正下部的光固化反應(yīng)充分的進(jìn)行，但是隨著粒徑的變大，由于粒子正下部的光固化反應(yīng)不充分的進(jìn)行，產(chǎn)生抗蝕劑微小缺損。在這里，在支承膜10中含有的直徑為5|im以上的粒子等是指起因于構(gòu)成支承膜的成分而產(chǎn)生的粒子，所述構(gòu)成支承膜的成分例如為，聚合物的凝膠狀物、作為原料的單體、在制造時使用的催化劑、在膜制作時根據(jù)需要而含有的無機或有機微粒凝集而形成的凝集物、在膜上涂布含潤滑劑層時產(chǎn)生的潤滑劑和粘接劑的膨脹，在膜中含有的直徑為5pm以上的粒子等。為了使直徑為5nm以上的粒子等在5個/mn^以下，可以在這些粒子等中選擇使用粒徑小的或分散性優(yōu)異的粒子。上述直徑為5jim以上的粒子等的數(shù)量可以用偏光顯孩i鏡來測定。另外，凝集直徑為5pm以上的一次粒子和直徑不到5拜的一次粒子凝集形成的凝集物計為1個。圖2為觀察的具有直徑為5pm以上的粒子等的支承膜的表面的偏光顯微鏡照片。圖2中用圓圍成的部分表示與直徑為5pm以上的粒子等相當(dāng)?shù)牟糠值囊粋€例子。另外，圖3為使用在具有多個直徑為5pm以上的粒子等的支承膜上帶有感光層的感光性元件形成的光致抗蝕劑圖形的掃描型顯微鏡照片。像這樣，在支承膜的表面上有多個直徑為5|im以上的粒子等時，就會產(chǎn)生抗蝕劑的微小缺損。支承膜10的材料如果是使直徑為5(im以上的粒子等在5個/mn^以下的材料，就沒有特別的限定。作為支承膜IO例如可以舉出含有由聚對苯二曱酸乙二醇酯(以下，表述為PET)等聚酯，聚丙烯、聚乙烯等聚烯烴組成的組中選出的1種以上的樹脂材料的膜。支承膜10可以是單層也可以是多層。例如，使用由2層組成的2層支承膜時，優(yōu)選使用在雙軸取向聚酯膜的一個面上，層疊含有微粒的樹脂層而成的2層膜作為支承膜，在形成有含上述微粒的樹脂層的面的相反側(cè)的面上形成感光層。另外，也可以使用由3層形成的多層支承膜(例如，A層/B層/A層)作為支承膜。多層支承膜的構(gòu)成沒有特別的限制，但是從膜的光滑性等的角度出發(fā)，優(yōu)選最外層(由上述3層形成的膜時A層)都為含有微粒的樹脂層。由于以往的2層支承膜是在雙軸取向聚酯膜上涂布具有微粒的樹脂層而制造的，因此，在感光性膜的層壓時容易剝離含有微粒的樹脂層，有剝離的樹脂層附著有感光性樹脂層而成為不良原因的可能性。因此，本發(fā)明中，優(yōu)選使用在雙軸取向聚酯膜的兩面注射成形含有微粒的樹脂層而制造的由3層形成的多層支承膜。在本發(fā)明中特別適合的是，將在支承膜中含有的直徑為5pim以上的粒子調(diào)整到5個/mri^以下，并且具有含有這樣的微粒的樹脂層的多層支承膜。由此，膜的光滑性變得良好的同時，可以以很好的平衡性且高水平的實現(xiàn)抑制曝光時的光散射。微粒的平均粒徑優(yōu)選為含有微粒的樹脂層的層厚的0.1~IO倍，更優(yōu)選為0.2~5倍。平均粒徑不到0.1倍時有光滑性變差的傾向，如果超過IO倍有感光層特別容易產(chǎn)生凹凸的傾向。優(yōu)選在含有微粒的樹脂層中含有0.01~50質(zhì)量％的上述微粒。上述微粒例如可以使用由各種核劑在聚合時生成的微粒，凝集體，二氧化硅微粒(凝集二氧化硅等)、碳酸鈣微粒、氧化鋁微粒、氧化鈦微粒、硫酸鋇微粒等無機微粒，交聯(lián)聚苯乙烯微粒、丙烯酸微粒、酰亞胺微粒等的有機微粒，和它們的混合體。在3層以上的多層支承膜中，被含有微粒的最外層夾持的1個以上的中間層可以含有上述微粒，也可以不含有上述微粒，從分辨率的角度出發(fā)，優(yōu)選不含有上述微粒。中間層含有上述微粒時，中間層的含量優(yōu)選為最外層的含量的1/3以下，更優(yōu)選為1/5以下。另夕卜，從分辨率的角度出發(fā)，含有上述微粒的樹脂層的層厚優(yōu)選為0.01~5pm,更優(yōu)選為0.05~3pm，特別優(yōu)選為0.1~2pm。而且，最外層的與中間層不相對的面優(yōu)選具有1.2以下的靜摩擦系數(shù)。靜摩擦系數(shù)如果超過1.2,在膜制造時和感光性元件制造時容易帶有褶鈹，另外，由于容易產(chǎn)生靜電，有容易附著雜質(zhì)的傾向。本發(fā)明中，靜摩擦系數(shù)可以根據(jù)ASTMD1894來測定。這里，為了使在支承膜10中含有的直徑為5pm以上的粒子等為5個/inm2以下，優(yōu)選含有微粒的樹脂層含有的微粒的粒徑為不到5fxm。又，為了進(jìn)一步降低曝光時的光散射，優(yōu)選根據(jù)微粒的粒徑，適宜的調(diào)整含有為粒子的樹脂層的層厚。這里，支承膜IO在不損壞其感光特性的范圍下，根據(jù)需要還可以含有抗靜電劑等。支承膜10的霧度優(yōu)選為0.01~2.0%，更優(yōu)選為0.01~1.5%，特別優(yōu)選為0.01~1.0%，尤其優(yōu)選為0.01~0.5%。該霧度不到0.01%時，有變得不容易制造支承膜本身的傾向，如果超過2.0%,有降低感光度和分辨率的傾向。這里，"霧度，，意味著濁度。本發(fā)明中的霧度是指依照J(rèn)ISK7105規(guī)定的方法，使用市售的霧度計(濁度計)來測定的值。霧度例如可以用NDH-1001DP(日本電色工業(yè)社制、商品名)等市售的濁度計來測定。支承膜IO的厚度優(yōu)選為540fxm，更優(yōu)選為8~35[im,特別優(yōu)選為10~30拜，進(jìn)一步優(yōu)選為12~25(im。如果厚度不到5|im,從感光性元件1剝離支承膜10時，有支承膜IO容易破裂的傾向。另外，如果厚度超過40pm,有降低分辨率的傾向，同時，有便宜性差的傾向。另外，支承膜IO可以從市售的一般工業(yè)用膜中購買可以作為感光性元件1的支承膜使用的膜，進(jìn)行適當(dāng)加工后而使用。可以用作為支承膜10的市售的一般工業(yè)用膜，例如可以舉出最外層為含有微粒的3層構(gòu)造的PET膜rQS-48J(東麗社制(東k社製)，商品名)。(感光層)感光層20為由感光性樹脂組合物構(gòu)成的層。構(gòu)成感光層20的感光性樹脂組合物含有(A)粘合劑聚合物、(B)具有烯類不飽和鍵的光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑。以下，詳細(xì)的說明上述各成分。作為(A)成分的粘合劑聚合物，只要是可以在以往的感光性樹脂組合物中使用的粘合劑就沒有特別的限定，例如可以舉出，丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、環(huán)氧樹脂、酰胺樹脂、酰胺環(huán)氧樹脂、醇酸樹脂、酚樹脂。其中，從堿性顯影性的角度出發(fā)，優(yōu)選丙烯酸樹脂。這些可以單獨的使用一種，或組合2種以上使用。粘合劑聚合物可以通過將聚合性單體進(jìn)行自由基聚合來制造。作為聚合性單體可以舉出苯乙烯、乙烯基曱苯、a-曱基苯乙烯、對曱基苯乙烯、對乙基苯乙烯等可聚合的苯乙烯衍生物，丙烯酰胺、丙烯腈、乙烯基正丁醚等乙烯醇的酯類，(曱基)丙烯酸烷基酯、(曱基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、(曱基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、(曱基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(曱基)丙烯酸、a-溴代(曱基)丙烯酸、a-氯代(曱基)丙烯酸、卩-呋喃基(曱基)丙烯酸、P-苯乙烯基(曱基)丙烯酸、馬來酸，馬來酸肝，馬來酸單曱基酯、馬來酸單乙基酯、馬來酸單異丙基酯等的馬來酸單酯，富馬酸，肉桂酸，a-氰基肉桂酸，衣康酸，巴豆酸，丙炔酸。作為上述(曱基)丙烯酸烷基酯，可以舉出酯部位的烷基為碳原子數(shù)是1~12的烷基。這樣的(曱基)丙烯酸烷基酯例如可以舉出，(甲基)丙烯酸曱酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸丙酯、(曱基)丙烯酸丁酯、(曱基)丙烯酸戊酯、(曱基)丙烯酸己酯、(曱基)丙烯酸庚酯、(曱基)丙烯酸辛酯和(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，以及它們的結(jié)構(gòu)異構(gòu)體。進(jìn)一步，上述烷基可以具有羥基、環(huán)氧基、鹵素基團(tuán)等取代基。粘合劑聚合物從堿性顯影性的角度出發(fā)，優(yōu)選在分子內(nèi)具有羧基。具有羧性單體來制造。作為具有羧基的聚合性單體優(yōu)選甲基丙烯酸。其中，優(yōu)選具有(甲基)丙烯酸烷基酯和(甲基)丙烯酸作為單體單元的粘合劑聚合物。另外，粘合劑聚合物從密合性和耐藥品性(耐鍍性)的角度出發(fā)，優(yōu)選具有作為單體單位的苯乙烯或苯乙烯衍生物。為了使密合性和剝離特性都良好，優(yōu)選粘合劑聚合物中含有3~30質(zhì)量％的苯乙烯或苯乙烯衍生物作為共聚成分，更優(yōu)選含有4~28質(zhì)量％，特別優(yōu)選含有5~27質(zhì)量％。該含量不到3質(zhì)量％,有降低密合性的傾向，如果超過30質(zhì)量％，有剝離片變大，剝離時間變長的傾向。粘合劑聚合物的重均分子量優(yōu)選為30000~150000,更優(yōu)選為40000~120000。在蝕刻用途中使用本發(fā)明的感光性元件而優(yōu)選變薄感光層的膜厚的情況下，從可以提高膜強度(掩蔽性)的角度出發(fā)，粘合劑聚合物的重均分子量特別優(yōu)選為80000~100000。另外，在變厚感光層的膜厚為優(yōu)選的鍍覆用途中使用時，從感光層剝離性提高的角度出發(fā)，特別優(yōu)選粘合劑聚合物的重均分子量為40000~60000。該重均分子量如果不到30000,有感光層變脆的傾向，如果超過150000，產(chǎn)生殘存絲狀現(xiàn)象，有降低分辨率的傾向。另外，上述重均分子量是使用通過凝膠滲透色譜(以下，表述為「GPC」)測定的、標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯換算值。粘合劑聚合物的酸值優(yōu)選為30~300mgKOH/g,更優(yōu)選為100~200mgKOH/g。如果該酸值不到30mgKOH/g，有顯影時間變長的傾向，如果超過300mgKOH/g,有光固化后的抗蝕劑相對于-威性顯影液的酸性降低的傾向。這些粘合劑聚合物可以單獨的使用一種，或組合2種以上使用。作為組合2種以上而使用時的粘合劑聚合物的組合，例如，可以舉出含有不同的共聚成分的2種以上的粘合劑聚合物、不同的重均分子量的2種以上的粘合劑聚合物、含有不同的分散度的2種以上的粘合劑聚合物。另外，可以使用日本特開平11-327137號公報記載的具有多重模態(tài)分子量分布的聚合物。這里，作為顯影工序中用有機溶劑進(jìn)行顯影時，優(yōu)選少量的調(diào)制具有羧基的聚合性單體。另外，根據(jù)需要粘合劑聚合物可以具有感光性基團(tuán)。作為(B)成分的具有烯類不飽和鍵的光聚合性化合物，優(yōu)選含有在分子內(nèi)具有4~40個碳原子數(shù)為2~6的氧亞烷基單元(亞烷基二醇單元)的化合物。通過含有這樣的化合物作為(B)成分，可以提高和(A)粘合劑聚合物的相溶性。作為上述碳原子數(shù)為2~6的氧亞烷基單元，可以舉出氧亞乙基單元、氧亞丙基單元、氧亞異丙基單元、氧亞丁基單元、氧亞戊基單元和氧亞己基單元，其中，作為上述的氧亞烷基單元，從提高分辨率和耐鍍性的角度出發(fā)，優(yōu)選氧亞乙基單元或氧亞異丙基單元。另外，在這些光聚合性化合物中，從有可以進(jìn)一步確實的得到本發(fā)明效果的傾向來看，特別優(yōu)選使用雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物或聚烷二醇二(曱基)丙烯酸酯。作為上述雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物，可以優(yōu)選的列舉出用下述通式(I)表示的化合物。[化l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>上述通式(I)中，W和R"分別獨立的表示氫原子或甲基，優(yōu)選為曱基。上述通式(I)中，X'和X"分別獨立的表示碳原子數(shù)為2~6的亞烷基，優(yōu)選為亞乙基或亞丙基，更優(yōu)選為亞乙基。上述通式(I)中，p和q表示選擇的正的整數(shù)使p+q=4~40。p+q的值優(yōu)選為6~34，更優(yōu)選為8~30，特別優(yōu)選為8~28，非常優(yōu)選為8~20,尤其為優(yōu)選為816，最優(yōu)選為8~12。p+q的值如果不到4，降低和(A)成分粘合劑聚合物的相溶性，在電路形成用基板上層壓感光性元件時，有容易剝離的傾向。另外，如果p+q的值超過40，增加親水性，顯影時抗蝕劑圖像容易剝離，也有降低對焊料鍍等的耐鍍性的傾向。于是，無論是哪種情況，都有降低感光性元件的分辨率的傾向。作為碳原子數(shù)為2~6的亞烷基，例如可以舉出亞乙基、亞丙基、亞異丙基、亞丁基、亞戊基和亞己基。其中，從提高分辨率和耐鍍性的角度出發(fā)，優(yōu)選為亞乙基或亞異丙基。另外，上述通式(I)中的芳香環(huán)可以帶有取代基。作為這些取代基，可以舉出，囟原子、碳原子數(shù)為1~20的烷基、碳原子數(shù)為3~10的環(huán)烷基、碳原子數(shù)為6~18的芳基、苯曱酰甲基、氨基、碳原子數(shù)為1~10的烷氨基，碳原子數(shù)為2~20的二烷氨基、硝基、氰基、羰基、巰基、碳原子數(shù)為1~10的烷巰基、烯丙基、羥基、碳原子數(shù)為120的羥烷基、羧基、烷基的碳原子數(shù)為1~10的羧烷基、烷基的碳原子數(shù)為1-10的酰基、碳原子數(shù)為1~20的烷氧基、碳原子數(shù)為1~20的烷氧羰基、碳原子數(shù)為2~10的烷羰基、碳原子數(shù)為2~10的烯基、含有碳原子數(shù)為2~10的N-烷基氨基曱酰基或雜環(huán)的基，或用這些取代基取代的芳基。這些取代基可以形成稠環(huán)。另外，這些取代基中的氫原子可以被卣原子等上述取代基等置換。這里，取代基的數(shù)量分別為2個以上時，2個以上的取代基可以是相同的，也可以是不同的。作為用上述通式(I)表示的化合物，例如可以舉出，2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基多乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基多丙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基多丁氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(甲基)丙烯酰氧基多乙氧基多丙氧基)苯基)丙烷等雙酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物。作為2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基多乙氧基)苯基)丙烷例如可以舉出，2，2-二(4-(甲基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(甲基)丙烯酰氧基三乙氧基)苯基)丙烷、2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷、2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基六乙氧基)苯基)丙烷、2，2-二(4-(甲基)丙烯酰氧基七乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基八乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基九乙氧基)苯基)丙烷、2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基十一乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基十二乙氧基)苯基)丙烷、2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基十三乙氧基)苯基)丙烷、2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基十四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基十六乙氧基)苯基)丙烷。這些中，2,2-二(4-曱基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷可以作為BPE-500(商品名，新中村化學(xué)工業(yè)社制)商購。另外，2，2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷可以作為BPE-1300(商品名，新中村化學(xué)工業(yè)社制)商購。這些可以單獨的使用，或組合2種以上使用。作為2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基多乙氧基多丙氧基)苯基)丙烷例如可以舉出2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基二乙氧基八丙氧基)苯基)丙烷、2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基四乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷和2,2-二(4-(曱基)丙烯酰氧基六乙氧基六丙氧基)苯基)丙烷，這些可以單獨的使用，或組合2種以上使用。作為聚烷二醇二(曱基)丙烯酸酯可以優(yōu)選的列舉出用下述通式(II)表示的化合物。[化2]OO上述通式(II)中，113和114分別獨立的表示氫原子或石灰原子數(shù)為1~3的烷基，優(yōu)選為甲基。上述通式(II)中，Y1、￥2和^分別獨立的表示碳原子數(shù)為2~6的亞烷基，優(yōu)選為亞乙基或亞丙基。上述通式(II)中，s、t和u表示選擇的0~30的整數(shù)使s+t+u=4~40。s+t+u的值優(yōu)選為5~30，更優(yōu)選為8~23,特別優(yōu)選為10~15。s+t+u的值如果不到4，降低該化合物的沸點，有感光層20的臭氣變強的傾向。另外，如果s+t+u的值超過40，相對于單位重量的光反應(yīng)性部位的濃度變低，因此有不能得到實用的感光度的傾向。另夕卜，上述通式(II)中的氧亞烷基單元(-(Y、0)s-、-(Y2-0)t-、以及-(Y3-0)『)例如為含有氧亞乙基單元和氧亞丙基單元的情況，這些多個存在時，不需要各自連續(xù)的以嵌段式存在多個氧亞乙基單元和氧亞丙基單元，可以無規(guī)的存在。進(jìn)一步，氧亞烷基基單元為氧亞異丙基單元時，亞丙基的仲碳原子可以結(jié)合氧原子，伯碳原子也可以結(jié)合氧原子。作為上述通式(II)表示的化合物的優(yōu)選例子，可以舉出用下述通式(III)、(IV)和(V)表示的化合物。這些可以單獨的使用，或組合2種以上使用。[化3]o^式(m)中，113和114分別獨立的表示氫原子或碳原子數(shù)為1~3的烷基,EO表示氧亞乙基單元，PO表示氧亞丙基單元，m'、m2和^表示選擇的130的整數(shù)使m、m2+n1;=4~40。式(IV)中，113和114分別獨立的表示氫原子或碳原子數(shù)為1~3的烷基,EO表示氧亞乙基單元，PO表示氧亞丙基單元，m3、^和113表示選擇的1~30的整數(shù)使m3+n2+n3=4~40。[化5]H2C=j~叢一0"fE0)^fP0^T"C""^CH2(V〉式(V)中，113和114分別獨立的表示氫原子或-灰原子數(shù)為1~3的烷基，EO表示氧亞乙基單元，PO表示氧亞丙基單元，1114和114表示選擇的1~30的整數(shù)使1114+114=4~40。作為通式(in)、(IV)和(V)中碳原子數(shù)為1-3的烷基，例如可以舉出甲基、乙基、正丙基和異丙基。另外，上述通式(III)、(IV)和(V)中氧亞乙基單元的重復(fù)數(shù)的總數(shù)(m'+m2、!113和m4)優(yōu)選各自獨立的為1~30的整數(shù)，更優(yōu)選為1~10的整數(shù)，特別優(yōu)選為4~9的整數(shù)，進(jìn)一步優(yōu)選為5~8的整數(shù)。該重復(fù)數(shù)如果超過30,有掩蔽可靠性和抗蝕劑形狀惡化的傾向。上述通式(III)、(IV)和(V)中氧亞丙基單元的重復(fù)數(shù)的總數(shù)(n1、n2+n3和n4)優(yōu)選各自獨立的為1~30的整數(shù)，更優(yōu)選為5~20的整數(shù)，特別優(yōu)選為8~16的整數(shù)，進(jìn)一步優(yōu)選為10~14的整數(shù)。如果該重復(fù)數(shù)超過30,有分辨率惡化，產(chǎn)生殘渣的傾向。作為上述通式(III)中表示的化合物的具體的例子，例如可以舉出W和W為曱基，m、m、4(平均值)，n^l2(平均值)的乙烯基化合物(日立化成工業(yè)社制，商品名FA-023M)。作為上述通式(IV)中表示的化合物的具體的例子，例如可以舉出113和W為曱基，m、6(平均值)，112+!13=12(平均值)的乙烯基化合物(日立化成工業(yè)社制，商品名FA-024M)。作為上述通式(V)中表示的化合物的具體的例子，例如可以舉出113和W為氫原子，m^l(平均值)，114=9(平均值)的乙烯基化合物(新中村化學(xué)工業(yè)社制，樣品名NK酯HEMA-9P)。這些，這些可以單獨的使用，或組合2種以上使用。作為(B)成分，除了上面說明的在分子內(nèi)具有可聚合的烯類不飽和鍵的光聚合性化合物，進(jìn)一步優(yōu)選包含帶1個其它的烯類不飽和鍵的光聚合性化合物。作為具有1個其它的烯類不飽和鍵的光聚合性化合物，例如可以舉出，(曱基)丙烯酸壬基苯氧基聚環(huán)氧乙酯、(曱基)丙烯酸壬基苯氧基聚環(huán)氧丙酯、(曱基)丙烯酸壬基苯氧基聚環(huán)氧乙基聚環(huán)氧丙酯等(曱基)丙烯酸壬基苯氧基聚環(huán)氧烷酯，，氯代-p-羥丙基-P，-(甲基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二曱酸酯、卩-幾烷基-p，-(曱基)丙烯酰氧基烷基鄰苯二曱酸酯等的苯二甲酸系化合物，(甲基)丙烯酸烷基酯。通過含有上述帶1個烯類不飽和鍵的光聚合性化合物，可以提高顯影液特性和剝離性等特性。另外，在本發(fā)明的感光性樹脂組合物中還可以含有上述光聚合性化合物以外的光聚合性化合物。作為這樣的光聚合性化合物例如可以舉出，使含有縮水甘油基的化合物與a,P-不飽和羧酸反應(yīng)而生成的化合物、在分子內(nèi)具有氨酯鍵的(曱基)丙烯酸酯化合物等氨酯單體。作為(C)成分的光聚合引發(fā)劑，例如可以舉出，二苯曱酮，N,N，-四曱基_4，4，-二氨基二苯曱酮(米蚩酮)等1^>!，-四烷基-4，4，-二氨基二苯曱酮，2-節(jié)基-2-二曱基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮，2-曱基-1-[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉代-l-丙酮等芳香酮；烷基蒽醌等醌化合物；苯偶姻烷基醚等苯偶姻醚化合物；苯偶姻、垸基苯偶姻等苯偶姻化合物；苯偶酰二曱基酮縮醇等苯偶酰衍生物；2-(鄰氯代苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚體、2-(鄰氯代苯基)-4，5-二(曱氧基苯基)咪唑二聚體、2-(鄰氟代苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚體、2-(鄰曱氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚體、2-(對曱氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚體等2，4,5-三芳基咪唑二聚體；9-苯基吖啶、1，7-二(9，9，-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物；N-苯基甘氨酸，N-苯基甘氨酸衍生物，香豆素系化合物。另外，在2,4,5-三芳基咪唑二聚體中，兩個2，4,5-三芳基咪唑的芳基取代基可以相同而形成對稱的化合物，也可以不同而形成非對稱的化合物。其中，從提高密合性和感光度的角度出發(fā)，優(yōu)選2,4,5-三芳基咪唑二聚體。這些可以單獨的使用，或組合2種以上使用。相對于(A)成分和(B)成分的總量100質(zhì)量份，(A)成分粘合劑聚合物的配合量優(yōu)選為40~70質(zhì)量份，更優(yōu)選為50~60質(zhì)量份。該配合量不到40質(zhì)量份，有光固化物變脆的傾向，如果超過70質(zhì)量份，有分辨率和光敏度變得不充分的傾向。相對于(A)成分和(B)成分的總量IOO質(zhì)量份，(B)成分具有烯類不飽和鍵的光聚合性化合物的配合量優(yōu)選為30~60質(zhì)量份，更優(yōu)選為40~50質(zhì)量份。該配合量不到30質(zhì)量份，有分辨率和光敏度變得不充分的傾向，如果超過60質(zhì)量份，有光固化物變脆的傾向。相對于(A)成分和(B)成分的總量IOO質(zhì)量份，(C)成分光聚合引發(fā)劑的配合量優(yōu)選為0.1~20質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.2~IO質(zhì)量份,特別優(yōu)選為0.5~5質(zhì)量份。該配合量不到0.1質(zhì)量份，有光敏度變得不充分的傾向，如果超過20質(zhì)量份，曝光時增加感光性樹脂組合物的表面的光吸收，有內(nèi)部的光固化物變得不充分的傾向。另外，在感光性樹脂組合物中根據(jù)需要可以含有以下的添加劑在分子內(nèi)至少具有一個可陽離子聚合的環(huán)狀醚基的光聚合性化合物(氧雜環(huán)丁烷化合物等)、陽離子聚合引發(fā)劑、孔雀綠等染料、三溴苯基砜、結(jié)晶紫等光發(fā)色劑，熱發(fā)色防止劑、對曱苯磺酰胺等可塑劑，顏料、填充劑、消泡劑、阻燃劑、穩(wěn)定劑、密合性賦予劑、流平劑、剝離促進(jìn)劑、抗氧化劑、香料、顯影劑、熱交聯(lián)劑等添加劑。這些可以單獨的使用，或組合2種以上使用。這些添加劑在不阻礙本發(fā)明目的的前提下，相對于(A)成分和(B)成分的總量IOO質(zhì)量份，分別可以含有0.01~20質(zhì)量份左右。感光性樹脂組合物根據(jù)需要可以溶解在曱醇、乙醇、丙酮、曱乙酮、曱基溶纖劑、乙基溶纖劑、曱苯、N,N-二曱基曱酰胺和丙二醇單甲醚等溶劑和它們的混合溶劑中，調(diào)制成作為固體含量為30~60質(zhì)量％左右的溶液。本發(fā)明的感光性元件1中感光層20可以通過將上述感光性樹脂組合物涂布在支承膜10上，除去溶劑后形成。在這里，作為涂布方法可以采用輥涂布、逗號涂布(commacoating)、照相凹版涂布、氣刀刮涂布、模涂布、棒涂布等的公知的方法。另外，溶劑的除去例如可以通過在70150。C進(jìn)行530分鐘左右的處理來進(jìn)行。從防止后續(xù)工序中有機溶劑擴散的角度出發(fā)，感光層20中的殘存有機溶劑量優(yōu)選為2質(zhì)量％以下。通過這樣形成的感光層20的厚度在干燥后的厚度為3~30|im，優(yōu)選為5~25|im。在蝕刻用途中使用本發(fā)明的感光性元件時，進(jìn)一步優(yōu)選為8~18^tm,特別優(yōu)選為10~15jim。如果該厚度不到3jim，有發(fā)生如下現(xiàn)象的傾向在電路形成用基板上層疊感光層時，容易產(chǎn)生不良現(xiàn)象；掩蔽性差；顯影和蝕刻工序中抗蝕劑破損、成為短路不良的一個原因；降低印刷電路布線板的制造合格率。而另一方面，如果厚度超過30pm，由于降低感光層20的分辨率，惡化蝕刻液的液周圍，因此，如果側(cè)面蝕刻的影響變大，有高密度的印刷電路布線板的制造變困難的傾向。另外，在鍍覆用途中使用本發(fā)明的感光性元件時，進(jìn)一步優(yōu)選為15~25pm，特別優(yōu)選為20~25jim。如果該厚度不到3pm，有產(chǎn)生如下現(xiàn)象的傾向在電路形成用基板上層疊感光層時，容易產(chǎn)生不良現(xiàn)象；由于鍍覆液變得容易懸浮(overhanging),在鍍覆后的感光層的剝離時，不能完全剝離感光層；降低印刷電路布線板的制造合格率。如果厚度超過30jom，有降低感光層20的分辨率，高密度的印刷電路布線板的制造變困難的傾向。感光性元件1可以在與感光層20的支承膜10相接的第1主表面12相反側(cè)的第2主表面14上設(shè)置保護(hù)膜(圖未示)。作為保護(hù)膜優(yōu)選使用感光層20和保護(hù)膜之間的粘著力比感光層20和支承膜IO之間的粘著力小的膜，又優(yōu)選使用低魚眼的膜。具體的，例如可以舉出聚乙烯、聚丙烯等惰性的聚烯烴膜。從由感光層20的剝離性的角度出發(fā)，優(yōu)選為聚乙烯膜。保護(hù)膜的厚度根據(jù)用途不同，優(yōu)選為1~100[im左右。感光性元件1除了支承膜10、感光層20和保護(hù)膜以外，還可以進(jìn)一步具有墊層、粘著層、光吸收層、氣體屏障層等中間層或保護(hù)層。本實施方式的感光性元件1例如可以以原本的狀態(tài)儲存，也可以以在感光層20上進(jìn)一步層疊保護(hù)膜、巻繞在圓筒狀的巻芯上的狀態(tài)儲存。這時，優(yōu)選按使支承膜10在最外層來巻繞成輥狀。另外，從端面保護(hù)的角度出發(fā)，優(yōu)選在巻繞成輥狀使感光性元件1的端面設(shè)置端面隔離物。作為包裝方法，優(yōu)選用透濕性低的黑鋼板包裹的方式進(jìn)行包裝。作為巻芯的材料可以舉出聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂和ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)等塑料。(光致抗蝕劑圖形的形成方法)本實施方式的光致抗蝕劑圖形的形成方法為包括如下工序的方法按感光層20、支承膜10的順序依次在電路形成用基板上層疊上述感光性元件1的層疊工序；穿過上述支承膜10照射活性光線到感光層20的規(guī)定部分，在感光層20上形成光固化部的曝光工序；除去上述光固化部以外的部分感光層20的顯影工序。在層疊工序中，作為在電路形成用基板上層疊感光層20的方法，可以舉出，在感光層20上存在有保護(hù)膜的情況下，通過除去該保護(hù)膜后，將感光層20—邊在70~130。C左右加熱一邊用0.1~lMPa左右的壓力壓粘在電路形成用基板上，進(jìn)行層疊的方法。該層疊工序中，也可以在減壓下進(jìn)行層疊。這里，電路形成用基板的被層疊的表面通常為金屬面，但是沒有特別的限定。另外，為了進(jìn)一步提高層疊性，可以進(jìn)行電路形成用基板的預(yù)熱處理。然后，對于上述層疊工序中完成層疊的感光層20,將具有正或負(fù)掩模圖形的光掩模與支承膜10的第2主表面14對上位置后密合。然后，在曝光工序中，對于感光層20,通過穿過支承膜10畫像狀的照射活性光線，在感光層20上形成光固化部而進(jìn)行操作。作為上述活性光線的光源，可以使用公知的光源，例如，碳極電弧燈、水銀蒸氣電弧燈、高壓水銀燈、氛弧燈等有效的放射紫外線或可見光等的光源。另外，也可以使用激光直接描繪曝光法。然后，在上述曝光工序后，從支承膜10剝離光掩模。進(jìn)一步，從感光層20剝離除去支承膜10。在接下來的顯影工序中，可以通過由4^性水溶液、水系顯影液、有機溶劑等顯影液進(jìn)行的濕式顯影、干式顯影等，除去感光層20的未曝光部(未光固化部)進(jìn)行顯影，從而來制造光致抗蝕劑圖形。作為堿性水溶液例如可以舉出0.1~5質(zhì)量％碳酸鈉的稀溶液、0.1~5質(zhì)量%碳酸鉀的稀溶液、0.1~5質(zhì)量％氫氧化鈉的稀溶液。上述堿性水溶液的pH優(yōu)選為911的范圍，結(jié)合感光層20的顯影性來調(diào)節(jié)其溫度。另外，堿性水溶液中可以混入表面活性劑、消泡劑、有機溶劑。作為顯影的方法例如可以舉出浸漬方式、噴射方式、刷涂方式、拍打方式。另外，作為顯影工序后的處理，根據(jù)需要，可以通過在60250。C左右的加熱或進(jìn)行0.2~10J/cn^左右的曝光，進(jìn)一步固化光致抗蝕劑圖形。通過上述的方法，可以在形成有電路圖形的導(dǎo)體層上進(jìn)行光致抗蝕劑圖形的形成。光致抗蝕劑圖形在封裝部件的接合時，可以作為防止向?qū)w層上的不必要部分附著焊料的焊料抗蝕劑而使用。另外，通過上述形成方法而制成的光致抗蝕劑圖形，在硬性基材上可以用來形成拉伸強度、延伸率等物理特性優(yōu)異，且滿足耐電化學(xué)腐蝕的固化樹脂，進(jìn)一步優(yōu)選作為在硬性基材上形成的永久掩模(焊料抗蝕劑)而使用。具體的，本實施方式的印刷電路布線板的制作方法，可以通過將用上述光致抗蝕劑圖形的形成方法形成有光致抗蝕劑圖形的電路形成用基板進(jìn)行蝕刻或鍍覆來進(jìn)行。這里，電路形成用基板的蝕刻或鍍覆可以通過將已顯影的光致抗蝕劑圖形作為掩模，用公知的方法進(jìn)行蝕刻或鍍覆電路形成用基板的表面來進(jìn)行。作為蝕刻中使用的蝕刻液，例如可以使用氯化銅、三氯化鐵溶液、堿性蝕刻溶液。作為鍍覆例如可以舉出銅鍍覆、焊料鍍覆、鎳鍍覆、金鍍覆。進(jìn)行蝕刻或鍍覆后，光致抗蝕劑圖形例如可以用比顯影時使用的堿性水溶液更強的堿性水溶液剝離。作為該強堿性水溶液，例如可以使用1~10質(zhì)量％的氫氧化鈉水溶液、1~10質(zhì)量％的氳氧化鉀水溶液。另外，作為剝離方式，例如可以舉出浸漬方式、噴射方式。其中，形成有光致抗蝕劑圖形的印刷電路布線板可以是多層印刷電路布線板，也可以具有小孔徑的通孔。另外，對于具有絕緣層和在絕緣層上形成的導(dǎo)體層的電路用形成用基板進(jìn)行鍍覆時，需要除去圖形以外的導(dǎo)體層。作為該除去方法例如可以舉出，剝離光致抗蝕劑圖形后輕輕的蝕刻的方法;'或通過在上述鍍覆后進(jìn)行焊料鍍覆等，其后剝離光致抗蝕劑圖形從而用焊料掩蔽布線部分，接著，使用可蝕刻的蝕刻液只處理導(dǎo)體層的方法。(半導(dǎo)體封裝基板的制造方法)本發(fā)明的感光性元件1.可以在具有硬性基板和在該硬性基板上形成的絕緣膜的封裝基板中使用。這時，可將感光層的光固化部作為絕緣膜而使用。感光層的光固化部例如作為半導(dǎo)體封裝用的焊料抗蝕劑使用時，在上述光致抗蝕劑圖形的形成方法中顯影結(jié)束后，為了提高焊料耐熱性和耐藥品性等，優(yōu)選采用高壓水銀燈進(jìn)行紫外線照射或進(jìn)行加熱。照射紫外線時可以根據(jù)需要調(diào)整其照射量，例如，可以以0.2~10J/crr^左右的照射量進(jìn)行照射。另外，加熱光致抗蝕劑圖形時，優(yōu)選在100~170。C左右的范圍內(nèi)進(jìn)行15-90分鐘。進(jìn)一步，可以同時進(jìn)行紫外線照射和加熱，也可以實施其中任^T一個后，再實施另一個。同時進(jìn)行紫外線照射和加熱時，從有效的賦予焊料耐熱性和耐藥品性等的角度出發(fā)，更優(yōu)選以60~15(TC加熱。該焊料抗蝕劑兼任在基板上實施焊料焊接后的布線的保護(hù)膜，由于拉伸強度或延伸率等物理特性及耐熱沖擊性優(yōu)異，作為半導(dǎo)體封裝用的永久掩模是有效的。像這樣制成的帶有光致抗蝕劑圖形的封裝基板，在其后進(jìn)行半導(dǎo)體元件等的封裝(例如，引線鍵合、焊料焊接)，然后安裝到計算機等的電子器械中。根據(jù)以上說明的本實施方式的感光性元件、光致抗蝕劑圖形的形成方法、印刷電路布線板和半導(dǎo)體封裝基板的制作方法，感光性元件1具有在支承膜中含有的直徑為5nm以上的粒子等的總數(shù)為5個/mr^以下的支承膜作為支承膜10。由此，穿過支承膜10照射活性光線到感光層20時，最小限度的抑制支承膜10中的光散射，可以在感光層20中形成充分減少抗蝕劑;微小缺損的光固化部。因此，由于制成的光致抗蝕劑圖形和印刷電路布線板的電路圖形可以充分的減少圖形的微小缺損，使提高印刷電路布線板的制造合格率成為可能。以上，基于該實施方式詳細(xì)的說明了本發(fā)明。但是，本發(fā)明不限定于上述實施方式中。本發(fā)明在不脫離其要點的范圍內(nèi)，可以進(jìn)行各種各樣的變形。實施例以下，根據(jù)實施例具體的說明本發(fā)明，但是本發(fā)明不限于此。(實施例1~5以及比4支例1~7)配合下述表1所示的各成分，調(diào)制成感光性樹脂組合物的溶液。其中，(A)成分粘合劑聚合物的重均分子量通過GPC來測定，使用標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯的標(biāo)準(zhǔn)曲線換算而算出。GPC的條件如下所示。泵日立L-6000型(日立制作所社制)柱GelpackGL-R440+GelpackGL-R450+GelpackGL國R440M(合計3根)(以上，日立化成工業(yè)社制，商品名)洗提液四氫呋喃測定溫度40°C流量2.05mL/分鐘檢測器日立L-3300型RI(日立制作所社制)<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>(感光性元件的制作)準(zhǔn)備表2和3所示的PET膜作為感光性元件的支承膜。測定各PET膜中含有的直徑為5pm以上的粒子等的個數(shù)和霧度，其結(jié)果表示于表2、3中。上述粒子等的個數(shù)為用偏光顯微鏡測定lmn^單位中存在的5pm以上的粒子等的數(shù)量的值。這時的n數(shù)設(shè)為5。另外，霧度為依據(jù)JISK7105測定的值。這些支承膜的厚度都為16pm。然后，在各自的PET膜上涂布上述的感光性樹脂組合物的溶液使厚度均一，用10(TC的熱風(fēng)對流干燥機進(jìn)行2分鐘的干燥后除去溶劑。干燥后，用聚乙歸制保護(hù)膜(玉聚合社制(Tamapoly.Co.，Ltd),商品名「NF-15」，厚度為20pm)被覆感光層，制成感光性元件。其中，干燥后的感光層的厚度調(diào)整為表2和表3所示的「感光層的膜厚J。(層疊體的制作)使用具有相當(dāng)#600的刷子的研磨機(三啟社制)研磨作為在兩面層疊有銅箔(厚35pm)的玻璃環(huán)氧材的覆銅疊層板(日立化成工業(yè)社制，商品名「MLC-E-679」)的銅表面，水洗后，用空氣流干燥。加熱得到的覆銅疊層板到80'C，一邊剝離保護(hù)膜，一邊層壓感光性元件使感光層接合在銅表面。像這樣制成按覆銅疊層板、感光層、支承膜的順序?qū)盈B的層疊體。層壓使用120。C的熱輥，以0.4MPa的壓接壓力，1.5米/分鐘的輥速進(jìn)行。這些層疊體作為以下所示試驗的試驗片使用。(光敏度測定試驗)在試驗片的支承膜上放置作為負(fù)片的Stouffer21階曝光尺，用帶有高壓水銀燈的曝光機(才一夕社制，商品名「EXM-1201」)，以60mJ/cmS的照射能量曝光感光層。然后，剝離支承膜，用最少顯影時間的2倍的時間噴射顯影30。C的1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液，除去未啄光部分，進(jìn)行顯影。然后，通過測定在覆銅疊層板上形成的光固化膜的階段曝光尺的格數(shù)，來評價感光性樹脂組合物的光敏度。光敏度用階段曝光尺的格數(shù)表示，該階段曝光尺的格數(shù)越高，表示光敏度高。結(jié)果示于表2、3中。(分辨率測定試驗)為了評價分辨率，將具有Stouffer21階曝光尺的光具(phototool)和作為分辨率評價用負(fù)片的具有線寬/間距寬為2/2~30/30(單位(im)的布線圖形的玻璃鉻型(力、，只夕口厶夕一:/)的光具密合在試驗片的支承膜上，用帶有高壓水銀燈的曝光機(才一夕社制，商品名「EXM-1201J),按使Stouffer21階曝光尺顯影后的殘存格數(shù)為8.0的照射能量進(jìn)行曝光。然后，剝離支承膜，用最少顯影時間的4倍時間噴射顯影3(TC的1質(zhì)量°/。的碳酸鈉水溶液，除去未曝光部分，進(jìn)行顯影。這里，分辨率通過由顯影處理可以干凈地除去未曝光部的線寬間的間距寬度的最小值(單位pm)來評價。另外，分辨率的評價是，數(shù)值越小越是良好的值。結(jié)果示于表2、3中。(抗蝕劑線的側(cè)面形狀評價)對用上述分辨率測定試驗評價過的基板，用掃描式電子顯微鏡(日立化成工業(yè)社制，商品名S-2100)觀察抗蝕劑線的側(cè)面形狀，進(jìn)行如下的評價。結(jié)果示于表2、3中。A:平滑的形狀B:稍微有點粗糙的形狀C:粗糙的形狀(密合性測定試驗)為了評價密合性，將具有Stouffer21階曝光尺的光具和作為密合性評價用負(fù)片的具有線寬/間距寬為2/1000~30/1000(單位|im)的布線圖形的玻璃鉻型的光具密合在試l^片的支承膜上，用帶有高壓水銀燈的曝光機(才一夕社制，商品名「EXM-1201」)，以使Stouffer21階曝光尺顯影后的殘存格段數(shù)為8.0的照射能量進(jìn)行曝光。然后，剝離支承膜，用最少顯影時間的4倍時間噴射顯影3(TC的1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液，除去未曝光部分，進(jìn)行顯影。這里，分辨率通過由顯影處理可以干凈的除去未曝光部的線寬的最小值(單位urn)來評價。另外，密合性的評價是，數(shù)值越小越為良好的值。結(jié)果示于表2、3中。(掩蔽性測定試-驗)為了評價掩蔽性，使用形成有通孔的覆銅疊層板，除此以外，與上述同樣地制造層疊體。使用的基板的通孔的直徑為3.0mm,孔數(shù)為200。為了評價掩蔽性，將具有Stouffer21階曝光尺的光具密合在試驗片的支承膜上，用帶有高壓水銀燈的曝光機(才一夕社制，商品名「EXM-1201J),以使Stouffer21階曝光尺的顯影后的殘存格數(shù)為8.0的照射能量進(jìn)行曝光。其中，在通孔部不使用光具進(jìn)^f亍全部曝光。然后，剝離支承膜，用最少顯影時間的8倍時間噴射顯影30'C的1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液，進(jìn)行顯影。確認(rèn)通孔部的抗蝕劑破裂地方的數(shù)量，算出掩蔽破損率(％)。掩蔽破損率的值越小越良好。結(jié)果示于表2、3中。(抗蝕劑微小缺損部產(chǎn)生性測定試驗)為了評價抗蝕劑的微小缺損部產(chǎn)生性，將具有Stouffer21階曝光尺的光具和具有線寬/間距寬為10/30(單位Mm)的布線圖形的玻璃鉻型的光具密合在試驗片的支承膜上，用帶有高壓水銀燈的曝光機，以使Stouffer21階曝光尺顯影后的殘存格數(shù)為5.0的照射能量進(jìn)行曝光。然后，剝離支承膜，用最少顯影時間的2倍時間噴射3(TC的1質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液，除去未曝光部分。然后，用顯微鏡，數(shù)出抗蝕劑缺損部的個數(shù)。以線長lmm線數(shù)10根為觀察單位、n數(shù)為5時的平均值作為抗蝕劑微小缺損部產(chǎn)生數(shù)。其結(jié)果示于表2、3中。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>表3<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>*1:在正反面具有含微粒層的3層結(jié)構(gòu)的雙軸取向PET膜，東麗社制*2:微粒的含量在正反面不同的2層結(jié)構(gòu)的雙軸取向PET膜，帝人dupont膜社制*3:在正反面具有含微粒層的3層結(jié)構(gòu)的雙軸取向PET膜，帝人dupont膜社制*4:在一個面具有含微粒層的2層結(jié)構(gòu)的雙軸取向PET膜，東洋紡織社制*5:含有微粒的雙軸取向PET膜(層結(jié)構(gòu)不清楚)，三菱化學(xué)聚酯膜社制*6:在一個面具有含微粒層的2層結(jié)構(gòu)的雙軸取向PET膜，東洋紡織社制如表2和3所示，在實施例1~5和比較例1~7中使用的PET膜的霧度雖然幾乎相同，但是，在實施例1~5中使用的PET膜lmn^單位中存在的5pm以上的粒子等的個數(shù)為1個，與比較例1~7中使用的PET膜相比非常少。因此，對于抗蝕劑^:小缺損部產(chǎn)生數(shù)，得到實施例1~5的抗蝕劑缺損為0，與比較例1~7相比非常少這樣的結(jié)果。進(jìn)一步，確認(rèn)出實施例1~5中，顯影后的抗蝕劑側(cè)面形狀為平滑，形成良好的光致抗蝕劑圖形。通過本發(fā)明提供一種感光性元件，其具有薄膜的含感光性樹脂組合物的層，可以形成充分降低了抗蝕劑的微小缺損的光致抗蝕劑圖形。權(quán)利要求1.一種感光性元件，具有支承膜和形成在該支承膜上的含感光性樹脂組合物的層，其中，所述支承膜的霧度為0.01～2.0％，且在該支承膜中含有的直徑為5μm以上的粒子和直徑為5μm以上的凝集物的總數(shù)為5個/mm2以下，所述含感光性樹脂組合物的層含有(A)粘合劑聚合物、(B)帶有烯類不飽和鍵的光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑，且所述含感光性樹脂組合物的層的厚度為3～30μm。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性元件，其中，所述(A)粘合劑聚合物的重均分子量為30000-150000。全文摘要本發(fā)明提供一種感光性元件(1)，具有支承膜(10)和形成在該支承膜(10)上的含感光性樹脂組合物的層(感光層)(20)，支承膜(10)的霧度為0.01～2.0％，且在該支承膜(10)中含有的直徑為5μm以上的粒子及凝集物的總數(shù)為5個/mm²以下，感光層(20)含有(A)粘合劑聚合物、(B)具有烯類不飽和鍵的光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑，且感光層(20)的厚度為3～30μm。文檔編號H05K3/00GK101600995SQ20088000337公開日2009年12月9日申請日期2008年1月28日優(yōu)先權(quán)日2007年1月31日發(fā)明者久保田雅夫,山田榮一郎,高野真次申請人:日立化成工業(yè)株式會社