專利名稱：：面發(fā)光體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種用于各種顯示器、顯示元件、液晶用背光、照明用光源等的面發(fā)光體。
背景技術(shù)：
：作為各種顯示器、顯示元件、背光、照明等光源被使用的，通過光、電能發(fā)光的面發(fā)光體，具有高亮度、高效率、輕薄、重量輕這樣的數(shù)量眾多的優(yōu)點(diǎn)。即使在這樣的面發(fā)光體中，通過正負(fù)各電極輸出的電能使有機(jī)材料發(fā)光的有機(jī)電激發(fā)光元件(有機(jī)EL元件)，能夠在數(shù)V左右的電壓下產(chǎn)生高亮度的面發(fā)光，能夠依據(jù)發(fā)光物質(zhì)的選擇發(fā)出任意色調(diào)的光，依據(jù)上述等理由，人們竭力去嘗試面向?qū)嵱没难芯块_發(fā)。該有機(jī)EL元件，如圖3A所示，由形成在透光性基板1表面的透明電極層7,和形成在該透明電極層7表面的由有機(jī)EL材料所構(gòu)成的發(fā)光層8,和形成在發(fā)光層8表面的對向電極9等構(gòu)成。并且，通過在透明電才及層7和對向電極9之間加載電壓使發(fā)光層8發(fā)出的光，能夠透過透明電極層7以及透光性基板1被提取。在此，像有機(jī)EL元件那樣由薄膜構(gòu)成發(fā)光元件的情況，從身為發(fā)光體薄膜的發(fā)光層8出來的光的出射角，由發(fā)光層8的折射率，以及發(fā)出的光射出時通過的媒質(zhì)，即透明電極層7、透光性基板1的折射率所決定。光的出射角在臨界角以上時，光在界面被全反射，被封閉在發(fā)光層8等的內(nèi)部，作為導(dǎo)波光丟失。依據(jù)古典光學(xué)的斯乃爾法則計(jì)算，當(dāng)發(fā)光層8的折射率為n時，產(chǎn)生的光提取到外部的光提取效率ri近似于n—1/(2n2)。例如當(dāng)發(fā)光層8的折射率為1.7時，則ri—17%左右，80%以上的光作為導(dǎo)波光，作為有才幾EL元件側(cè)面方向的損失光丟失，因此，出自有機(jī)發(fā)光元件的光的提取效率非常低。另外，對于將熒光材料用到發(fā)光物質(zhì)上的有機(jī)EL元件的情況，通過從各電極7和9注入的電荷的再結(jié)合所生成的激子中，參與發(fā)光的僅是單重態(tài)激子，其生成概率是1/4。也就是說，即4吏僅考慮這一點(diǎn)，效率為5%左右，變得非常低。對此，近年來，作為提高發(fā)光層自身發(fā)光效率的方法，由從三重態(tài)激子發(fā)出的磷光而得到發(fā)光的發(fā)光材料的開發(fā)也在進(jìn)行，也看出能夠飛躍性地提高量子效率的可能性。然而，即使像這樣提高了量子效率，如果光的提取效率很低，也會受其左右降低有機(jī)EL元件的發(fā)光效率。換言之，如果改善了提取效率，作為相輔效果也能夠飛躍性地提高發(fā)光效率。對于在透光性基板l表面，隔著透明電極層7，層積發(fā)光層8所形成的有機(jī)EL元件的情況，如上所述約達(dá)80%的損失光大多是由(1)在透光性基板1與空氣的界面的全反射，(2)在透明電極層7與透光性基板1的界面的全反射造成的。也就是說，光從高折射率的媒質(zhì)入射到低折射率的媒質(zhì)時，根據(jù)全反射定理入射角在臨界角以上的光在該界面被全反射，被封閉在其內(nèi)部。若考慮立體角分別計(jì)算(1)的在透光性基板1與空氣的界面的全反射，和(2)的在透明電極層7與透光性基板1的界面的全反射的比例，則前者約為35%,后者約為45%。因此，現(xiàn)在，作為改善光提取效率的手段，一般考慮(1)透光性基板1與空氣的界面的改質(zhì)、(2)透明電極層7與透光性基板1的界面的改質(zhì)這兩種手段。關(guān)于前者，提出了通過在透光性基板1表面設(shè)置散射層、透鏡構(gòu)造來提高提取效率的方法(例如參照專利第2931211號公報(bào))，和形成衍射光柵等方法(例如參照特開平10-321371號公報(bào))等。關(guān)于后者，如圖3B所示，在透明電極層7和透光性基板1之間形成光散射層2,用光散射層2使光發(fā)生散射。由此，能夠降低透明電極層7與透光性基板1的界面所產(chǎn)生的全反射比例，提高光的提取效率。在透光性基板1的透明電極層7—側(cè)表面設(shè)有細(xì)微的凹凸，或在透光性基板1的透明電極層7—側(cè)表面設(shè)置含有粒子的涂層樹脂層，形成光散射部2;但不論是上述哪種方式表面都會形成凹凸。因此，如圖3B所示，在光散射層2表面形成緩和層31,平整凹凸使其平滑，在緩和層31的平滑表面形成膜厚較薄的透明電極層7(例如，參照特開2003-216061號公報(bào)1、特開2006-286616號公報(bào)等)。然而，如果像上述那樣在光散射層2和透明電極層7之間形成緩和層31,在透明電極層7與緩和層31的界面，光會發(fā)生全反射，因該全反射會降低光的提取效率，因此期望進(jìn)一步提高提取效率。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明鑒于以上問題，目的在于提供一種能夠抑制光在透明電極層與緩和層界面發(fā)生全反射，提高光提取效率的面發(fā)光體。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供一種面發(fā)光體，包括透光性基材、和在所述透光性基材表面形成的光散射層、和在所述光散射層表面形成的，通過光或電能發(fā)光的有機(jī)或無機(jī)的發(fā)光體層；所述光散射層包括粘合料以及2種填充材料；設(shè)所述粘合料的折射率為Nb，所述2種填充材料中一種的折射率為Nf"另一種的折射率為N卜時，滿足Nf,Nb〉Nfi的關(guān)系。在這樣的結(jié)構(gòu)中，由于在透光性基材和發(fā)光層之間形成的光散射層是包含滿足上述折射率關(guān)系的粘合料以及2種填充材料所形成的，所以增強(qiáng)了光的散射效果，發(fā)光體層(薄膜)產(chǎn)生的光從光散射層射向透光性基材時臨界角發(fā)生變化，到透光性基材的光的入射率變高，光提取到外部的效率變得更高。圖1A為表示本發(fā)明第一實(shí)施方式提供的面發(fā)光體構(gòu)成的截面圖；圖IB為表示在該透光性基材表面形成的光散射層的截面圖2A為表示本發(fā)明第二實(shí)施方式提供的面發(fā)光體構(gòu)成的截面圖；圖2B為表示該緩和層的截面圖3A為表示現(xiàn)有技術(shù)中面發(fā)光體構(gòu)成的截面圖；圖3B為表示現(xiàn)有技術(shù)中另一面發(fā)光體構(gòu)成的截面圖。具體實(shí)施例方式(第一實(shí)施方式)參照圖1A及1B，對本發(fā)明第一實(shí)施方式提供的面發(fā)光體進(jìn)行說明。圖1A表示第一實(shí)施方式提供的面發(fā)光體的構(gòu)成，圖1B表示形成在其透光性基材1表面的光散射層2。作為發(fā)光體3，可以使用通過光或電能發(fā)光的有機(jī)或無機(jī)的物質(zhì)。圖1A所示的發(fā)光體3是被電能激發(fā)而發(fā)光的，例如有機(jī)EL元件。發(fā)光體3是由形成在光散射層2上的透明電極層(陽極)7、發(fā)光層8、對向電極(陰極)9以及根據(jù)需要設(shè)置的空穴輸送層10、電子輸送層ll等構(gòu)成。發(fā)光層8發(fā)出的光，穿過透明電極層7，進(jìn)一步如在圖1B中以箭頭所示，穿透光散射層2及透光性基材1，射出到外部。作為透光性基材l,可以使用公知的透明基板，例如可以使用鈉玻璃、無堿玻璃等硬質(zhì)基板，聚碳酸酯(求卩力一水凈一卜)、聚對苯二曱酸乙二醇酯(求i;工fk7亍u:7夕k一卜)等軟質(zhì)基板等。透光性基材i的折射率一般在1.46~1.6的范圍內(nèi)。使粘合料4中含有2種填充材料5,6形成光散射層2。該光散射層2是形成在透光性基材l表面上的覆膜，是通過將匹配調(diào)制了填充材料5，6以及粘合形成材料的液狀涂層材料組成物涂布在透光性基材1表面，并使形成在透光性基材1表面的涂膜干燥而形成。此處所說的干燥是指從涂膜中去除液體成分(或揮發(fā)性成分)，殘留固體的覆膜的意思，在干燥過程中可以根據(jù)需要進(jìn)行加熱。另外，也可以干燥得到覆膜后，加熱覆膜，進(jìn)行熱處理。進(jìn)一步地，可以通過繼續(xù)干燥時的加熱，實(shí)施覆膜的熱處理。作為涂膜的形成方法，可以使用旋涂(^匕°7-—卜)、噴涂(只7°k—-—卜)、浸涂(r4少7°-—卜)、印涂等，但并不局限于上述方法。在如此形成的光散射層2中，由粘合形成材料生成的粘合料4中分散著填充材料5，6,它們形成相互不同的相。在粘合料4中以分散狀態(tài)束縛著填充材料5，6。該粘合料4通過干燥涂布成覆膜狀的液狀涂層材料組成物，由粘合形成材料所形成。在干燥過程中，粘合形成材料可以發(fā)生化學(xué)變化，或者，也可以不發(fā)生變化。粘合形成材料從被溶解和/或分散在涂層材料組成物中的狀態(tài)，通過被干燥，整體被轉(zhuǎn)換成膜狀固體。涂層材料組成物，為能夠涂布在透光性基材1的液體狀態(tài)。因此，涂層材料組成物通常包含液體溶媒和/或分散媒(例如水、曱醇(乂夕/一》)、乙醇(工夕乂一乂k)、異丙醇(]y:/口匕。A7Vl^-—A)等醇(7VL:i—^),曱苯(卜凡工7)，二曱苯(《,〉k7)，曱基-乙基曱酮(乂f^工fvL少卜7)等有機(jī)溶劑等)。另外，涂層材料組成物也可以根據(jù)需要包含其它成分。作為其它成分，可以舉例以丙烯酸(7夕卩A)系聚合物之類的為代表的用于平滑涂膜形成的勻染(k乂卩7夕、、)劑，以乙二醇(工*k^夕"yn—/k)、乙二醇一丁醚(工千k^夕、、！J3—^乇乂7'、千A工一^^)、乙酸乙二醇一丁醚(酢酸工*k7夕'卩n—A乇乂f>工一fA)等乙二醇衍生物，二甘醇(，-工千k乂夕、、卩r一yU)、二甘醇一丁醚('-工少U:x夕'卩-一/b乇乂7'f乂k工一r^)等二甘醇衍生物等為代表的用于控制膜厚的增稠劑、高沸點(diǎn)溶劑，以及用于提供和透光性基材1的粘合性的硅烷類偶聯(lián)(，^力77°卩>夕')劑等。在如上所述使粘合料4中含有2種填充材料5，6形成的光散射層2中，若將粘合料4的折射率設(shè)為Nb，所述2種填充材料5,6中一種的折射率設(shè)為Nf1;另一種的折射率設(shè)為Nf2時，選擇粘合料4以及2種填充材料5，6，以滿足Nf,NbWn的關(guān)系。若粘合料4以及2種填充材料5,6的折射率滿足這樣的關(guān)系，由于它們的折射率之差，增強(qiáng)光散射層2的光散射效果。通過在面發(fā)光體的透明電極層7與透光性基材1的界面形成該光散射層2，在透明電極層7與透光性基材1的界面的臨界角會發(fā)生變化，有機(jī)發(fā)光層8發(fā)出的光中，從透明電極層7射入到透光性基材1的比例增加，其結(jié)果是光提取效率變高。作為填充材料5,6的材料，可以舉例為氣凝膠(工7口少VD微粒子、中空二氧化硅微粒子、聚合物制中空微粒子、有機(jī)聚合物微粒子、金屬氧化物微粒子等。另外，填充材料5，6的粒子為了提高分散性，最好經(jīng)過界面活性材料處理、薄膜涂層處理等，不會使折射率發(fā)生顯著變化的表面覆蓋處理。填充材料5,6的折射率Nf"NG—般在1.2~2.5的范圍內(nèi)，而在2種填充材料5,6中，其中一種填充材料折射率Nf^最好在1.4以下。不特別限定折射率N^的下限，但一般在1.2左右。像這樣，通過將其中一種填充材料的折射率Nn設(shè)在1.4以下，大幅降低光散射層2的折射率。其結(jié)果是能夠形成光散射性高且折射率低的光散射層2。另外，2種填充材料5，6的折射率Nf,和Nf2之差在0.5以上為宜。通過將2種填充材料5，6的折射率Nf,和Nf2設(shè)成0.5以上的折射率差，增加光散射層2的光散射強(qiáng)度，結(jié)果是進(jìn)一步提高光的提取效率。不特別限定2種填充材料5,6的折射率Nf:和Nf2的折射率差的上限，但一般在1.3左右以下為宜。另外，填充材料5，6的平均粒子直徑在5~200nm的范圍內(nèi)為宜。這是因?yàn)槿绻龃筇畛洳牧?，6的平均粒子直徑超過200nm的話，含有填充材料5，6所形成的光散射層2的表面粗糙度會變大，有可能使在其上形成的透明電極層7、發(fā)光層8以及對向電極9等構(gòu)成面發(fā)光體的各層的可靠性降低。相反地，如果填充材料5，6的平均粒子直徑過小，光散射的效果就會不充分，因此填充材料5，6的平均粒子直徑在5nm以上為宜。此時，光散射層2的表面粗糙度變大的情況(例如Ra=20nm以上)下，可以在光散射層2表面設(shè)置緩和層(平坦化層)(參照圖3B)。緩和層的材料、形成方法，粗糙度Ra在20nm以下也可以，不做特別限定。2種填充材料5，6的平均粒子直徑最好不同，這時，其中一種填充材料的平均粒子直徑最好是另一種填充材料的平均粒子直徑的2倍以上。像這樣在2種填充材料5，6中，通過將其中一種填充材料5的平均粒子直徑設(shè)為另一種填充材料6的平均粒子直徑的2倍以上，填充材料5,6以平均粒子直徑小的填充材料6進(jìn)入到平均粒子直徑大的填充材料5之間的狀態(tài)，分散于粘合料4內(nèi)。其結(jié)果是，提高填充材料5，6在粘合料4中的分散性，能夠形成填充材料5，6均勻分散的光散射層2。不特別限定2種填充材料5，6的平均粒子直徑之差的上限，但兩者的平均粒子直徑之差在1550nm的范圍內(nèi)為宜。另外，填充材料5,6的粒子直徑、平均粒子直徑是，如后面所述使用利用激光衍射原理的粒度分布測定裝置測定的數(shù)值。另一方面，作為粘合料4的材料，可以舉例為機(jī)聚合物、金屬氧化物、二氧化硅多孔質(zhì)體等?？梢詮倪@些材料中選擇折射率與填充材料5，6折射率滿足擇的至少一種。光散射層2的膜厚不做特別限定，但一般在100~2000nm的范圍內(nèi)為宜。另外，也不特別限定相對于粘合料4的填充材料5，6的含有比例，但一般相對于粘合料4，填充材料5，6最好設(shè)定成質(zhì)量比為10:90~70:30。進(jìn)一步地，也不特別限定2種填充材料5,6的比率，但以1:9~9:l的質(zhì)量比匹配小折射率Nfi的填充材料和大折射率Nf2的填充材料是優(yōu)選的。另外，粘合料4中含有的填充材料，不限定于如上所述的2種填充材料5，6，還可以進(jìn)一步含有第3種填充材料等。該情況也需要至少2種填充材料5，6和粘合料4有如上所述的關(guān)系。光散射層2的折射率一般在1.30~1.70的范圍內(nèi)，設(shè)定成和透光性基材1的折射率相同或小于它為宜。通過將光散射層2的折射率設(shè)為與透光性基材1的折射率相同或小于它，能夠降低從光散射層2射入透光性基材1的光被全反射的比例，能夠進(jìn)一步增大光到外部的提取效率。另外，光散射層2的霧度值((散射光透過率/全光線透過率)xl00)設(shè)定在250的范圍內(nèi)為宜。通過將光散射層2的霧度值設(shè)定在這個范圍內(nèi)，例如在透明有機(jī)面發(fā)光體中，可以不損害外觀，提高光提取效率。另外，當(dāng)光散射層2的霧度值高時，即使光提取效率提高，也可能發(fā)生白色化，損害面發(fā)光體的外觀。下面，針對圖1A所示的面發(fā)光體進(jìn)行說明。如前所述，形成在光散射層2上的發(fā)光體3為有機(jī)EL元件，可以有公知的有機(jī)EL元件構(gòu)造，可以是在例如)元件的陽極和陰極電才及間，隔著如透明電極等電荷產(chǎn)生層，在膜厚方向串聯(lián)設(shè)置多個有機(jī)發(fā)光層8，來提高發(fā)光亮度這樣的EL元件構(gòu)造。構(gòu)成有機(jī)EL元件的電極7和9中，至少一種電極中采用光透過性的透明電極層7。另外，也可以根據(jù)需要在兩種電極7和9中均采用光透過性的電極。作為光透過性的電極材料，可以使用在不妨礙本發(fā)明效果范圍內(nèi)的任意物質(zhì)，例如，可以舉例為銦錫氧化物(IT0)、銦鋅氧化物(IZ0)、錫氧化物、Au等金屬極薄膜，導(dǎo)電性高分子，導(dǎo)電性有機(jī)材料，含摻雜劑(卜、、一川>卜)(供體或受體)的有機(jī)層，導(dǎo)體和導(dǎo)電性有機(jī)材料(含高分子)的混合物，或者它們的層積體等。這些透明電極通常采用噴'減法、離子電鍍法等氣相沉積法形成。在此，在光散射層2表面形成透明電極層7的時候，最好用涂布型透明導(dǎo)電層形成透明電極層7。光散射層2的表面粗糙，形成數(shù)百nm左右的凹凸時，若在光散射層2表面直接用氣相沉積法形成透明電極層7,則膜隨著凹凸生長，形成表面有凹凸的透明電極層7，元件的可靠性將會降低。因此，若在光散射層2表面用涂布糊狀電極材料的涂布法形成透明導(dǎo)電層的話，由于材料的流動性，將填平數(shù)百nm左右的凹凸，可以形成表面平滑的透明電極層7。在此情況下，由于僅用涂布型透明導(dǎo)電層，導(dǎo)電性特性不佳，因此最好是將涂布型透明導(dǎo)電層作為基底層設(shè)置在光散射層2表面后，在其上層積由氣相沉積法得到的透明導(dǎo)電層，以2層結(jié)構(gòu)形成透明電;^及層7。作為構(gòu)成有機(jī)EL元件的有機(jī)發(fā)光層8的有機(jī)材料，可列舉例如，蒽(77卜，七歹)、萘(大:7夕k乂)、芘(匕。k》)、并四苯(r卜，七7)、蔻(-口才7)、二萘嵌苯(、卩k7)、酜菲(7夕口、卩k》)、萘酞菲(大7夕口、;；u>)、二苯基丁二烯(^7工->7、、夕-工》)、四苯基丁二烯(亍卜，t卩>)、惡二唑(才《廿-7乂"一^)、雙(苯并惡唑)(匕'義《乂乂、'軒廿乂、、卩歹)、雙(苯乙烯基)(匕'義久f卩7"、環(huán)戊二烯(夕夕口《乂夕、-工7)、喹啉(矢乂卩>)金屬絡(luò)合物、8-羥基喹啉鋁(卜卩義(8-匕卜、、口《,二軒》卩大一卜)7A;、-々厶)結(jié)合物、(4一曱基—8—羥基喹啉)鋁(卜卩義(4-少千^—8_《乂卩大—卜)7》、；二々厶)結(jié)合物、(5-苯基-8-羥基喹啉)鋁(卜卩久(5-7工-^-8_扦乂'J大一卜)7A;、-々厶)結(jié)合物、氨基喹啉(7纟乂衩乂卩^)金屬結(jié)合物、苯并喹啉(O:/^乂卩7)金屬結(jié)合物、(p-三聯(lián)苯-4-基)胺(卜卩-(p-夕一7工二/l^-4-4A)7;、乂)、吡喃(匕°，>)、二羥基喹啉并吖啶(《大夕卩卜、、7)、紅熒烯(乂b7、k》)、以及它們的衍生物，或者，l-芳基-2(1-7'J—A-2),5-二(2-p塞吩基)吡咯(5-夕(2-斧工二/W匕?？谝籄)衍生物、二苯二乙烯基苯('-7f卩^《乂七、7)衍生物、苯乙烯基亞芳基(久f卩^7卩一k7)衍生物、苯乙烯胺(Xf!i乂L7;、>)衍生物、以及在一部分分子中有由它們的發(fā)光性化合物構(gòu)成的基的化合物或者高分子等。另外，不局限于以上述化合物所代表的熒光色素來源的化合物，可以使用所謂的磷光發(fā)光材料，例如Ir結(jié)合物、0s結(jié)合物、Pt結(jié)合物、銪(工一口匕。々厶)結(jié)合物等等的發(fā)光材料，或者，分子內(nèi)含有它們的化合物或高分子?？梢愿鶕?jù)需要適當(dāng)選擇使用這些材料。另外，可以在有機(jī)發(fā)光層8與透明電極層7以及對向電極9之間，形成用于提高來自這些透明電極層7以及對向電極9的載流子輸入性的空穴輸送層10、電子輸送層11、緩沖層、或者用于減低電極制膜時的損害的層。作為這些層，可以如堿金屬涂料有機(jī)層、銅酞菁(銅7夕口、:>7二>)層、受主摻雜(7夕ir:/夕K一:7。)有機(jī)層等。一般來說，有機(jī)EL元件，會因由水分、氧氣造成的外部因素而劣化，所以為了確保長期的壽命，最好進(jìn)行密封封閉。尤其是，光散射層2的膜厚要比其它層的膜厚厚，因此容易從光散射層2的端部侵入水分、氧氣。因此，封閉面發(fā)光體時，最好在被封閉部分的內(nèi)側(cè)形成光散射層2。由此，能夠防止從光散射層2的端部侵入水分、氧氣。另外，面發(fā)光體以大面積發(fā)光時，因受加載在透明電極層7的電源下降的影響，會出現(xiàn)供電附近和發(fā)光面中心亮度不同的情況。因此，也可以在透明電極層7的上或下，形成輔助電極。作為輔助電極的材料，可以使用公知的材料。另夕卜，作為圖1A的發(fā)光體3，以通過電能發(fā)光的有機(jī)發(fā)光體的有機(jī)EL元件為例，但并非限定于此，還可以以通過電能發(fā)光的無機(jī)EL元件、通過光能發(fā)光的有機(jī)或無機(jī)的熒光體形成發(fā)光體。實(shí)施例接下來，通過實(shí)施例來具體說明本實(shí)施方式提供的面發(fā)光體裝置。另外，重量平均分子量利用GPC(凝膠滲透色譜(少V"^—；、工一、〉3歹夕口t卜夕'，74—))，使用東曹(東乂一)(抹式)制造"HLC-8120"作為測定機(jī)，用標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯(求卩義fk7)做成測量線，作為其換算值進(jìn)行測定。(實(shí)施例1)通過向四乙氧基石圭烷(亍卜，工卜矢少，>，7)86.8質(zhì)量部中加入異丙醇803.5質(zhì)量部，再加入y-曱基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷(y-乂夕夕'j口^i>7°口匕°>卜卩乂卜矢、>、二，>)34.7質(zhì)量部以及0.1N-硝酸75質(zhì)量部，利用擴(kuò)散很好地混合得到溶液。將所得到的溶液在4(TC恒溫槽中攪拌2個小時，得到作為重量平均分子量為1050的粘合形成材料的硅樹脂(〉'J:i一》k-7)質(zhì)量比為5%溶液。接著，向該硅樹脂溶液中以中空二氧化硅微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照35/30添加溶膠得到含中空二氧化硅微粒子硅樹脂溶液，該溶膠為用異丙醇將中空二氧化硅微粒子(平均粒子直徑60nm，外殼厚度10nm)的IPA分散溶膠(固態(tài)成分質(zhì)量比為20%,分散劑異丙醇，觸媒化成工業(yè)公司制)稀釋成質(zhì)量比為5%的溶膠。進(jìn)一步地，在該溶液中，以中空二氧化硅微粒子/硅鈦(，>'J力-f夕二7)復(fù)合微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照35/35/30添加溶膠得到最終的涂層材料組成物，該溶膠為用異丙醇將用硅覆蓋二氧化鈦粒子表面的硅鈦復(fù)合微粒子(平均粒子直徑10-20nm)的曱基-乙基曱酮(^工fA少卜^)分散溶膠(固態(tài)成分質(zhì)量比為20%,觸媒化成工業(yè)公司制)稀釋成質(zhì)量比5%的溶膠。另外，上述"縮合化合物換算"是指存在的Si在四烷氧硅烷(尹卜，3^-〉少，>)中作為Si02的質(zhì)量，在三甲氧基硅烷(卜卩TV"-衩少、>，>)中作為SiOl.5的質(zhì)量。在此，上述粘合形成材料硅樹脂的折射率Nb為1.40，中空二氧化硅微粒子的折射率Nf,為1.25,珪鈥微粒子的折射率Nf2為1.85，滿足Nf2>Nb>Nf,關(guān)系。另外，按照以下方式測定這些折射率。粘合形成材料是，在將上述液狀涂層材料組成物涂在透光性基板表面，干燥、薄膜化后，通過橢圓計(jì)測定薄膜的折射率。中空二氧化硅微粒子及硅鈥微粒子的各折射率是，使用液浸法測定的。具體的，使微粒子分散在各種折射率液體中，使用霧影儀測定該各種分散液體的霧度，將霧度為0時的折射率液體的折射率作為微粒子的折射率。另外，霧度值是基于JIS-K-7136，使用霧影儀(日本電色制，300A)測定的。中空二氧化硅微粒子及硅鈥;敞粒子的平均粒子直徑如上所述分別為60nm、10-2Qnm，它們的粒子直徑，使用利用激光衍射原理的粒度分布測定裝置(堀場制作所制)進(jìn)行測定。接著，作為透光性基材1，通過使用無堿玻璃板(康寧(3—-》夕')公司制"No.1737"，折射率1.51),利用勻膠機(jī)將上述涂層材料組成物以1000rpm的條件涂布在透光性基材l表面，干燥涂布的涂層材料組成物制造出覆膜，然后，將覆膜進(jìn)行以20(TC鍛燒30分鐘的熱處理，形成厚度約500rnn的光散射層2。如此得到的光散射層2的折射率為1.45，小于透光性基材1的折射率。另外，光散射層2的霧度值為3.0。接著，使用IT0(銦錫氧化物)靶材(東曹公司制)，在如上所述形成的光散射層2上進(jìn)行噴賊，形成厚度120nm、薄膜電阻15Q/口的透明電極層7,作為陽極。將該透明電極層7用丙酮(7七卜>)、純水、異丙醇進(jìn)行15分鐘超音波洗凈之后，干燥該透明電極層7，然后進(jìn)行15分鐘UV-03處理。接著，將形成有光散射層2以及透明電極層7的透光性基材1放置進(jìn)真空蒸鍍裝置中，在透明電極層7上以40nm的膜厚度形成N,N'-二苯基-N(N'-';;7工-^-N),N'-(l-萘基)-1(N'-f義(1-大7f》)-1)，1'-聯(lián)苯-4(1'-匕'7工-/卜4),4'-二胺(NPB，4'-'-T^乂)(奕瑞(eRay)公司制)，作為空穴輸送層IO。接著，在空穴輸送層10上，以60nm的膜厚度形成8-羥基喹啉鋁(A1q,7A;、-々厶-卜卩義(8-匕卜、、口《，>軒/卩》))(奕瑞公司制)，作為有機(jī)發(fā)光層8兼電子輸送層。然后，在其上以lnm的膜厚度形成LiF(高純度化學(xué)制)，作為電子注入層(或電子輸送層)11。最后，在電子注入層11上以80nm的膜厚度真空蒸鍍Al(高純度化學(xué)公司制)，形成對向電極9作為陰極，形成有機(jī)El元件作為發(fā)光體3。此后，將形成上述各層的透光性基材1，不暴露在空氣中，放置到露點(diǎn)-80。C以下的干燥氮?dú)猸h(huán)境的手套箱。另一方面，預(yù)先在玻璃制的封閉罩上粘貼吸水劑(達(dá)妮克公司制)，同時在封閉罩的外周部涂布紫外線硬化樹脂性密封劑。并且，通過在手套箱內(nèi)圍繞著有機(jī)EL元件，用密封劑將封閉罩粘合在透光性基材上，用紫外線照射使密封劑硬化，以封閉罩封閉有機(jī)EL元件(發(fā)光體)3,得到面發(fā)光體。(實(shí)施例2)為了使光散射層2的折射率小于透光性基材1的折射率，向上述實(shí)施例1中得到的硅樹脂溶液中，以固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照60/10/30添加中空二氧化硅微粒子/硅鈦復(fù)合微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)，調(diào)制涂層材料組成物，使用該涂層材料組成物，同實(shí)施例1一樣形成光散射層2。光散射層2的折射率為1.39,小于透光性基材1的折射率1.5。并且，在光散射層2上同實(shí)施例1一樣形成有機(jī)EL元件(發(fā)光體)3，得到面發(fā)光體。(實(shí)施例3)為了使光散射層2的折射率大于透光性基材1的折射率，向上述實(shí)施例1中得到的硅樹脂溶液中，以固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照60/10/30添加中空二氧化硅微粒子/硅鈥復(fù)合微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)，調(diào)制涂層材料組成物，使用該涂層材料組成物，同實(shí)施例l一樣形成光散射層2。光散射層2的折射率為1.63,大于透光性基材1的折射率1.5。并且，在光散射層2上同實(shí)施例1一樣形成有機(jī)EL元件(發(fā)光體)3，得到面發(fā)光體。(實(shí)施例4)同實(shí)施例1一樣形成光散射層2。接著，用絲網(wǎng)印刷法將熱分解型透明導(dǎo)電IT0糊(住友金屬礦山公司制)印涂在光散射層2上，以120。C干燥20分鐘后，以35(TC進(jìn)行1小時的加熱處理，形成透明電極層7作為陽極。其后，同實(shí)施例1一樣形成有機(jī)EL元件(發(fā)光體)3，得到面發(fā)光體。(比較例1)未形成光散射層2，在無堿玻璃表面同實(shí)施例1一樣形成有機(jī)EL元件(發(fā)光體)3,得到面發(fā)光體。(比較例2)向?qū)嵤├?中得到的硅樹脂溶液中，以中空二氧化硅微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照70/30添加中空二氧化硅微粒子溶膠(不添加硅鈥微粒子)，調(diào)制涂層材料組成物。使用該涂層材料組成物，同實(shí)施例1一樣形成光散射層2，然后，同實(shí)施例1一樣形成有機(jī)EL元件(發(fā)光體)3，得到面發(fā)光體。對于按照以上所述實(shí)施例1-4以及比較例l-2得到的面發(fā)光體，進(jìn)行特性評價。該特性評價，使用DC電源(吉時利(少一義k4)公司制)，將有機(jī)EL元件3內(nèi)部流動的電流固定在10mA/cm2,使用亮度計(jì)(拓普康(卜7°37)乂>司制)進(jìn)行。其結(jié)果顯示在表l中。另外，電流-電壓特性在各例中沒有發(fā)現(xiàn)大的不同。<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>從表1可知，能夠確認(rèn)各實(shí)施例1-4所得面發(fā)光體比各比較例1-2所得面發(fā)光體亮度高，光提取效率高。(實(shí)施例5)通過向四乙氧基石圭烷86.8質(zhì)量部加入異丙醇803.5質(zhì)量部，再加入Y-曱基丙蜂酰氧基丙基三甲氧基/5圭烷34.7質(zhì)量部以及0.1N-硝酸75質(zhì)量部，利用擴(kuò)散很好地混合得到溶液。將所得溶液在4(TC恒溫槽中攪拌2個小時，得到作為重量平均分子量為1050的粘合形成材料的硅樹脂質(zhì)量比為5%溶液。接著，向該硅樹脂溶液中以中空二氧化硅微粒子/二氧化鈦微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照63/7/30添加溶膠得到涂層材料組成物，該溶膠為用異丙醇將中空二氧化硅微粒子(平均粒子直徑60nm,外殼厚度10nm)的IPA分散溶膠(固態(tài)成分質(zhì)量比為20%，分散劑異丙醇，觸媒化成工業(yè)公司制)稀釋成質(zhì)量比為5%的溶膠，和用異丙醇將二氧化鈥微粒子(平均粒子直徑10nm)的甲基-乙基甲酮分散溶膠(固態(tài)成分質(zhì)量比為20%,觸媒化成工業(yè)公司制)稀釋成質(zhì)量比為5%的溶膠。在此，上述粘合形成材料硅樹脂的折射率Nb為1.48，中空二氧化硅微粒子的折射率Nf,為1.25，二氧化鈥微粒子的折射率Nt為2.00，滿足Nf2〉Nb〉Nf！關(guān)系。接著，使用無堿玻璃板(康寧公司制"No31737",折射率1.51)作為透光性基材1,通過利用勻膠機(jī)將上述涂層材料組成物以1000rpm的條件涂布在透光性基材1表面，干燥涂層材料組成物制造覆膜，將覆膜進(jìn)行以20(TC鍛燒30分鐘的熱處理，形成厚度約1000nm的光散射層2。光散射層2的折射率為1.38，小于透光性基材l的折射率。另外，光散射層2的霧度值為2.0。接著，在光散射層2上以100nm的厚度將8-羥基喹啉鋁(同仁化學(xué)研究所制"Alq3")制膜，形成熒光體薄膜作為發(fā)光層8，得到面發(fā)光體。(實(shí)施例6)向?qū)嵤├?中得到的硅樹脂溶液中，以固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照49/21/30添加中空二氧化硅微粒子/二氧化鈦微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)，調(diào)制涂層材料組成物，使用該涂層材料組成物同實(shí)施例5—樣形成光散射層2。并且，在光散射層2上同實(shí)施例5—樣形成熒光體薄膜，得到面發(fā)光體。(實(shí)施例7)向?qū)嵤├?中得到的硅樹脂溶液中，以固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照42/28/30添加中空二氧化硅微粒子/二氧化鈦微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)，調(diào)制涂層材料組成物，使用該涂層材料組成物同實(shí)施例5—樣形成光散射層2。并且，在光散射層2上同實(shí)施例5—樣形成熒光體薄膜，得到面發(fā)光體。(比較例3)除未形成光散射層2，在無堿玻璃的透光性基材1的表面直接形成熒光體薄膜外，其它同實(shí)施例5—樣，得到面發(fā)光體。(比較例4)向?qū)嵤├?中得到的硅樹脂溶液中，以中空二氧化硅《敖粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照70/30添加中空二氧化珪微粒子溶膠(不添加硅鈥微粒子)，調(diào)制涂層材料組成物。使用該涂層材料組成物，同實(shí)施例5一樣形成光散射層2，然后，同實(shí)施例5—樣形成熒光體薄膜，得到面發(fā)光體。對于按照以上所述實(shí)施例5-7以及比較例3-4得到的面發(fā)光體，向熒光體薄膜照射20W紫外線熒光燈，使用亮度計(jì)(拓普康公司制)測定透光性基材1表面的亮度。其結(jié)果顯示在表2中。另外，任何情況下都沒有發(fā)現(xiàn)熒光光譜上有顯著不同。[表2]亮度(cd/m2)實(shí)施例58.2實(shí)施例613.3實(shí)施例710.3比專交例33.9比車交例47.4從表2可知，能夠確認(rèn)各實(shí)施例5-7所得面發(fā)光體比各比較例3-4所得面發(fā)光體亮度高，光提取效率高。(第2實(shí)施方式)以下參照圖2A及2B對本發(fā)明第2實(shí)施方式提供的面發(fā)光體進(jìn)行說明。圖2A表示光散射層2的與透光性基材1相反一側(cè)表面上形成有發(fā)光體3的面發(fā)光體的構(gòu)成，圖^表示形成于光散射層2上的緩和層31的構(gòu)成。在第2實(shí)施方式中，在光散射層2和透明電極層7之間形成緩和層31。只要是使光透過的物質(zhì)，不做特別限定，均可以作為透光性基板l的材料，例如，可以使用鈉玻璃、無堿玻璃等硬質(zhì)透明基板，聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯等軟質(zhì)透明基板等。設(shè)置在該透光性基板1表面的光散射層2，可以設(shè)有使光發(fā)生散射的構(gòu)造，優(yōu)選的如上述第1實(shí)施方式將含有粒子的粘合料涂抹在透光性基板1表面而形成，也可以在透光性基板l表面成像樹脂涂層形成的物質(zhì)、通過利用噴砂器等對透光性基板1的表面進(jìn)行處理，在透光性基板1表面形成有微細(xì)凹凸的層。使光發(fā)生散射的構(gòu)造，向各方散射，或有指向性散射都是可以的，可以根據(jù)想要提取的光、角度適當(dāng)選擇該構(gòu)造。涂含有粒子的粘合料作為光散射層2時，作為該粒子，可采用透明粒子，例如可以舉例為Ti02、Si02、Zr02、A1203、Ta203、Zn02、Sb203、ZrSi04、沸石或者它們的多孔性物質(zhì)、以它們?yōu)橹饕煞值臒o機(jī)粒子、或者丙烯酸(7夕樹脂、苯乙烯(k^)樹脂、聚苯乙烯對苯二酸(水卩久fL》fl^7夕卜)樹脂、硅酮('>'J3—y)樹脂等有機(jī)粒子。為了使有效Mie散射發(fā)生，該粒子的粒徑最好在1OOnm20nm的范圍內(nèi)為宜。作為粘合料，可以列舉為聚乙烯(水卩工千I^》)、聚丙烯(水卩y口匕。k>)、聚對苯二曱酸乙二醇酯(求ij工f"l^^rl^!7夕"一卜)、聚曱基丙烯酸曱酯(水'J乂^v^少夕夕卩卜)、聚苯乙烯(才'J久f"^>)、聚醚砜樹脂(求卩工一r/"義/"于、>)、多芳基化合物(水卩7'Jk—卜)、聚碳酸酯樹脂、聚氨基曱酸乙酯(水卩々L夕乂)、丙烯酸樹脂、聚丙烯腈(水'J7*夕卩7L二卜卩乂b)、聚乙雄縮醛(水卩匕'-》7七夕一^)、聚酰胺(；K7、；K)、聚酰亞胺(水卩4S卜'、)、鄰苯二曱酸二辛酯樹脂(-7夕卩夕u—卜)、纖維素(七》口一義)系樹脂、聚氯乙蜂(求卩塩化e-A)、聚(偏二氯乙烯)(求!J塩化f-^f乂)、多乙酸乙烯酯(求卩酢酸匕'-^)、其它的熱可塑性樹脂、2種以上構(gòu)成這些樹脂的單體的異分子聚合物。另外，也可以使用由聚硅氧烷(水卩i>口軒廿>)構(gòu)成的二氧化硅多孔質(zhì)體作為粘合料。該聚硅氧烷是縮聚四乙氧基硅烷等烷氧基硅烷(7V"3，>)或者其部分水解物得到的。粘合料的折射率和光散射體粒子的折射率之差通常在0.01~2的范圍內(nèi)為宜，若該折射率差過小，則很難得到有效的Mie散射，若折射率差過大，則后方散射增大，有可能無法有效獲得光提取效率。作為將粒子匹配粘合料得到的涂層材料，涂在透光性基板1表面的方法，可以列舉為旋涂、浸涂、壓模鑄件、鑄造、噴涂、凹版印涂等。該光散射層2的膜厚度不做特別限制，但在0.1~20ium左右范圍內(nèi)為宜。另外，和上述第1實(shí)施方式的情況同樣地，最好使用2種不同折射率的微粒子形成光散射層2。而且，在透光性基板1表面形成含有這樣的2種微粒子的光散射層2之后，還可以在其上進(jìn)一步形成含有上述Mie散射用粒徑的光散射層2。按照上述任意方法形成光散射層2,光散射層2表面都會有凹凸的粗糙面。例如，以含有粒子的涂層材料形成光散射層2時，由在光散射層2表面露出的粒子產(chǎn)生凹凸。因此，如果在光散射層2表面直接形成透明電極層7，由于透明電極層7膜厚很薄，會按照沿著凹凸的形狀而形成。其結(jié)果是，會產(chǎn)生電學(xué)性問題，或者發(fā)生短路之類的。因此，在光散射層2的與透光性基材1的相反一側(cè)表面形成緩和層31,用該緩和層31填平光散射層2表面的凹凸，在緩和層31平滑的表面上形成透明電極層7。該緩和層31可以用樹脂涂層形成。作為涂層樹脂材料，只要是具有光透過性的都可以，不做特別限定。例如，可以列舉為聚酯(求'J工X亍A)、聚醚(求卩工一亍AO、聚醚酮(水y工一亍^少卜》)、聚酰亞胺、聚酰胺、聚酰亞胺-酰胺(；K'J4《卜、、7(卜、、)、環(huán)氧(工;K《、>)、聚氨基曱酸乙酯、聚氨酯-丙烯酸酯(求"J々k夕》7夕卩k一卜)、聚碳酸酯等。尤其是使用聚酰亞胺、聚酰胺-酰亞胺、環(huán)氧、聚氨基曱酸乙酯等熱硬化性樹脂為宜。將涂層樹脂涂在光散射層2表面之后，通過加熱該涂層樹脂使其硬化，形成緩和層31.緩和層31的膜厚度不做特別限定，但在1~20jum左右的范圍內(nèi)為宜。為了減低位于透明電極層7與緩和層31的界面的全反射，將更多的光導(dǎo)向光散射層2,要求形成該緩和層31的樹脂的折射率比透明電極層7的折射率高，或者，即使在形成該緩和層31的樹脂的折射率低于透明電極層7的折射率的情況下，它們的折射率之差越小越好。而且，通過涂層形成光散射層2，要求形成緩和層31的樹脂的折射率比光散射層2的折射率低，或者，即使在形成緩和層31的樹脂的折射率高于光散射層2的折射率的情況下，它們的折射率之差也越小越好。理想來說，將援和層31層內(nèi)的折射率傾斜成從透明電極層7—側(cè)向光散射層2—側(cè)逐漸升高或降低，最好在與透明電極層7的界面緩和層31的折射率與透明電極層7的折射率幾乎相同，在與光散射層2的界面緩和層31的折射率與光散射層2的折射率幾乎相同，在該情況下，緩和層31與透明電極層7、光散射層2之間沒有折射率不同的光學(xué)界面，可以消除位于界面的全反射損耗。如上所述在光散射層2表面設(shè)置緩和層n之后，在緩和層31的與光散射層2的相反一側(cè)表面形成透明電極層7。作為透明電極層7的材料，可以用不妨礙本發(fā)明效果范圍內(nèi)的任意物質(zhì)，例如，可以列舉為銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、錫氧化物、Au等金屬極薄膜，導(dǎo)電性高分子，導(dǎo)電性有機(jī)材料，含摻雜劑(供體或受體)的有機(jī)層，導(dǎo)體和導(dǎo)電性有機(jī)材料(含高分子)的混合物，或者它們的層積體等。這些透明電極層7通常采用噴'踐法、離子電鍍法等氣相沉積法形成。透明電極層7的膜厚不做特別限定，但最好在50~300nm左右為宜。當(dāng)形成透明電神及層7的時候，對電極材料進(jìn)行退火加熱處理。加熱處理是以超過硬化溫度的高溫度進(jìn)行的，該硬化溫度為使形成緩和層31的樹脂硬化的加熱溫度。若以比形成緩和層31的樹脂的硬化溫度高的溫度進(jìn)行加熱處理，則會發(fā)現(xiàn)在緩和層31中產(chǎn)生空洞(氣泡)6。產(chǎn)生空洞32的結(jié)構(gòu)未必明確，但可考慮以下內(nèi)容。即，通過以比硬化溫度高的溫度加熱形成緩和層31的樹脂，該緩和層31的樹脂進(jìn)一步硬化收縮，而緩和層31與透明電極層7貼合部分被限制收縮，因此，變成相對其它部分呈伸展的狀態(tài)，在形成緩和層31的樹脂中生成作為空隙的空洞32。因此，如圖2B所示，空洞32多數(shù)生成在緩和層31的與透明電極層7的界面附近，但在緩和層31內(nèi)部也會生成空洞32。加熱處理的條件可以是比形成緩和層31的樹脂的硬化溫度高的溫度，不做特別限定。將形成緩和層31的樹脂的硬化溫度設(shè)為rc時，將加熱溫度設(shè)定在t°c+5°c~rc+ioo°c的范圍內(nèi)為宜，另外加熱時間在10分鐘~2小時左右為宜。生成的空洞32的大小，可通過選定形成緩和層31的樹脂、選定加熱處理的條件來進(jìn)行調(diào)整，空洞32的直徑在5~300nm范圍內(nèi)為宜。若空洞32的直徑不足5nm，會使光發(fā)生散射的效果變小，另外，若空洞32的直徑超過300nm，則有可能緩和層31與透明電極層7的界面粘合性會變得不充分，有損器件的可靠性。接著，在緩和層31表面設(shè)置透明電極層7后，在透明電極層7的與緩和層31相反一側(cè)表面形成發(fā)光層8。而且，通過在發(fā)光層8的與透明電極層7相反一側(cè)表面設(shè)置對向電極9，形成由有機(jī)EL元件構(gòu)成的如圖2A所示的面發(fā)光體。作為對向電極9的材料，可以使用Al等，也可以是Al和其它電極材料組合層積的構(gòu)造等。作為這樣的電極材料的組合，可以列舉為堿金屬和Al的層積體、堿金屬和銀的層積體、i咸金屬囟化物和Al的層積體、堿金屬氧化物和Al的層積體、堿土金屬、稀土金屬和A1的層積體、它們的金屬根和其它金屬的合金等。更具體的，可以列舉為鈉、鈉鉀合金、鋰、鎂等和A1的層積體，鎂銀混合物，鎂銦混合物，鋰鋁合金，LiF/Al混合物/層積體，Al/Al20,混合物等為例。另外，與第1實(shí)施方式的情況同樣地，可以在發(fā)光層8與透明電極層7以及對向電極9之間，形成空穴輸送層、電子輸送層、緩沖層、或者用于減低電極制膜時的損害的層。在如上所述形成的面發(fā)光體中，通過在透明電極層7和對向電極9之間加載電壓使發(fā)光層8發(fā)出的光，從透明電極層7穿過緩和層31及光散射層2,進(jìn)而穿過透光性基板被提取出。此時，在緩和層31上，在與透明電極層7的界面形成空洞32,由于在透明電極層7與緩和層31的界面形成光散射構(gòu)造，因此，從透明電極層7入射到緩和層31的光在界面發(fā)生散射，可以抑制在透明電極層7與緩和層31的界面的光的全反射。另外，從緩和層31入射到光散射層2的光，由于在光散射層2發(fā)生散射，因此可以抑制在光散射層2與透光性基板1的界面的光的全反射。進(jìn)而，由于在緩和層31內(nèi)部也形成空洞32,光在緩和層31內(nèi)部也發(fā)生散射，從光散射層2到透光性基板1的入射效率變高。通過這樣抑制在各界面的全反射，可以使光從透明電極層7高效穿過緩和層31、光散射層2、透光性基板l,從透光性基板l提取光，提高在發(fā)光層8發(fā)出的光的提取效率。另外，在緩和層31表面形成透明電極層7后，通過進(jìn)行加熱處理，可以在透明電極層7與緩和層31的界面上，形成混有透明電極層7的材料和形成緩和層31的樹脂的中間層。由于中間層是透明電極層7的材料和形成緩和層31的樹脂摻雜在一起的產(chǎn)物，因此，中間層的折射率是從透明電極層7—側(cè)向緩和層31—側(cè)、和從透明電極層7的折射率向緩和層31的折射率逐漸變化、傾斜的。從而，通過在透明電極層7和緩和層31之間形成中間層，可以消除透明電極層7和緩和層31之間不同折射率的光學(xué)界面，消除位于界面的全反射損耗。當(dāng)然，通過該加熱處理，在中間層與透明電極層7的界面附近、中間層與緩和層31的界面附近、以及中間層內(nèi)部，都會生成空洞32。以下，通過實(shí)施例對第2實(shí)施方式提供的面發(fā)光體進(jìn)行具體地說明。另夕卜，重量平均分子量利用GPC(凝膠滲透色譜)，使用東曹(林式)制造"HLC-8120"作為測定機(jī)，用標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯做成測量線，作為其換算值進(jìn)行測定。(實(shí)施例8)通過向四乙氧基^圭烷86.8質(zhì)量部加入異丙醇803.5質(zhì)量部，再加入Y-曱基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷34.7質(zhì)量部以及0.1N-硝酸75質(zhì)量部，利用擴(kuò)散很好地混合得到溶液。將所得到的溶液在4(TC恒溫槽中攪拌2個小時，得到作為重量平均分子量為1050的硅樹脂質(zhì)量比為5%的溶液。接著，通過向該硅樹脂溶液中，以曱基硅酮(少f/bi>卩-一>)粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照80/20添加曱基硅酮粒子(GE東芝有機(jī)硅公司制"TOSPEARL120(微細(xì)粒徑有機(jī)珪樹脂)"平均粒子直徑2jam),用均化器使曱基硅酮粒子分散，得到甲基硅酮粒子分散硅樹脂溶液。另外，上述"縮合化合物換算"是指在四烷氧硅烷中，存在的Si作為SiO,的質(zhì)量。接著，通過使用無堿玻璃板(康寧公司制"No.1737")作為透光性基板l，利用勻膠機(jī)在1000rpm的條件下，在透光性基板1表面涂布、干燥甲基硅酮粒子分散硅樹脂溶液，反復(fù)6次進(jìn)行該涂布和干燥操作后，以20(TC鍛燒30分鐘，形成厚度約5jim的光散射層2。使用霧影儀(日本電色工業(yè)公司制"NDH-2000")測定形成光散射層2的透光性基板1的光學(xué)物理性后，霧度值為95.4，全光線透過率為73.4%。接著，通過利用勻膠機(jī)在2000rpm的條件下，在光散射層2表面涂布亞胺系樹脂涂層材料(OPTMATE公司制"HR11783",nD=l.78，質(zhì)量比濃度為18%),干燥后，以20(TC加熱30分鐘，使其硬化，形成厚度約4jum的緩和層31。接著，通過利用ITO靶材(東曹公司制)對緩和層31表面進(jìn)行噴濺，在緩和層31上形成膜厚為120nm的ITO膜。接著，通過將形成ITO膜的透光性基板1,在Ar環(huán)境下，以300。C加熱處理1小時，對IT0膜進(jìn)4于退火，形成薄膜電阻18Q/口的透明電極層7。此時，用電子顯微鏡觀察緩和層31,可看到沿著與透明電極層7的界面，形成分布密度約為20%面積的直徑5~100nm的空洞32。另外，也看到在緩和層31內(nèi)部也形成空洞32，但與形成在與透明電極層7的界面的空洞32相比分布密度要小。接著，將形成透明電極層7的透光性基板1用丙酮、純水、異丙醇進(jìn)行15分鐘超音波洗凈之后，干燥該透光性基板1,然后進(jìn)行15分鐘UV-03處理。之后，將該透光性基板1置于真空蒸鍍裝置中，在透明電極層7上以40nm的膜厚度形成N,N'-二苯基-N，N'-(1-萘基)-l，1'-聯(lián)苯-4，4'-二胺(NPB)(奕瑞公司制),作為空穴輸送層，然后在其上以60nm的膜厚度形成8-羥基查啉鋁(Alq)(奕瑞7>司制)，作為電子輸送層兼發(fā)光層8,然后在其上以lnm的膜厚度形成LiF(高純度化學(xué)制)，作為電子注入層ll。最后，在電子注入層上以80nm的膜厚進(jìn)行真空蒸鍍A1(高純度化學(xué)公司制)，形成對向電極9作為陰極。之后，將形成有上述各層的透光性基板1，不暴露在空氣中，放置到露點(diǎn)-80。C以下的干燥氮?dú)猸h(huán)境的手套箱。另一方面，預(yù)先在玻璃制的封閉罩上粘貼吸水劑(達(dá)妮克公司制)，同時在封閉罩的外周部涂布紫外線硬化樹脂性密封劑。并且，通過在手套箱內(nèi)圍繞著各層，用密封劑將封閉罩粘合在透光性基板l上，通過用紫外線照射使密封劑硬化，以封閉罩封閉各層，得到由如圖2A所表示層結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL元件構(gòu)成的面發(fā)光體。(實(shí)施例9)通過向四乙氧基硅烷86.8質(zhì)量部加入異丙醇803.5質(zhì)量部，再加入Y-曱基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷34.7質(zhì)量部以及0.lN-硝酸75質(zhì)量部，利用擴(kuò)散很好地混合得到溶液。將所得到的溶液在40。C恒溫槽中攪拌2個小時，得到重量平均分子量為1050的硅樹脂質(zhì)量比為5%的溶液。接著，向該硅樹脂溶液中以中空二氧化硅微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照35/30添加溶膠得到含中空二氧化硅微粒子的硅樹脂溶液，該溶膠為用異丙醇將中空二氧化硅微粒子(平均粒子直徑60nm,外殼厚度10nm)的IPA分散溶膠(固態(tài)成分質(zhì)量比為20%，分散劑異丙醇，觸媒化成工業(yè)公司制)稀釋成質(zhì)量比為5%的溶膠。進(jìn)一步地，在該溶液中，以中空二氧化硅^t粒子/硅鈦復(fù)合微粒子/硅樹脂(縮合化合物換算)的固態(tài)成分質(zhì)量基準(zhǔn)按照35/35/30添加溶膠得到最終的涂層材料組成物，該溶膠為用異丙醇將用硅覆蓋二氧化鈦粒子表面的硅鈦復(fù)合微粒子(平均粒子直徑10-20nm)的曱基-乙基曱酮分散溶膠(固態(tài)成分質(zhì)量比20%,觸媒化成工業(yè)公司制)稀釋成質(zhì)量比為5%的溶膠。在此，上述粘合材料硅樹脂的折射率Nb為1.40,中空二氧化硅微粒子的折射率N&為1.25，硅鈦微粒子的折射率NG為1.85,滿足Nf,Nb〉N^關(guān)系。接著，通過使用無堿玻璃板(康寧公司制"No.1737",折射率1.51)作為透光性基板1,利用勻膠機(jī)在1000rpm的條件下在透光性基板1表面涂布上述涂層材料組成物，干燥涂布的涂層材料組成物制造覆膜，然后，將覆膜進(jìn)行200。C鍛燒30分鐘的熱處理，形成厚度約500nm的光散射層2。光散射層2的折射率為1.45,小于透光性基板1的折射率。另外，光散射層2的霧度值為3.0，全光線透過率為85.7%。通過像這樣，形成厚度約500nm的光散射層2后，同實(shí)施例8—樣地，將曱基硅酮粒子分散硅樹脂溶液涂布在其上面，干燥，煅燒，形成厚度約5ym的光散射層2，然后，與實(shí)施例8同樣地，形成緩和層31、透明電極層7、發(fā)光層8、對向電極9，同時用封閉罩封閉，得到由有機(jī)EL元件構(gòu)成的面發(fā)光體。(比較例5)在透光性基板1表面直接噴濺IT0膜，以30(TC加熱處理1小時，形成退火后的透明電極層7。并且，通過在其上與實(shí)施例8同樣地形成發(fā)光層8、對向電極9的同時，用封閉罩封閉，得到由有機(jī)EL元件構(gòu)成的面發(fā)光體。(比較例6)在實(shí)施例8中，噴濺ITO膜后，以200。C加熱處理1小時，形成退火后的透明電極層7。其他步驟與實(shí)施例8相同，得到由有機(jī)EL元件構(gòu)成的面發(fā)光體。在這其中，透明電極層7的薄膜電阻與實(shí)施例8相同，但因?yàn)榧訜崽幚淼臏囟鹊?，用電子顯雀M竟觀察緩和層31，沒有發(fā)現(xiàn)緩和層31中產(chǎn)生空洞。對按照上述實(shí)施例8-9以及比較例5-6中得到的由有機(jī)EL元件構(gòu)成的面發(fā)光體的特性，使用DC電源(吉時利公司制)，將元件內(nèi)部流動的電流固定在10mA/cra2,使用亮度計(jì)(拓普康公司制)進(jìn)行評價。此時，隨著電流效率(cd/A),以每IO。的角度方位，在-180。~+180。的范圍內(nèi)測定正面亮度，算出全光束(發(fā)光效率lm/W)。將比較例5的情況作為1的相對數(shù)值在表3中表示。另夕卜，電流-電壓特性在實(shí)施例8-9以及比較例5-6中沒發(fā)現(xiàn)大的差別。另外，在發(fā)光光譜中也沒發(fā)現(xiàn)大的差別。電流效率(cd/A)發(fā)光效率(lm/W)實(shí)施例81.81.8實(shí)施例91.82.0比4交例511比4交例61.41.4從表3可知，能夠確認(rèn)實(shí)施例8-9，不用說相對實(shí)施例5,即使相對于比較例6,也提高了光提取效率。權(quán)利要求1、一種面發(fā)光體，其特征在于，包括透光性基材；和在所述透光性基材表面形成的光散射層；和在所述光散射層表面形成的、通過光或電能發(fā)光的有機(jī)或無機(jī)的發(fā)光體層；所述光散射層包括粘合料以及2種填充材料；在設(shè)所述粘合料的折射率為Nb，所述2種填充材料中一種的折射率為Nf1，另一種的折射率為Nf2時，滿足Nf2＞Nb＞Nf1的關(guān)系。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述光散射層的折射率在所述透光性基材的折射率以下。3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述光散射層的霧度值((散射光透過率/全光線透過率)xioo)在250的范圍內(nèi)。4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述2種填充材料的折射率Nf,和N"之差lNf2-叫|在0.5以上。5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述2種填充材料的平均粒子直徑分別在5~200nm的范圍內(nèi)。6、根據(jù)權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體，其特征在于，在所述2種填充材料中，其中一種填充材料的平均粒子直徑和另一種填充材料的平均粒子直徑存在2倍以上的差^直。7、根據(jù)權(quán)利要求l所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述2種填充材料中，其中一種填充材料的折射率Nf,在1.40以下。8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述發(fā)光體層是由電能激發(fā)而發(fā)光的，通過涂布法在所述光散射層表面形成透明電極。9、根據(jù)權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體，其特征在于，在所述光散射層和所述發(fā)光體層之間，依次形成用于平整所述光散射層表面粗糙度的緩和層，和透明電極層；至少在所述緩和層與所述透明電極層的界面，或者在所述界面附近形成使光發(fā)生散射的光散射構(gòu)造。10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述光散射構(gòu)造是形成在所述緩和層與所述透明電極層的界面，或者在所述界面附近的空洞。11、根據(jù)權(quán)利要求10所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述空洞還形成在所述緩和層的層內(nèi)部。12、根據(jù)權(quán)利要求10所述的面發(fā)光體，其特征在于，所述空洞直徑為5-300nm。全文摘要面發(fā)光體包括透光性基材(1)，和形成在透光性基材(1)表面的光散射層(2)，和形成在光散射層(2)表面的、通過光或電能發(fā)光的、有機(jī)或無機(jī)的發(fā)光體(3)；在所述面發(fā)光體中，提高光到外部的提取效率。光散射層(2)包含粘合料(4)以及2種填充材料(5，6)；在設(shè)粘合料(4)的折射率為Nb，2種填充材料(5，6)中一種的折射率為Nf₁，另一種的折射率為Nf₂時，滿足Nf₂＞Nb＞Nf₁的關(guān)系。由于光散射層(2)包含2種填充材料(5，6)，因此從光散射層(2)射向透光性基材(1)時的臨界角發(fā)生變化，到透光性基材(1)的光入射率變高，光到外部的提取效率變得更高。文檔編號H05B33/02GK101647316SQ200880010419公開日2010年2月10日申請日期2008年3月31日優(yōu)先權(quán)日2007年3月30日發(fā)明者井出伸弘,伊藤宜弘,山木健之,河野謙司申請人:松下電工株式會社