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      電子裝置外殼及其制作方法

      文檔序號(hào):8204162閱讀:408來(lái)源:國(guó)知局
      專(zhuān)利名稱(chēng):電子裝置外殼及其制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種電子裝置外殼,尤其涉及一種具圖案顯示的電子裝置外殼及其制 作方法。
      背景技術(shù)
      隨著無(wú)線通信與信息處理技術(shù)的發(fā)展,移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)碼助理(personal digital assistant,PDA)等便攜式電子裝置競(jìng)相涌現(xiàn),令消費(fèi)者可隨時(shí)隨地充分享受高科 技帶來(lái)的種種便利。為增加所述便攜式電子裝置的使用個(gè)性,越來(lái)越多的便攜式電子裝置 的外殼開(kāi)始采用具圖形顯示的外殼?,F(xiàn)有的便攜式電子裝置外殼上的圖形大多直接制作在殼體外表面,比如通過(guò)將圖 案直接印刷在殼體上,或者通過(guò)陽(yáng)極氧化等方式在殼體表面上形成彩色圖案。這種殼體雖 然在一定程度上改善了便攜式電子裝置外殼視覺(jué)上的單調(diào)性,但是,通過(guò)上述方法在殼體 上形成的圖案是固定不變的,當(dāng)使用者使用時(shí)間長(zhǎng)了,可能會(huì)覺(jué)得其缺乏趣味性而覺(jué)得乏 味。

      發(fā)明內(nèi)容
      有鑒于此,有必要提供一種具有圖案顯示的、趣味性強(qiáng)的電子裝置外殼。另外,有必要提供一種上述電子裝置外殼的制作方法。一種電子裝置外殼,其包括一基體及一不透光的遮蔽層,該基體包括一內(nèi)表面及 與該內(nèi)表面相對(duì)的外表面,該內(nèi)表面一側(cè)形成有若干凹槽,所述凹槽具有所需圖案的造型, 該基體由透光材質(zhì)制成,該透光材料主要由重量百分含量為70 % 80 %的氧化鋁、10 % 20 %的氧化硅、5 % 10 %的氧化鉻及0. 3 % 0. 6 %的氮化硅組成,該遮蔽層形成于該內(nèi) 表面除所述凹槽以外的區(qū)域。一種電子裝置外殼的制作方法,其包括如下步驟按重量百分含量分別為70% 80%、10% 20%、5% 10%及0. 3% 0. 6%例 配制氧化鋁、氧化硅、氧化鉻及氮化硅的粉末混合料;將所述粉末混合料與粘結(jié)劑混合均勻得到膏狀混合料;將該膏狀混合料進(jìn)行造粒處理;將該造粒后的膏狀混合料注入一模具內(nèi)形成一生坯,該生坯包括一內(nèi)表面及與內(nèi) 表面相對(duì)的外表面,該內(nèi)表面上形成有若干凹槽,所述凹槽具有所需圖案的造型;對(duì)生坯進(jìn)行脫脂處理,以去除該粘結(jié)劑得到一脫脂坯;對(duì)該脫脂胚進(jìn)行燒結(jié)獲得一基體;于該內(nèi)表面除所述凹槽以外的區(qū)域形成一不透光的遮蔽層。相較于現(xiàn)有技術(shù),所述電子裝置外殼通過(guò)采用透光材質(zhì)制作基體,并在基體的內(nèi) 表面上一體成型具有所需圖案的凹槽,配合該遮蔽層對(duì)該內(nèi)表面除所述凹槽以外的區(qū)域進(jìn) 行遮蔽,使該凹槽形成的圖案在使用該外殼的電子裝置處于不同工作狀態(tài)下或隱或現(xiàn),從而得到所述個(gè)性化、使用趣味性強(qiáng)的電子裝置外殼。


      圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例電子裝置外殼的剖面示意圖。
      具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1,本發(fā)明較佳實(shí)施例的電子裝置外殼30包括一透光的基體31及一不透 光的遮蔽層33?;w31包括一外表面311及一與該外表面311相對(duì)的內(nèi)表面312。內(nèi)表面312 一側(cè)形成有若干凹槽314,所述凹槽314具有所需圖案(如商標(biāo)圖案、標(biāo)志圖案、來(lái)電顯示 圖案及短消息提示圖案等)的造型?;w31由透光材料制成,該透光材料主要由氧化鋁 (Al2O3)、氧化硅(SiO2)、氧化鉻(Cr2O3)及氮化硅(Si3N4)組成,其中氧化鋁的重量百分含量 大約為70% 80%,較佳含量為76. 5% ;氧化硅的重量百分含量大約為10% 20%,較佳 含量為16. 3% ;氧化鉻的重量百分含量大約5% 10%,較佳含量為6. 7% ;氮化硅的重量 百分含量大約為0. 3% 0. 6%,較佳含量為0. 5%。該透光材料中還可添加有顏料,以使電 子裝置外殼30具有所需的顏色。所述顏料的種類(lèi)及含量視需求而定。遮蔽層33直接形成于基體31的內(nèi)表面312上。遮蔽層33遮蔽內(nèi)表面312除所 述凹槽314以外的區(qū)域,以使基體10除凹槽314以外的區(qū)域均不透光。該遮蔽層33可以 為一不透光的油墨層或不透光的油漆層。所述電子裝置外殼30裝設(shè)于一便攜式電子裝置(圖未示)上,該便攜式電子裝置 可于凹槽314下方位置處對(duì)應(yīng)裝設(shè)一背光燈(圖未示),在使用過(guò)程中,當(dāng)所述背光燈未被 點(diǎn)亮?xí)r,凹槽314隱藏于電子裝置外殼30內(nèi)部;當(dāng)所述背光燈被點(diǎn)亮?xí)r,光線可透過(guò)所述凹 槽314,使用者可以透過(guò)該可透光的基體31看到凹槽314組成的圖案,增強(qiáng)了該便攜式電子 裝置使用過(guò)程中的使用性能,滿(mǎn)足了用戶(hù)的個(gè)性化需求。上述電子裝置外殼30的制作方法,包括如下步驟按一定比例配制氧化鋁、氧化硅、氧化鉻及氮化硅的粉末混合料,使粉末混合料中 氧化鋁的重量百分含量大約為70% 80%,較佳含量為76. 5% ;氧化硅的重量百分含量大 約為10% 20%,較佳含量為16.3% ;氧化鉻的重量百分含量大約5% 10%,較佳含量 為6. 7% ;氮化硅的重量百分含量大約為0. 3% 0. 6%,較佳含量為0. 5%。將所述粉末混合料與適量粘結(jié)劑混合均勻得到膏狀混合料。所述粘結(jié)劑可以由聚 醛樹(shù)脂和起穩(wěn)定作用的添加劑組成,該粘結(jié)劑的含量為膠狀混料總重量的5% 13%。然后將該膏狀混合料采用如噴霧造粒法進(jìn)行造粒處理,使其呈現(xiàn)圓球狀,以利于 提高粉體流動(dòng)性便于后續(xù)注射成型中自動(dòng)充填模壁。將該造粒后的膏狀混合料以20 200MPa的壓力高速注入一 95 105°C左右的模 具內(nèi),形成一生坯。該生坯具有與所述基體31相同的結(jié)構(gòu)。對(duì)該生坯進(jìn)行脫脂處理,以去除該粘結(jié)劑得到一脫脂坯。所述脫脂處理可采用催 化脫脂方法。對(duì)該脫脂胚于1000 1200°C下進(jìn)行燒結(jié)獲得一基體31。本實(shí)施例的燒結(jié)溫度為 1100°C 左右。
      于基體31的內(nèi)表面312除所述凹槽314以外的區(qū)域形成一遮蔽層33。所述電子裝置外殼30通過(guò)采用透光材質(zhì)制作基體31,并在基體31的內(nèi)表面312 上一體成型具有所需圖案的凹槽314,配合遮蔽層33對(duì)內(nèi)表面312除所述凹槽314以外的 區(qū)域進(jìn)行遮蔽,使該凹槽314形成的圖案在使用該外殼的電子裝置處于不同工作狀態(tài)下或 隱或現(xiàn),從而得到所述個(gè)性化、美觀的電子裝置外殼30。
      權(quán)利要求
      1.一種電子裝置外殼,其包括一基體及一不透光的遮蔽層,該基體包括一內(nèi)表面及與 該內(nèi)表面相對(duì)的外表面,其特征在于該內(nèi)表面一側(cè)形成有若干凹槽,所述凹槽具有所需圖 案的造型,該基體由透光材質(zhì)制成,該透光材料主要由重量百分含量為70% 80%的氧化 鋁、10 % 20 %的氧化硅、5 % 10 %的氧化鉻及0. 3 % 0. 6 %的氮化硅組成,該遮蔽層形 成于該內(nèi)表面除所述凹槽以外的區(qū)域。
      2.如權(quán)利要求1所述的電子裝置外殼,其特征在于該氧化鋁的重量百分含量為 76. 5% ;氧化硅的重量百分含量為16. 3% ;氧化鉻的重量百分含量為6. 7% ;氮化硅的重量 百分含量為0.5%。
      3.如權(quán)利要求1所述的電子裝置外殼,其特征在于該透光材料中還添加有顏料。
      4.如權(quán)利要求1所述的電子裝置外殼,其特征在于該遮蔽層為一不透光的油墨層或 不透光的油漆層。
      5.一種電子裝置外殼的制作方法,包括如下步驟按重量百分含量分別為70% 80%、10% 20%、5% 10%及0. 3% 0.6%配制氧 化鋁、氧化硅、氧化鉻及氮化硅的粉末混合料;將所述粉末混合料與粘結(jié)劑混合均勻得到膏狀混合料;對(duì)該膏狀混合料進(jìn)行造粒處理;將該造粒后的膏狀混合料注入一模具內(nèi)形成一生坯,該生坯包括一內(nèi)表面及與內(nèi)表面 相對(duì)的外表面,該內(nèi)表面上形成有若干凹槽,所述凹槽具有所需圖案的造型;對(duì)生坯進(jìn)行脫脂處理,以去除該粘結(jié)劑得到一脫脂坯;對(duì)該脫脂胚進(jìn)行燒結(jié)獲得一基體;于該內(nèi)表面除所述凹槽以外的區(qū)域形成一不透光的遮蔽層。
      6.如權(quán)利要求5所述的電子裝置外殼的制作方法,其特征在于該氧化鋁的重量百分 含量為76. 5% ;氧化硅的重量百分含量為16. 3% ;氧化鉻的重量百分含量為6. 7% ;氮化硅 的重量百分含量為0.5%。
      7.如權(quán)利要求5所述的電子裝置外殼的制作方法,其特征在于該透光材料中還添加 有顏料。
      8.如權(quán)利要求5所述的電子裝置外殼的制作方法,其特征在于該遮蔽層為一不透光 的油墨層或不透光的油漆層。
      9.如權(quán)利要求5所述的電子裝置外殼的制作方法,其特征在于該生坯成型步驟中,該 造粒后的膏狀混合料注入該模具的壓力為20 200MPa,該模具的溫度為95 105°C。
      10.如權(quán)利要求5所述的電子裝置外殼的制作方法,其特征在于所述燒結(jié)溫度為 1000 1200°C。
      全文摘要
      本發(fā)明提供一種電子裝置外殼,其包括一基體及一不透光的遮蔽層,該基體包括一內(nèi)表面及與該內(nèi)表面相對(duì)的外表面,其特征在于該內(nèi)表面一側(cè)形成有若干凹槽,所述凹槽具有所需圖案的造型,該基體由透光材質(zhì)制成,該透光材料主要由重量百分含量為70%~80%的氧化鋁、10%~20%的氧化硅、5%~10%的氧化鉻及0.3%~0.6%的氮化硅組成,該遮蔽層形成于該內(nèi)表面除所述凹槽以外的區(qū)域。本發(fā)明還提供一種上述電子裝置外殼的制作方法。
      文檔編號(hào)H05K5/00GK102076186SQ20091031013
      公開(kāi)日2011年5月25日 申請(qǐng)日期2009年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月20日
      發(fā)明者劉友利, 劉月平, 蘇向榮, 賴(lài)文德 申請(qǐng)人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司
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