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      頂側(cè)分開控制的多晶硅鑄錠爐加熱裝置的制作方法

      文檔序號:8045108閱讀:394來源:國知局
      專利名稱:頂側(cè)分開控制的多晶硅鑄錠爐加熱裝置的制作方法
      頂側(cè)分開控制的多晶硅鑄錠爐加熱裝置
      技 術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及多晶硅鑄錠爐的制造技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種頂側(cè)分開控制的多晶硅 鑄錠爐加熱裝置,適用于制造大尺寸高品質(zhì)的多晶硅錠。
      背景技術(shù)
      太陽能是人類取之不盡用之不竭的可再生清潔能源,在太陽能的有效利用中,太 陽能光伏發(fā)電無疑是最主要、最有活力的研究領(lǐng)域,并由此研制和開發(fā)了太陽能電池。太陽 能電池主要以硅為原料,硅是自然界常見的一種化學(xué)元素,純凈的硅熔點(diǎn)為1414°C,用于太 陽能級多晶硅純度一般在99. 99%以上。多晶硅鑄錠爐是一種專業(yè)的硅重熔設(shè)備,用于生產(chǎn)合格的太陽能級多晶硅鑄錠。 鑄錠生產(chǎn)是先將符合要求的多晶硅原料裝入爐中,而后按照工藝設(shè)定進(jìn)行加熱、熔化、長 晶、退火、冷卻等各個(gè)步驟,最終將多晶硅錠取出的過程。多晶硅鑄錠爐的生產(chǎn)過程中,能否 有效地控制多晶硅鑄錠爐內(nèi)溫度梯度,將決定生產(chǎn)出的多晶硅錠品質(zhì)。鑄造多晶硅內(nèi)部存在大量的晶界,潔凈的晶界呈非電活性,對少數(shù)載流子壽命并 無影響或只有微小影響,而雜質(zhì)的偏聚或沉淀會改變晶界的電活性,會顯著降低少數(shù)載流 子壽命,晶界越多,影響越大;但是研究表明,如果晶界垂直于器件表面,則晶界對材料電化 學(xué)性能幾乎沒有影響。而現(xiàn)有單電源結(jié)構(gòu)的多晶硅鑄錠爐由于結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上的不足,難以解 決結(jié)晶面不水平的問題。本專利即在解決此結(jié)晶面水平問題。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是,克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種頂側(cè)分開控制的 多晶硅鑄錠爐加熱裝置。為解決技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種頂側(cè)分開控制的多晶硅鑄錠爐加熱裝置,包 括內(nèi)部裝有隔熱籠體的爐室,隔熱籠體上下分別設(shè)置頂部保溫板和下保溫層,外敷坩堝護(hù) 板的坩堝位于隔熱籠體中;該加熱裝置有兩個(gè)加熱器其中一個(gè)為頂部加熱器,設(shè)于坩堝 的上方;另一個(gè)為側(cè)部加熱器,環(huán)設(shè)于坩堝護(hù)板四周。本發(fā)明中,所述頂部加熱器經(jīng)頂部加熱器電極與頂加熱器變壓器相連;側(cè)部加熱 器經(jīng)側(cè)加熱器電極與側(cè)加熱器變壓器相連。本發(fā)明中,所述頂部加熱器固定于頂部加熱器電極上,側(cè)部加熱器固定于側(cè)加熱 器電極上。本發(fā)明中,隔熱籠體、頂部保溫板及下保溫層組成一個(gè)封閉的熱場腔室。頂部加熱 器、側(cè)部加熱器由各自的變壓器供電進(jìn)行加熱,控制變壓器的輸出就能控制各加熱器產(chǎn)生 的熱量,進(jìn)而改善熱場內(nèi)溫度梯度的分布。本發(fā)明的有益效果在于
      可以在長晶過程中對熱場內(nèi)溫度進(jìn)行控制,通過單獨(dú)控制頂、側(cè)加熱器的輸出功率,合 理分配頂側(cè)加熱器功率之比,即可在結(jié)晶過程中形成一個(gè)垂直的溫度梯度。并根據(jù)需要優(yōu)化頂側(cè)加熱功率的配比,從而可使硅的結(jié)晶凝固得到有效的控制,進(jìn)而加快長晶效率,降低 能耗,提高硅錠品質(zhì)。本發(fā)明在實(shí)際應(yīng)用中測試,不僅能生產(chǎn)出高品質(zhì)的多晶硅錠,也能縮短整個(gè)工藝 時(shí)間,減少結(jié)晶過程中的耗能。本發(fā)明的 設(shè)計(jì)合理、能夠有效改善多晶硅晶向,降低能耗、增大晶粒、減少晶界,從 而提高多晶硅錠品質(zhì)。


      圖1是本發(fā)明整體結(jié)構(gòu)剖視圖。圖中的附圖標(biāo)記為1頂加熱器變壓器、2頂加熱器電極、3頂部保溫層、4頂加熱 器、5側(cè)加熱器、6隔熱籠體、7坩堝護(hù)板、8支撐柱、9下保溫層、10側(cè)加熱器變壓器、11側(cè) 加熱器電極、12爐體、13坩堝、14散熱塊。圖2單電源和雙電源長晶速度對比圖。圖3晶體高度隨晶體生長時(shí)間變化對比圖。圖4加熱器功率隨時(shí)間變化圖。圖5單電源的晶體生長界面形狀。圖6雙電源的晶體生長界面形狀。
      具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。本實(shí)施例中,頂側(cè)分開控制的多晶硅鑄錠爐加熱裝置包括爐室12,置于爐室12內(nèi) 的隔熱籠體6,懸掛于電極上的頂部保溫板3,固定于頂部加熱器電極2上的頂部加熱器4, 連接于頂部加熱器電極2上的頂加熱器變壓器1,固定于側(cè)加熱器電極11上的側(cè)部加熱器 5,連接于側(cè)部加熱器電極11上的側(cè)加熱器變壓器10,位于熱場加熱器內(nèi)部的坩堝13及坩 堝護(hù)板7,置于石墨支撐柱8上的下保溫層9及散熱塊14等構(gòu)成。以下結(jié)合多晶硅生產(chǎn)流程對本發(fā)明作進(jìn)一步的描述
      實(shí)際生產(chǎn)時(shí),頂側(cè)加熱器得到供電后產(chǎn)生大量的熱量,將坩堝13中的多晶硅料熔化, 熔化完成后,進(jìn)入長晶階段。隔熱籠體6按一定的速度緩緩提起,散熱塊7暴露出來后,大 量的熱會通過散熱塊7輻射到爐室12上,于是坩堝13底部溫度下降,溶液開始結(jié)晶。在長 晶中后期,由于晶體增多,液體減少,散熱塊7散失熱量效果減弱,坩堝四壁處靠近側(cè)加熱 器5,溫度相對坩堝中心處較高,結(jié)晶速度較慢,因而長晶界面為“凸”字形。最終,中心處先 長晶完成并透頂,隨后再進(jìn)行數(shù)小時(shí)的邊角長晶工序方能使整個(gè)硅錠表面平整。采用本發(fā)明的裝置,可以在長晶中后期,逐步減小側(cè)加熱器5的功率,降低邊角處 的溫度,使之與中心處溫度相近,進(jìn)而使結(jié)晶面趨于水平,確保晶體質(zhì)量;同時(shí)附帶縮短了 邊角長晶時(shí)間,最終改善晶向,提高效率和降低耗能。實(shí)例
      本實(shí)施例中,單電源是指現(xiàn)有技術(shù)中使用單路電源給加熱器供電的情況;雙電源是指 本發(fā)明中使用兩路電源分別給兩個(gè)加熱器供電的情況。采用本專利描述的多晶鑄錠爐裝置及工藝,裝料480kg,分別采用單電源和雙電源設(shè)備加熱兩種模式進(jìn)行晶體生長,對比兩種技術(shù)對長晶速度、晶體質(zhì)量和能耗的影響。由圖2可見,長晶過程的最起始2 6小時(shí)以內(nèi),單電源設(shè)備長晶速度高于雙電 源,但在晶體生長開始6小時(shí)以后,雙電源設(shè)備內(nèi)的晶體生長速度始終高于單電源,最終雙 電源設(shè)備相比單電源設(shè)備提前約3小時(shí)完成晶體生長。如圖3所示,是兩種設(shè)備長晶過程中晶體高度隨晶體生長時(shí)間的變化對比。晶體 生長的初始階段,由于雙電源設(shè)備內(nèi)晶體生長速度略低,所以晶體高度也略低,隨后期晶體 生長速度超過單電源,雙電源設(shè)備內(nèi)晶體高度明顯超過單電源,最終較早的完成了長晶過 程。如圖4所示是加熱器功率隨時(shí)間變化曲線。長晶前半段時(shí)間內(nèi),雙電源設(shè)備功率 略高于單電源設(shè)備,但進(jìn)入后半段,雙電源功率迅速下降,且加熱功率大幅度低于單電源長 晶過程。通過計(jì)算機(jī)模擬,分析了使用單/雙電源長晶過程的晶體生長界面形狀。如圖5, 單電源長晶后期,側(cè)加熱器不能關(guān)閉,造成晶體側(cè)面熱量輸入較多,靠近側(cè)壁的晶體生長緩 慢,生長界面明顯項(xiàng)中心突出。在圖6中,由于采用了雙加熱器,長晶后期側(cè)加熱器關(guān)閉,僅 剩頂部加熱器加熱,晶體內(nèi)的熱量主要沿豎直方向傳輸,生長界面較平坦。通過對由單電源和雙電源設(shè)備中生長出的多晶鑄錠進(jìn)行剖面處理,可以清楚的看 出,雙電源設(shè)備中生長出的多晶鑄錠的晶粒更規(guī)則的沿豎直方向生長,有利于提高最終晶 體收率和轉(zhuǎn)化效率。通過以上對比,可以總結(jié)出雙電源多晶鑄錠設(shè)備相對于單電源鑄錠設(shè)備的優(yōu)勢
      (1)晶體生長速度提高,縮短長晶時(shí)間;
      (2)加熱器功率總功率降低,且由于其晶體生長時(shí)間縮短,能耗顯著降低;
      (3)雙電源使晶體生長界面更加平坦,晶粒垂直度更好且有利于其長大,晶體質(zhì)量提
      尚ο
      權(quán)利要求
      1.頂側(cè)分開控制的多晶硅鑄錠爐加熱裝置,包括內(nèi)部裝有隔熱籠體的爐室,隔熱籠體 上下分別設(shè)置頂部保溫板和下保溫層,外敷坩堝護(hù)板的坩堝位于隔熱籠體中;其特征在于, 該加熱裝置具有兩個(gè)加熱器其中一個(gè)為頂部加熱器,設(shè)于坩堝的上方;另一個(gè)為側(cè)部加 熱器,環(huán)設(shè)于坩堝護(hù)板四周。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅鑄錠爐加熱裝置,其特征在于,所述頂部加熱器經(jīng)頂 部加熱器電極與頂加熱器變壓器相連;側(cè)部加熱器經(jīng)側(cè)加熱器電極與側(cè)加熱器變壓器相 連。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多晶硅鑄錠爐加熱裝置,其特征在于,所述頂部加熱器固 定于頂部加熱器電極上,側(cè)部加熱器固定于側(cè)加熱器電極上。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及多晶硅鑄錠爐的制造技術(shù)領(lǐng)域,旨在提供一種頂側(cè)分開控制的多晶硅鑄錠爐加熱裝置。該裝置包括內(nèi)部裝有隔熱籠體的爐室,隔熱籠體上下分別設(shè)置頂部保溫板和下保溫層,外敷坩堝護(hù)板的坩堝位于隔熱籠體中;該加熱裝置具有兩個(gè)加熱器其中一個(gè)為頂部加熱器,設(shè)于坩堝的上方;另一個(gè)為側(cè)部加熱器,環(huán)設(shè)于坩堝護(hù)板四周。本發(fā)明可在長晶過程中對熱場內(nèi)溫度進(jìn)行控制,根據(jù)需要優(yōu)化頂側(cè)加熱功率的配比,從而可使硅的結(jié)晶凝固得到有效的控制,進(jìn)而加快長晶效率,降低能耗,提高硅錠品質(zhì)。本發(fā)明的設(shè)計(jì)合理、能夠有效改善多晶硅晶向,降低能耗、增大晶粒、減少晶界,從而提高多晶硅錠品質(zhì)。
      文檔編號C30B29/06GK102140673SQ20111007074
      公開日2011年8月3日 申請日期2011年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月23日
      發(fā)明者傅林堅(jiān), 葉欣, 曹建偉, 石剛, 邱敏秀, 高宇 申請人:上虞晶信機(jī)電科技有限公司, 浙江晶盛機(jī)電股份有限公司
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