專利名稱：一種電子產(chǎn)品殼體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子產(chǎn)品殼體及其制造方法，具體涉及一種具有金屬效果并且色彩漸變的電子產(chǎn)品殼體及其制造方法。
背景技術(shù)：
隨著電子產(chǎn)品的普及，單一色澤的殼體無法滿足人們對(duì)個(gè)性化美觀的需求，因此諸如多彩和金屬質(zhì)感效果的殼體備受青睞。為獲得金屬、多彩效果，現(xiàn)在的電子產(chǎn)品多使用電鍍、噴涂等工藝實(shí)現(xiàn)。普通電鍍工藝中含有諸多有毒化學(xué)物質(zhì)，造成排污處理成本較高，若處理不當(dāng)則會(huì)嚴(yán)重污染環(huán)境，而噴涂則無法實(shí)現(xiàn)多彩同時(shí)具備金屬質(zhì)感的效果。 現(xiàn)有技術(shù)的一種殼體制造方法，包括基體、底漆層、真空鍍膜層、中漆層、面漆層。其方法中在真空鍍膜層上先涂覆中漆層再進(jìn)行激光雕刻，導(dǎo)致雕刻所產(chǎn)生的雜質(zhì)、渣滓無法排出，因而只能使用激光雕刻痕形成圖案。同時(shí)，中漆層必須使用無色透明油漆才可達(dá)到相應(yīng)效果，如采用有色中漆層則很難實(shí)現(xiàn)激光雕刻。并且，真空鍍膜層在整個(gè)基體表面，有些工藝無法實(shí)現(xiàn)漸變金屬質(zhì)感效果；有些工藝實(shí)現(xiàn)漸變效果需要通過噴涂噴兩次底漆，效果不好，良率低，且工藝復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決現(xiàn)有電子產(chǎn)品殼體不能實(shí)現(xiàn)既有金屬質(zhì)感又具有色彩漸變效果的問題，從而提供了一種金屬效果并且色彩漸變的電子產(chǎn)品殼體及其制造方法。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案
一種電子產(chǎn)品殼體，其包括一基體，該電子產(chǎn)品殼體還包括形成于該基體表面具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層、形成于該真空鍍膜層上的中漆層；所述真空鍍膜層上形成有圖案。本發(fā)明還提供一種電子產(chǎn)品殼體的制造方法，包括如下步驟步驟一提供一基體，并對(duì)該基體進(jìn)行表面去污處理；步驟二 在該基體表面鍍覆一具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層；步驟三激光雕刻該真空鍍膜層形成圖案，并且做去污處理；步驟四在該真空鍍膜層上形成中漆層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下有益效果本發(fā)明提供的一種電子產(chǎn)品殼體及其制造方法，在激光雕刻真空鍍膜層后才形成中漆層，可以在激光雕刻后進(jìn)行去污處理，并且真空鍍膜層由中心到周圍色彩漸變，滿足人們對(duì)色彩的需求。


圖I是本發(fā)明實(shí)施例電子產(chǎn)品殼體截面示意圖。圖2是本發(fā)明實(shí)施例邊緣遮蓋治具截面示意圖。圖3是本發(fā)明實(shí)施例電子產(chǎn)品殼體的制造方法步驟流程圖。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明所解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。圖I是本發(fā)明實(shí)施例電子產(chǎn)品殼體截面示意圖；公開了一種電子產(chǎn)品殼體，其包括一基體110，該電子產(chǎn)品殼體還包括形成于該基體110表面具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層130、形成于該真空鍍膜層130上的中漆層140 ;所述真空鍍膜層130上形成有圖案。該結(jié)構(gòu)是在激光雕刻真空鍍膜層后才形成中漆層，可以在激光雕刻后進(jìn)行去污處理，并且真空鍍膜層由中心到周圍色彩漸變，滿足人們對(duì)色彩的需求。本發(fā)明實(shí)施例的基體110可以是PC、ABS樹脂或PC+玻璃纖維、PA+玻璃纖維、PC+ABC等塑料基體；也可以使用鋁、鋅、鎂合金或不銹鋼等金屬基體。在本實(shí)施例中，在基體110和真空鍍膜層130之間還設(shè)置有底漆層120。該底漆層120為UV光固化漆。該底漆層120可增加素材基體與鍍膜層的粘著力，并增加基體110的平滑度，使電子產(chǎn)品殼體可以 更好體現(xiàn)金屬光澤性。在中漆層140上還設(shè)置有面漆層150。該面漆層150為UV光固化漆，對(duì)真空鍍膜層130提供防刮、防腐蝕等保護(hù)功能，且可以實(shí)現(xiàn)高光、中光和亞光等多種外觀效果。本發(fā)明實(shí)施例真空鍍膜層130的材料可為金屬材料，如銦、錫、鋁、鈦、鉻、金、釩、不銹鋼或銦錫合金中的任一種，或碳化鈦、氮化鈦、氧化鈦、二氧化硅或氧化鋁等具有金屬外觀的非金屬中任一種。該真空鍍膜為漸變真空鍍膜，金屬質(zhì)感逐漸向產(chǎn)品四周減弱。部分膜層通過激光雕刻去除，留下的鍍膜層形成所需圖案，可以是鏤空?qǐng)D案。由于鍍膜采用特殊漸變鍍膜工藝，此金屬效果圖案與基體不會(huì)有明顯的分界線，因此不會(huì)感覺很突兀，并且可以實(shí)現(xiàn)任意大小及任意形狀的金屬效果圖案。漸變效果是加裝邊緣遮蓋治具，直接通過PVD (Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)形成,工藝簡(jiǎn)單,效果優(yōu)良。圖2是本發(fā)明實(shí)施例邊緣遮蓋治具截面示意圖；該邊緣遮蓋治具由底座2與上蓋I構(gòu)成，上蓋I與底座2采用可拆卸的卡扣式連接。底座2上設(shè)計(jì)有與電子產(chǎn)品殼體卡扣對(duì)應(yīng)的扣位，上蓋I中間部位鏤空，可根據(jù)產(chǎn)品需要來調(diào)節(jié)鏤空部位的大小。鍍膜時(shí)，將需要鍍膜的電子產(chǎn)品殼體3扣在治具底座上，再蓋上上蓋，然后將治具裝到掛具(五爪/四爪)上，進(jìn)入PVD爐進(jìn)行鍍膜。鍍膜時(shí)，金屬靶材蒸發(fā)后從治具上蓋的鏤空部位進(jìn)入并沉積在產(chǎn)品表面上，由于上蓋周圈遮蔽，且上蓋與產(chǎn)品間有一定的間隙(I飛mm)，鏤空部位可沉積金屬，遮蔽的部位則無法沉積，其交界部位金屬沉積不均勻，由厚到薄，呈漸變狀，因而實(shí)現(xiàn)漸變金屬化真空鍍膜。做完鍍膜之后，僅需拿掉治具上蓋，就可進(jìn)行下一步工序，如鐳雕及中漆、面漆噴涂等。本實(shí)施例的中漆層140噴涂于該真空鍍膜層130表面。該中漆層140為I3U熱固化漆?？梢詾闊o色透明或彩色半透明。無色情況下的光透過率較高，產(chǎn)品具有較強(qiáng)的金屬效果；如果加入彩色色漿(如藍(lán)色、紅色、紫色等等)則可實(shí)現(xiàn)彩色金屬效果，彩色半透明時(shí)的透明度為60%-90%，使基體獲得類似于陽極氧化的多種色彩及深淺度的金屬圖案效果。本發(fā)明還提供一種電子產(chǎn)品殼體的制造方法，包括如下步驟步驟一提供一基體，并對(duì)該基體進(jìn)行表面去污處理；步驟二 在該基體表面鍍覆一具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層；步驟三激光雕刻該真空鍍膜層形成圖案，并且做去污處理；步驟四在該真空鍍膜層上形成中漆層。本發(fā)明在激光雕刻真空鍍膜層后才形成中漆層，可以在激光雕刻后進(jìn)行去污處理，并且真空鍍膜層由中心到周圍色彩漸變，滿足人們對(duì)色彩的需求。以下詳述各步驟工藝過程
步驟一提供一基體，并對(duì)該基體進(jìn)行表面去污處理；該基體110是塑料也可以使用金屬。該基體110可以是PC、ABS樹脂或PC+玻璃纖維、PA+玻璃纖維、PC+ABC等塑料基體；也可以使用鋁、鋅、鎂合金或不銹鋼等金屬基體。并對(duì)基體進(jìn)行表面去污除塵處理。步驟二 在該基體表面鍍覆一具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層；有些實(shí)施例可以將圖2所示的邊緣遮蓋治具加裝在步驟一所述的基體上，并在上述基體上鍍覆具有金屬質(zhì)感的真空鍍膜層。
在步驟一之后還包括步驟A :在去污處理后的基體表面形成一底漆層，并使其固化；該底漆層120為UV光固化漆。該底漆層120可增加素材基體與鍍膜層的粘著力，并增加基體110的平滑度，使電子產(chǎn)品殼體可以更好體現(xiàn)金屬光澤性。本實(shí)施例中可以將圖2所示的邊緣遮蓋治具加裝在上述涂覆了底漆層120的基體110上，在將上述裝在邊緣遮蓋治具中的涂覆底漆層120的基體110上鍍覆真空鍍膜層130。該真空鍍膜層130的材料為銦、錫、鋁、鈦、鉻、金、釩、不銹鋼或銦錫合金中的任一種，或是碳化鈦、氮化鈦、氧化鈦、二氧化硅、氧化鋁等具有金屬外觀的非金屬中的任一種。真空鍍膜層130采用蒸鍍、濺射鍍或離子鍍等真空鍍膜方式形成于底漆層120上。然后拆除上述邊緣遮蓋治具，得到的真空鍍膜層130具有邊緣漸變效果，從基體110本身的顏色自然過渡到真空鍍膜層130的金屬效果。步驟三激光雕刻該真空鍍膜層形成圖案，并且做去污處理；在所述真空鍍膜層130上形成所需的圖案，可以是鏤空的圖案，該圖案為通過激光雕刻將部分鍍膜層去除形成；激光雕刻的同時(shí)提供一去污除塵設(shè)置，去除雕刻過程中產(chǎn)生的雜質(zhì)、渣滓，避免在后續(xù)噴涂工藝中引入臟污，也使雕刻圖案清晰。步驟四在該真空鍍膜層上形成中漆層。在上述有圖案的真空鍍膜層130表面噴涂中漆層140。該中漆層140為PU熱固化漆。該透明中漆層140可以是無色，也可以是各種半透明顏色，如藍(lán)色、紅色、紫色等，透明度為60%-90%。無色情況下的光透過率較高，具有較強(qiáng)的金屬效果；加入彩色色漿后則可實(shí)現(xiàn)彩色金屬效果，可以通過調(diào)節(jié)色漿的添加種類及比例來獲得不同的顏色及透明度，從而可以獲得不同顏色及不同深淺效果的金屬圖案。在步驟四之后包括步驟B :在中漆層上形成一面漆層150 ;該面漆層150為UV光固化漆，對(duì)真空鍍膜層130提供防刮、防腐蝕等保護(hù)功能，且可以實(shí)現(xiàn)高光、中光和亞光等多種外觀效果。上述電子產(chǎn)品殼體通過在基材110表面鍍覆一真空鍍膜層130，同時(shí)在真空鍍膜層130上雕刻所需任意裝飾圖案，然后涂覆任意半透明顏色的中漆層140，最后覆蓋保護(hù)面漆層150，使該電子產(chǎn)品殼體即具有多彩金屬光澤效果，又具備任意精美裝飾圖案，還有邊緣部分的漸變過渡效果，美觀雅致，工藝簡(jiǎn)單。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種電子產(chǎn)品殼體，其包括一基體，其特征在于，該電子產(chǎn)品殼體還包括 形成于該基體表面具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層； 形成于該真空鍍膜層上的中漆層； 所述真空鍍膜層上形成有圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，在所述基體和真空鍍膜層之間還設(shè)置有底漆層。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，在中漆層上還設(shè)置有面漆層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，所述真空鍍膜層的材料為具有 金屬質(zhì)感的金屬或非金屬材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，所述金屬為銦、錫、鋁、鈦、鉻、金、釩、不銹鋼或銦錫合金中的任ー種。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，所述非金屬為碳化鈦、氮化鈦、氧化鈦、ニ氧化硅或氧化鋁中的任ー種。
7.根據(jù)權(quán)利要求I至6任一所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，所述中漆層為無色透明或者彩色半透明的PU熱固化漆。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，所述半透明的透明度為60%-90%。
9.一種電子產(chǎn)品殼體的制造方法，其特征在于，包括如下步驟 步驟ー提供一基體，并對(duì)該基體進(jìn)行表面去污處理； 步驟ニ 在該基體表面鍍覆一具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層； 步驟三激光雕刻該真空鍍膜層形成圖案，并且做去污處理； 步驟四在上述真空鍍膜層上形成中漆層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電子產(chǎn)品殼體的制造方法，其特征在于，所述步驟ニ包括將中間鏤空的邊緣遮蓋治具加裝在所述基體上，在上述基體上鍍覆具有金屬質(zhì)感的真空鍍膜層。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電子產(chǎn)品殼體的制造方法，其特征在于，在所述步驟一之后步驟ニ之前還包括步驟A :在去污處理后的基體表面形成一底漆層。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11任一項(xiàng)所述的電子產(chǎn)品殼體的制造方法，其特征在于，形成該真空鍍膜層的材料為具有金屬質(zhì)感的金屬或非金屬材料。
13.據(jù)權(quán)利要求12所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，所述金屬為銦、錫、鋁、鈦、鉻、金、釩、不銹鋼或銦錫合金中的任ー種。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電子產(chǎn)品殼體，其特征在于，所述非金屬為碳化鈦、氮化鈦、氧化鈦、ニ氧化硅或氧化鋁中的任ー種。
15.根據(jù)權(quán)利要求9至11任一項(xiàng)所述的電子產(chǎn)品殼體的制造方法，其特征在于，在所述步驟四之后還包括步驟B :在中漆層上形成一面漆層。
16.根據(jù)權(quán)利要求9至11任一項(xiàng)所述的電子產(chǎn)品殼體的制造方法，其特征在于，所述中漆層為無色透明或者彩色半透明的PU熱固化漆。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子產(chǎn)品殼體的制造方法，其特征在于，所述半透明的透明度為60%-90%。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種電子產(chǎn)品殼體，其包括一基體，該電子產(chǎn)品殼體還包括形成于該基體表面具有金屬質(zhì)感并且由中心到周圍色彩漸變的真空鍍膜層、形成于該真空鍍膜層上的中漆層；所述真空鍍膜層上形成有圖案。本發(fā)明還提供一種電子產(chǎn)品殼體的制造方法。本發(fā)明提供的一種電子產(chǎn)品殼體及其制造方法，在激光雕刻真空鍍膜層后才形成中漆層，可以在激光雕刻后進(jìn)行去污處理，并且真空鍍膜層由中心到周圍色彩漸變，滿足人們對(duì)色彩的需求。
文檔編號(hào)H05K5/00GK102858100SQ20111017616
公開日2013年1月2日 申請(qǐng)日期2011年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月28日
發(fā)明者常明珠, 王發(fā)根, 高小青, 范富雷, 李瀚林 申請(qǐng)人:比亞迪股份有限公司