專利名稱：用于電路保護(hù)裝置的電極與等離子槍構(gòu)造的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本文所述的實(shí)施例大體上涉及功率設(shè)備保持裝置，并且更具體地涉及包括可調(diào)整電極組件以及用于消除電弧閃光的燒蝕性等離子槍的設(shè)備。
背景技術(shù)：
公知的電功率電路和開(kāi)關(guān)裝置通常具有導(dǎo)體，導(dǎo)體被絕緣物(例如空氣，或者氣體或固體電介質(zhì))分開(kāi)。然而，如果導(dǎo)體定位得過(guò)于靠近在一起，或者如果導(dǎo)體之間的電壓超過(guò)導(dǎo)體之間的絕緣物的絕緣特性，可能出現(xiàn)電弧。導(dǎo)體之間的絕緣物可變得電離化，這使得絕緣物可導(dǎo)電并允許形成電弧閃光。電弧閃光由于兩相導(dǎo)體之間、相導(dǎo)體與中性導(dǎo)體之間或相導(dǎo)體與接地點(diǎn)之間的故障造成的快速能量釋放引起。電弧閃光溫度可達(dá)到或超過(guò)20，000°C，這可使導(dǎo)體和相鄰的設(shè)備氣化。此外，電弧閃光可釋放足以損壞導(dǎo)體和相鄰設(shè)備的較大能量，該能量的形式為熱、強(qiáng)光、壓力波和/或聲波。然而，除非電路斷路器被特別地設(shè)計(jì)成處理電弧故障情況，產(chǎn)生電弧閃光的故障的電流水平通常小于短路的電流水平，使得電路斷路器不可跳脫或呈現(xiàn)延遲跳脫。盡管存在通過(guò)要求使用個(gè)人防護(hù)服裝和設(shè)備來(lái)控制電弧閃光問(wèn)題的手段和標(biāo)準(zhǔn)，但并不存在按規(guī)則形成的消除電弧閃光的裝置。標(biāo)準(zhǔn)的電路保護(hù)裝置(例如保險(xiǎn)絲和電路斷路器)通常不會(huì)足夠快地反應(yīng)以減輕電弧閃光。一種公知的呈現(xiàn)足夠快速的響應(yīng)的電路保護(hù)裝置為電“消弧電路”(crowbar)， 其通過(guò)有意地產(chǎn)生電“短路”而利用機(jī)械和/或電-機(jī)械過(guò)程使電能從電弧閃光點(diǎn)轉(zhuǎn)移走。 然后通過(guò)使保險(xiǎn)絲或電路斷路器跳脫而消除這種有意的短路故障。然而，使用消弧電路引起的有意短路故障可允許較大水平的電流流過(guò)相鄰的電氣設(shè)備，因而仍能損壞設(shè)備。呈現(xiàn)足夠快速的響應(yīng)的另一公知的電路保護(hù)裝置為電弧抑制裝置，電弧抑制裝置產(chǎn)生受抑制的電弧以便將電能從電弧閃光點(diǎn)轉(zhuǎn)移走。這種公知的裝置通常包括被空氣間隙分開(kāi)的兩個(gè)或更多主電極。此外，各主電極被直接擰到相應(yīng)的電極支架上。這些電極導(dǎo)致電能集中在與電極支架的對(duì)接點(diǎn)處，即，在螺紋處，這形成可在使用期間導(dǎo)致故障的結(jié)構(gòu)性弱點(diǎn)。此外，對(duì)接點(diǎn)處的這種能量集中可導(dǎo)致電極變得焊接或熔化到電極支架上，這需要在使用之后更換電極和電極支架兩者。此外，由于這種螺紋電極的制造中的公差，可能難以定位這些電極以獲得一致的結(jié)果。在操作期間，偏壓跨過(guò)間隙施加到主電極上。然而，至少一些公知的電弧裝置需要將主電極定位得靠近在一起以獲得所期望的操作。間隙中的空氣的污染物或者甚至是天然阻抗可在不期望的時(shí)間在主電極之間導(dǎo)致電弧形成，這可導(dǎo)致電路斷路器在其另外不需要時(shí)跳脫。因此，至少一些公知的電弧裝置簡(jiǎn)單地將主電極定位得進(jìn)一步分開(kāi)以避免這種假正面結(jié)果(false positive result)。然而，這些裝置通常較不可靠，因?yàn)閬?lái)自等離子槍的等離子體的擴(kuò)散較不有效。例如，至少一些公知的等離子槍提供的等離子體擴(kuò)散不會(huì)有效地促進(jìn)有效電介質(zhì)擊穿以及主電極之間的空氣間隙中的阻抗的減小。因此，這種等離子槍可顯示出較低水平的可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
在一方面，一種電路保護(hù)裝置包括構(gòu)造成用以沿軸線發(fā)射燒蝕性等離子體的等離子槍，以及多個(gè)電極，其中，各電極電聯(lián)接至電路的相應(yīng)導(dǎo)體，并且電極大體上沿垂直于軸線的平面布置，從而使得各電極與軸線大體上等距而定位。在另一方面，提供了一種用于電路保護(hù)裝置的電弧引發(fā)系統(tǒng)。該電弧引發(fā)系統(tǒng)包括控制器，其構(gòu)造成用以檢測(cè)電路中的電弧事件并在電路保護(hù)裝置內(nèi)引發(fā)電弧；等離子槍，其可操作地聯(lián)接到控制器上并構(gòu)造成用以沿軸線發(fā)射燒蝕性等離子體；以及，多個(gè)電極。各電極電聯(lián)接至電路的相應(yīng)導(dǎo)體，各電極大體上沿大體上垂直于該軸線的平面布置，從而使得電極彼此大體上是等距的。在另一方面，提供了一種用于組裝電路保護(hù)裝置的方法。該方法包括使多個(gè)電極中的每個(gè)電極聯(lián)接至電路的不同部分，使構(gòu)造成用以沿軸線發(fā)射燒蝕性等離子體的燒蝕性等離子槍定位，以及，在第一方向和相對(duì)的第二方向中的一個(gè)方向上沿大體上垂直于該軸線的平面調(diào)整其中每個(gè)電極的位置，從而使得其中每個(gè)電極與軸線大體上等距而定位。


圖1為示例性電路保護(hù)裝置的透視圖。圖2為可與圖1中所示的電路保護(hù)裝置一起使用的電隔離結(jié)構(gòu)的透視圖。圖3為圖2中所示的電隔離結(jié)構(gòu)的局部分解圖。圖4為圖2和圖3中所示的電隔離結(jié)構(gòu)的頂視圖。圖5為可與圖1中所示的電路保護(hù)裝置一起使用的相電極組件的透視圖。圖6為圖5中所示的相電極組件的備選透視圖。圖7為可與圖5和圖6中所示的相電極組件一起使用的示例性電極組件的視圖。圖8為可與圖1中所示的電路保護(hù)裝置一起使用的示例性燒蝕性等離子槍的截面圖。圖9為可與圖1中所示的電路保護(hù)裝置一起使用的等離子槍的備選實(shí)施例的截面圖。
圖10為可與圖1中所示的電路保護(hù)裝置一起使用的等離子槍的另一備選實(shí)施例的截面圖。圖11為圖8中所示的等離子槍的透視圖。圖12為圖11中所示的等離子槍的分解圖。圖13為可與圖1中所示的電路保護(hù)裝置一起使用的示例性等離子槍組件的透視圖。圖14為可與圖13中所示的等離子槍組件一起使用的示例性等離子槍開(kāi)孔的透視圖。圖15為圖14中所示的等離子槍組件的分解圖。項(xiàng)目清單100電路保護(hù)裝置102 封閉區(qū)段(containment section)
104外殼
106控制器
200電隔離結(jié)構(gòu)
202基板
204導(dǎo)體基座
206第一端
208第二端
210頂面
212底面
214側(cè)壁
216頂面
218內(nèi)壁
220電隔離區(qū)域
222中空支柱
224安裝支柱
226安裝開(kāi)孔
228導(dǎo)體蓋
230第一端
232第二端
234頂面
236側(cè)壁
238底面
240垂直屏障
242正面
244背面
246頂面
248底面
250凹部
252舌部
254開(kāi)孔
256電極組件
258電極
260電極支架
262隔離通道
264側(cè)壁
266等離子槍開(kāi)孔
268環(huán)形側(cè)壁
300相電極組件
302 tB^i (phase strap)
304 第一端306 第二端308 頂面310 底面312 第一側(cè)面314 第二側(cè)面316中空支柱開(kāi)孔318 凹部320 開(kāi)？L322垂直立板324 正面326 背面328 頂端330 頂面332 底端334 底面336 組支撐件(cluster support)338 凹部340 組合彈簧(spring cluster)402 第一端404 第二端406外表面408 頂面410 底面412 第一側(cè)面414 第二側(cè)面416 第一端面418 第二端面420安裝開(kāi)孔422安裝開(kāi)孔424夾持部分似6第一方向似8第二方向430 第一部分432 第二部分434 間隙436 開(kāi)口438上緊機(jī)構(gòu)500燒蝕性等離子槍
502 杯狀部(cup)504 腔室506 第一部分508 第二部分510 第一直徑512 第二直徑514 蓋516 基座518 噴嘴520 開(kāi)口522第一槍電極5 第二槍電極5 第一端5 第二端530 電弧532等離子體5；34主體部分536第一中空支腿538第二中空支腿540 邊沿(rim)542安裝開(kāi)孔544電極開(kāi)孔546第一槍電極主體548第二槍電極主體550支柱開(kāi)孔552 頂端5M 底端556 主體558 支柱600燒蝕性等離子槍602 腔室604 第一部分606 第二部分608 第一直徑610 第二直徑612 開(kāi)口614 噴嘴700燒蝕性等離子槍702 基座
704杯狀部706 蓋708 腔室710 第一部分712 第二部分714 第一側(cè)716 頂緣718 第二側(cè)720 內(nèi)緣722 內(nèi)緣7 噴嘴800等離子槍組件802 第一開(kāi)口804 第二開(kāi)口806 內(nèi)壁808夕卜壁810第一等離子槍連接器812第二等離子槍連接器814安裝開(kāi)孔816等離子槍蓋818 頂部820 下部822中心開(kāi)孔擬4安裝開(kāi)孔擬6安裝開(kāi)孔
具體實(shí)施例方式上文描述了用于電路保護(hù)裝置的組件的設(shè)備和方法的示例性實(shí)施例。這些實(shí)施例有助于調(diào)整電路保護(hù)裝置(例如電弧抑制裝置)中的電極之間的距離。調(diào)整電極之間的距離或空氣間隙使操作人員能夠以最佳地適合電路保護(hù)裝置要被使用的環(huán)境的方式來(lái)設(shè)置電路保護(hù)裝置。例如，電極之間的距離可基于系統(tǒng)電壓而設(shè)置。此外，本文所述的實(shí)施例允許在使用之后更換電極，這是電路保護(hù)系統(tǒng)的最低成本的要素之一。此外，這些實(shí)施例提供了燒蝕性等離子槍，其包括腔室，該腔室具有第一部分或下部以及第二部分或上部，第一部分或下部具有由第一直徑限定的第一體積，第二部分或上部具有由大于第一直徑的第二直徑限定的第二體積。這種等離子槍設(shè)計(jì)有助于提高可靠性并增強(qiáng)電弧消除系統(tǒng)的主電極之間的等離子體擊穿和電弧形成。例如，本文所述的實(shí)施例在電弧形成于主電極之間后提供更大的等離子體擴(kuò)散，這有助于增強(qiáng)主電極之間的主間隙內(nèi)的電介質(zhì)擊穿。額外的等離子體擴(kuò)散和電介質(zhì)擊穿允許電弧消除系統(tǒng)在主電極之間的較寬的偏壓范圍(包括低到200伏的偏壓)以及主間隙內(nèi)的較寬的阻抗范圍下執(zhí)行。
圖1為用于在電路(未示出)的保護(hù)中使用的示例性電路保護(hù)裝置100的透視圖，該電路包括多個(gè)導(dǎo)體(未示出)。更具體而言，電路保護(hù)裝置100可用于保護(hù)功率分配設(shè)備(未示出)。在圖1的示例性實(shí)施例中，電路保護(hù)裝置100包括具有外殼104的封閉區(qū)段102，以及聯(lián)接到封閉區(qū)段102上的控制器106。如本文使用的用語(yǔ)“控制器”大體上指包括系統(tǒng)和微控制器的任何可編程系統(tǒng)、精簡(jiǎn)指令集電路(RISC)、專用集成電路(ASIC)、 可編程邏輯電路(PLC)，以及能夠執(zhí)行本文所述的功能的任何其它電路或處理器。上述實(shí)例僅為示例性的，并且因此并不意圖以任何方式限制用語(yǔ)“處理器”的定義和/或意義。在操作期間，控制器106接收來(lái)自于一個(gè)或多個(gè)傳感器(未示出)的信號(hào)，用于檢測(cè)設(shè)備封殼(未示出)內(nèi)的電弧閃光。傳感器信號(hào)可對(duì)應(yīng)于穿過(guò)電路的一個(gè)或多個(gè)導(dǎo)體的電流測(cè)量、跨國(guó)電路的導(dǎo)體的電壓測(cè)量、設(shè)備封殼的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域中的光測(cè)量、電路斷路器設(shè)置或狀態(tài)、靈敏度設(shè)置，和/或指示關(guān)于功率分配設(shè)備的操作狀態(tài)或操作數(shù)據(jù)的任何其它合適的傳感器信號(hào)。控制器106基于傳感器信號(hào)判斷電弧閃光是否出現(xiàn)或即將出現(xiàn)。 如果電弧閃光出現(xiàn)或即將出現(xiàn)，那么控制器106在封閉區(qū)段102內(nèi)引發(fā)受抑制的電弧閃光， 并將信號(hào)傳輸至例如電路斷路器，該電路斷路器電聯(lián)接至有電弧閃光的風(fēng)險(xiǎn)的電路。響應(yīng)于該信號(hào)，等離子槍(未示出)大體上沿多個(gè)電極(圖1中未示出)之間的軸線發(fā)射燒蝕性等離子體，以便于形成受抑制的電弧。受抑制的電弧能使多余的能量從電路除去，以便保護(hù)電路和任何功率分配設(shè)備。圖2為電路保護(hù)裝置100的電隔離結(jié)構(gòu)200的透視圖，圖3為電隔離結(jié)構(gòu)200的局部分解圖，并且圖4為電隔離結(jié)構(gòu)200的頂視圖。在該示例性實(shí)施例中，電隔離結(jié)構(gòu)200 包括基板202，基板202使電路保護(hù)裝置100能被插入功率分配設(shè)備(未示出)的設(shè)備封殼(未示出)中。此外，電隔離結(jié)構(gòu)200包括聯(lián)接到基板202上的導(dǎo)體基座204。導(dǎo)體基座 204包括第一端206和相對(duì)的第二端208。導(dǎo)體基座204還包括頂面210和底面212，底面 212抵靠基板202而定位。側(cè)壁214在頂面210與底面212之間延伸并包括頂面216。此外，內(nèi)壁218限定多個(gè)電隔離區(qū)域220，各隔離區(qū)域220的大小形成為使相帶(圖2和圖3 中未示出)能被定位在其中，并且在相帶與基板202之間提供電隔離。各隔離區(qū)域220包括一個(gè)或多個(gè)中空支柱222，中空支柱222的大小形成為在其間容納聯(lián)接機(jī)構(gòu)(例如螺釘或螺栓)。此外，各隔離區(qū)域220包括用于將相帶固定到導(dǎo)體基座204上的一個(gè)或多個(gè)安裝支柱224。安裝開(kāi)孔2 延伸穿過(guò)各安裝支柱224，并且其大小形成為在其間容納聯(lián)接機(jī)構(gòu) (例如螺釘或螺栓)。電隔離結(jié)構(gòu)200還包括聯(lián)接到導(dǎo)體基座204上的導(dǎo)體蓋228。具體而言，導(dǎo)體蓋 228包括第一端230、相對(duì)的第二端232、頂面234，以及具有底面238的側(cè)壁236。導(dǎo)體蓋 2 經(jīng)由多個(gè)聯(lián)接機(jī)構(gòu)(例如螺釘或螺栓(未示出))聯(lián)接到導(dǎo)體基座204上，聯(lián)接機(jī)構(gòu)各自延伸穿過(guò)相應(yīng)的中空支柱222并固定在導(dǎo)體蓋228中。當(dāng)導(dǎo)體蓋2 聯(lián)接到導(dǎo)體基座204 上時(shí)，底面238與頂面216大體上齊平。此外，電隔離結(jié)構(gòu)200包括聯(lián)接到導(dǎo)體基座204和導(dǎo)體蓋2 上的垂直屏障M0。具體而言，垂直屏障240包括正面242和相對(duì)的背面244， 以及頂面246和相對(duì)的底面M8。垂直屏障240聯(lián)接到導(dǎo)體基座204和導(dǎo)體蓋2 上，使得垂直屏障的正面242的一部分定位成與導(dǎo)體基座的第二端208和導(dǎo)體蓋的第二端232相接觸。垂直屏障240還包括形成于背面M4中的多個(gè)凹部250。各凹部250的的大小形成為使垂直立板(圖2和圖3中未示出)能定位于其中并提供垂直立板之間的電隔離。各凹部250包括舌部252，其中開(kāi)孔2M延伸穿過(guò)舌部252。開(kāi)孔254的大小形成為在其間容納聯(lián)接機(jī)構(gòu)，以便將垂直立板固定在其相應(yīng)的凹部250內(nèi)。在該示例性實(shí)施例中，電路保護(hù)裝置100還包括多個(gè)電極組件256，各電極組件 256包括電極258和電極支架沈0。導(dǎo)體蓋2 包括多個(gè)隔離通道沈2，隔離通道沈2的大小分別形成為容納相應(yīng)的電極組件256以便提供電極組件256之間的電隔離。各隔離通道 262由多個(gè)側(cè)壁264限定。具體而言，隔離通道262在電極支架260之間提供電隔離。此外， 隔離通道262在主電極258與相帶之間提供電隔離，相帶定位在導(dǎo)體蓋2 與導(dǎo)體基座204 之間。此外，導(dǎo)體蓋2 包括由環(huán)形側(cè)壁沈8限定的等離子槍開(kāi)孔226。等離子槍開(kāi)孔沈6 的大小形成為使等離子槍(未示出)能沿等離子槍和等離子槍開(kāi)孔266的中心軸線(未示出)至少部分地延伸穿過(guò)其中。在該示例性實(shí)施例中，等離子槍大體上沿一軸線(例如等離子槍的中心軸線)發(fā)射燒蝕性等離子體。如圖4中所示，主電極258布置成使得各主電極258與該軸線對(duì)稱地等距，并且使得各主電極258彼此等距。例如，第一主電極與第二主電極之間的第一距離大體上等于第二主電極與第三主電極之間的第二距離。第一距離還大體上等于第一主電極與第三主電極之間的第三距離。圖5為可與電路保護(hù)裝置100(圖1中示出)一起使用的相電極組件300的透視圖，并且圖6為相電極組件300的備選透視圖。在該示例性實(shí)施例中，相電極組件300包括多個(gè)電極組件256。相電極組件300還包括多個(gè)相帶302。在該示例性實(shí)施例中，各相帶302 包括導(dǎo)電材料(例如銅)。然而，可使用任何合適的傳導(dǎo)性材料。此外，各相帶302包括第一端304、相對(duì)的第二端306、頂面308、相對(duì)的底面310，以及多個(gè)側(cè)面(包括第一側(cè)面312 和第二側(cè)面314)。側(cè)面312和314以及第一端304與導(dǎo)體基座204(圖3中示出)的內(nèi)壁 218(圖3中示出)接觸或相鄰而定位，從而使得內(nèi)壁218在相帶302之間提供電隔離。相帶302還包括用于聯(lián)接到導(dǎo)體基座204上的裝置。例如，一個(gè)或多個(gè)相帶302包括中空支柱開(kāi)孔316，中空支柱開(kāi)孔316在頂面308與底面310之間延伸。中空支柱開(kāi)孔316的大小形成為，當(dāng)導(dǎo)體蓋2 利用定位于其間的相帶302聯(lián)接到導(dǎo)體基座204上時(shí)，將中空支柱 222 (圖3中示出)容納于其中。此外，一個(gè)或多個(gè)相帶302包括凹部318，凹部318的大小形成為，當(dāng)導(dǎo)體蓋2 利用定位于其間的相帶302聯(lián)接到導(dǎo)體基座204上時(shí)，抵靠中空支柱 222而定位。此外，一個(gè)或多個(gè)相帶302包括一個(gè)或多個(gè)開(kāi)孔320，開(kāi)孔320的大小形成為在其間容納聯(lián)接機(jī)構(gòu)，以便將相帶302固定在導(dǎo)體基座204的相應(yīng)隔離區(qū)域220內(nèi)。各電極組件256聯(lián)接到相應(yīng)的相帶302上，從而使得電極支架260與相帶的第一端304處的相帶頂面308大體上齊平而定位，以便于將電能從相帶302傳送至電極組件256。在該示例性實(shí)施例中，導(dǎo)體基座204(圖2和圖3中示出)在相帶302與基板202(圖2中示出)之間提供電隔離。各相帶302聯(lián)接至垂直立板322。在該示例性實(shí)施例中，各垂直立板322由導(dǎo)電材料(例如銅)構(gòu)成。然而，可使用任何合適的傳導(dǎo)性材料。此外，各垂直立板322包括正面 324、相對(duì)的背面326、具有頂面330的頂端328，以及具有底面334的相對(duì)的底端332。垂直立板322聯(lián)接至相帶302，從而使得垂直立板的底面334在相帶的第二端306處與相帶頂面 308大體上齊平而定位，以便于將電能從垂直立板322傳送至相帶302。在該示例性實(shí)施例中，垂直立板322有助于在通電時(shí)使電路保護(hù)裝置100接入母線(未示出)中，和/或在通電時(shí)使電路保護(hù)裝置100與母線脫離。在備選實(shí)施例中，相電極組件300不包括垂直立板322。在這樣的實(shí)施例中，各相帶302與母線聯(lián)接(例如與母線接觸而直接地聯(lián)接)。此外，如圖6中所示，組支撐件336聯(lián)接至各垂直立板322的背面326。具體而言， 組支撐件336在相應(yīng)的凹部338中聯(lián)接至垂直立板322，該相應(yīng)的凹部338形成于背面3 中。在該示例性實(shí)施例中，各組支撐件336由導(dǎo)電材料(例如銅)構(gòu)成。然而，可使用任何合適的傳導(dǎo)性材料。此外，組合彈簧340聯(lián)接(例如可移除地聯(lián)接)到各組支撐件336上。 組合彈簧340在電路的導(dǎo)體(均未示出)之間提供電連接。例如，相導(dǎo)體可聯(lián)接至第一組合彈簧以便將電能提供給第一電極，接地導(dǎo)體可聯(lián)接至第二組合彈簧以便在第二電極處提供接地點(diǎn)，并且中性導(dǎo)體可聯(lián)接至第三組合彈簧。應(yīng)當(dāng)理解的是，多相導(dǎo)體可聯(lián)接至相應(yīng)的組合彈簧，以便將處于不同相的電能提供給不同的電極。相電極組件300允許電能經(jīng)由電流通路從導(dǎo)體傳送至相應(yīng)的主電極258。在該示例性實(shí)施例中，電流通路包括組合彈簧340、組支撐件336、垂直立板322、相帶302、電極支架260和主電極258。在備選實(shí)施例中，相電極組件300不包括垂直立板322、組支撐件336 和/或組合彈簧；340。在這樣的實(shí)施例中，電流通路包括相帶302、電極支架260和電極258。圖7為可與相電極組件300(圖4和圖5中示出)一起使用的示例性的可調(diào)整電極組件256的視圖。在該示例性實(shí)施例中，電極組件256包括具有伸長(zhǎng)形狀的主電極258。 此外，主電極258具有第一端402和相對(duì)的第二端404，它們?cè)谄溟g限定電極長(zhǎng)度。第二端 404大體上為半球形。主電極258具有圍繞外表面406的第一圓周，使得第一圓周對(duì)于整個(gè)電極長(zhǎng)度大體上相同。在該示例性實(shí)施例中，主電極258由可消耗材料(例如鎢和鋼的合金)構(gòu)成。然而，主電極258可備選地由能使主電極258用來(lái)點(diǎn)燃主電極258之間的間隙內(nèi)的電弧閃光的任何單一材料或任何多種材料的合金構(gòu)成。此外，主電極258可備選地由能使主電極258再用來(lái)點(diǎn)燃主電極258之間的主間隙內(nèi)的電弧閃光的非可消耗材料構(gòu)成。在該示例性實(shí)施例中，電極組件256還包括電極支架沈0，電極支架沈0由導(dǎo)電材料(例如銅)構(gòu)成。然而，電極支架260可由還防止兩種相異材料之間(如主電極258與電極支架260之間)的熱問(wèn)題的任何其它傳導(dǎo)性材料構(gòu)成。電極支架260包括頂面408和相對(duì)的底面410。電極支架260還具有多個(gè)側(cè)面(包括第一側(cè)面412、相對(duì)的第二側(cè)面414)、 第一端面416以及相對(duì)的第二端面418。多個(gè)安裝開(kāi)孔420從頂面408到底面410限定穿過(guò)電極支架260。大小形成為用以被插入相應(yīng)的安裝開(kāi)孔420的聯(lián)接機(jī)構(gòu)(例如螺釘或螺栓(未示出))用于將電極支架260安裝到相帶的頂面308(圖4中示出)上。具體而言， 電極支架260聯(lián)接到相帶302 (圖4中示出)上，使得電極支架的底面410與相帶的第二端 306(圖4中示出)處的相帶的頂面308大體上齊平而定位，以便于使電能從相帶302傳送至電極支架238。此外，各電極支架260構(gòu)造成用以支撐相應(yīng)的主電極258。例如，各電極支架沈0 包括固定相應(yīng)主電極258的夾持部分424。更具體而言，例如，如圖4中所示，夾持部分424 使得能夠沿第一方向似6調(diào)整主電極258的位置，以便在主電極258之間形成較大的主間隙。夾持部分似4還使得能夠沿第二方向4 調(diào)整主電極258的位置，以便在主電極258 之間形成較小的主間隙。此外，夾持部分似4使得能夠從相電極組件300移除主電極258 以便進(jìn)行修理和/或更換。在該示例性實(shí)施例中，夾持部分似4包括第一部分430和第二部分432，它們被間隙434分開(kāi)。夾持部分似4還包括大小形成為用以容納主電極258的開(kāi)口 436。開(kāi)口 436包括略微大于主電極258的第一圓周的第二圓周，以使得能夠調(diào)整主電極258的位置和/或能夠從電極組件256移除主電極258。夾持部分似4還包括將主電極258固定在開(kāi)口 436內(nèi)的上緊機(jī)構(gòu)438。具體而言，上緊機(jī)構(gòu)438固定主電極258，從而使得電極外表面406與開(kāi)口 436的內(nèi)表面(未示出)大體上齊平，以便于將電能從電極支架260傳送至主電極258。在該示例性實(shí)施例中，上緊機(jī)構(gòu)438為延伸通過(guò)第一部分430到第二部分432中的螺釘或螺栓(未示出)。當(dāng)上緊螺釘或螺栓時(shí)，迫使第一部分430更靠近第二部分432，從而使得間隙434變得更小，并且開(kāi)口 436的第二圓周變得更小，從而將主電極258固定在開(kāi)口 436內(nèi)。在備選實(shí)施例中，上緊機(jī)構(gòu)438為定位螺釘(未示出)，其延伸穿過(guò)夾持部分424，例如穿過(guò)第一部分430，并進(jìn)入開(kāi)口 436。在這樣的實(shí)施例中，定位螺釘?shù)挚侩姌O的外表面406直接地上緊而將主電極258固定在開(kāi)口 436內(nèi)。在一些實(shí)施例中， 電極258固定地緊固在開(kāi)口 436內(nèi)，例如焊接在開(kāi)口 436內(nèi)的特定位置中。在一個(gè)這樣的實(shí)施例中，然后可調(diào)整電極支架260以便使電極258相對(duì)于其它電極258以及相對(duì)于等離子槍開(kāi)孔沈6(圖3中示出)定位在預(yù)期位置。圖8為用于電路保護(hù)裝置100(圖1中示出)的示例性燒蝕性等離子槍500的截面圖。等離子槍500包括杯狀部502，杯狀部502具有形成于其中的腔室504。杯狀部502 包括第一部分506和第二部分508，第二部分508相對(duì)于第一部分506定位以限定腔室504。 例如，在該示例性實(shí)施例中，第二部分508定位在第一部分506之上。此外，第一部分506具有限定第一體積的第一直徑510。在該示例性實(shí)施例中，第一直徑510為大約0. 138英寸。 此外，第二部分508具有大于第一直徑510的第二直徑512，其中，第二直徑512限定同樣大于第一體積的第二體積。在該示例性實(shí)施例中，第二直徑512為大約0.221英寸。應(yīng)當(dāng)注意的是，能使等離子槍500如本文所述而作用的任何合適的測(cè)量結(jié)果都可用于第一直徑 510和/或第二直徑512。此外，在該示例性實(shí)施例中，第一部分506和第二部分508整體地形成并且腔室504限定在其中。在備選實(shí)施例中，第一部分506和第二部分508單獨(dú)地形成并聯(lián)接在一起以形成腔室504。在該示例性實(shí)施例中，杯狀部502由燒蝕性材料形成， 該燒蝕性材料例如為聚四氟乙烯、聚甲醛聚酰胺、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、其它燒蝕性聚合物，或這些材料的不同混合物。此外，等離子槍500包括蓋514和基座516。在該示例性實(shí)施例中，蓋514安裝在基座516上，并且其大小形成為包圍杯狀部502。具體而言，杯狀部502定位在基座516與蓋514之間。此外，噴嘴518在蓋514內(nèi)形成。噴嘴518定位在杯狀部502的開(kāi)口 520之上。在該示例性實(shí)施例中，蓋514和/或基座516由與杯狀部502相同的燒蝕性材料形成。 或者，蓋514和/或基座516由一種或多種不同于杯狀部502的燒蝕性材料(例如耐火材料或陶瓷材料)形成。此外，在該示例性實(shí)施例中，等離子槍500包括多個(gè)槍電極(包括第一槍電極522 和第二槍電極524)。第一槍電極522包括第一端526，并且第二槍電極5M包括第二端528， 它們各自延伸到腔室504中。例如，第一端5 和第二端5 從圍繞腔室504的中心軸線 (未示出)的腔室504的徑向相對(duì)的兩側(cè)進(jìn)入腔室504。此外，第一端5 和第二端5 跨過(guò)腔室504斜向地相對(duì)，以便限定間隙以用于形成電弧530。電極522和524，或者至少第一端5 和第二端528，可由例如鎢鋼、鎢、其它耐高溫金屬或合金、碳或石墨，或允許形成電弧530的任何其它合適材料形成。施加在電極522和5 之間的電勢(shì)的脈沖產(chǎn)生電弧 530，電弧530加熱并燒蝕杯狀部502的燒蝕性材料的一部分，以便產(chǎn)生處于高壓的高傳導(dǎo)性等離子體532。等離子體532在超音速下以擴(kuò)散模式離開(kāi)噴嘴518。等離子體532的特征(例如速度、離子濃度和擴(kuò)散區(qū)域)可由電極522和524的尺寸和/或由第一端526與第二端5 之間的分開(kāi)距離控制。等離子體532的這些特征還可由腔室504的內(nèi)部尺寸、 用于形成杯狀部502的燒蝕性材料的類型、觸發(fā)脈沖形狀和/或噴嘴518的形狀控制。在操作期間，等離子槍500和主電極258(圖2中示出)被聯(lián)接至控制器106(圖1 中示出)以便形成電弧引發(fā)系統(tǒng)。在該示例性實(shí)施例中，控制器106從一個(gè)或多個(gè)傳感器 (未示出)接收信號(hào)，用于檢測(cè)設(shè)備封殼(未示出)內(nèi)的電弧閃光。傳感器信號(hào)可對(duì)應(yīng)于穿過(guò)一個(gè)或多個(gè)電路導(dǎo)體的電流測(cè)量、跨過(guò)電路導(dǎo)體的電壓測(cè)量、設(shè)備封殼的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域中的光測(cè)量、電路斷路器設(shè)置或狀態(tài)、靈敏度設(shè)置，和/或指示關(guān)于功率分配設(shè)備的操作狀態(tài)或操作數(shù)據(jù)的任何其它合適的傳感器信號(hào)?？刂破?06基于傳感器信號(hào)判斷電弧閃光是否出現(xiàn)或即將出現(xiàn)。如果電弧閃光出現(xiàn)或即將出現(xiàn)，那么控制器106在封閉區(qū)段102(圖 1中示出)內(nèi)引發(fā)受抑制的電弧閃光，并將信號(hào)傳輸至例如電路斷路器，該電路斷路器電聯(lián)接至有電弧閃光的風(fēng)險(xiǎn)的電路。響應(yīng)于該信號(hào)，等離子槍500大體上沿主電極258之間的軸線發(fā)射燒蝕性等離子體532，以便于形成電弧530。等離子體532破壞主電極258之間的主間隙中的空氣的介電強(qiáng)度，以便提供用于電弧閃光的電流的低阻抗通路。主電極258圍繞軸線(燒蝕性等離子體通過(guò)等離子槍500沿該軸線發(fā)射)對(duì)稱地和徑向地定位。此外，主電極258沿軸向方向距等離子槍500的頂面或邊沿等距地定位。 具體而言，在該示例性實(shí)施例中，主電極258定位得高于等離子槍500的頂面大約0. 1英寸。然而，應(yīng)當(dāng)理解的是，主電極258可定位得高于等離子槍500的頂面略大于大約0. 1英寸，或高于等離子槍500頂面略小于大約0. 1英寸。此外，主電極258定向?yàn)橛靡韵薅ㄆ矫?，該平面大體上垂直于該軸線并大致穿過(guò)各主電極258的中心。每個(gè)主電極258的第二端404(圖7中示出)沿該平面與軸線大體上等距而定位。此外，每個(gè)主電極258的第二端 404與其余主電極258的第二端404大體上等距而定位。在該示例性實(shí)施例中，每個(gè)主電極258的第二端404定位得距其余主電極258的第二端404大約0. 25英寸的距離。在備選實(shí)施例中，每個(gè)主電極258的第二端404定位得距其余主電極258的第二端404大于大約0. 25英寸的距離。在另一備選實(shí)施例中，每個(gè)主電極258的第二端404定位得距其余主電極258的第二端404小于大約0. 25英寸的距離。在備選實(shí)施例中，等離子槍500為可調(diào)整的。例如，可相對(duì)于由主電極258限定的平面調(diào)整等離子槍500的高度。作為另一實(shí)例， 可調(diào)整等離子槍500定向的角度，從而使得由主電極258限定的平面不垂直于等離子槍500 的中心軸線。這種對(duì)稱的間隔減少?gòu)碾娀￠W光傳輸?shù)街麟姌O258中的電流的逆序(negative sequence) 0此外，本文所述的結(jié)構(gòu)使各主電極258能夠傳送大體上相同的電流量。應(yīng)當(dāng)理解的是，由于各主電極258傳送相同的電流并定位得與其它主電極258和等離子槍500的距離相同，所以各主電極258的末梢與等離子槍500的中心軸線之間的阻抗也大體上相同。 電弧530被抑制在封閉區(qū)段102內(nèi)，其能使多余的能量從電路除去以便保護(hù)電路和任何功率分配設(shè)備。此外，各主電極258的第二端404的半球形形狀有助于防止主電極258的自擊穿。 因此，通過(guò)測(cè)定各主電極258的水平位置和/或垂直位置，可與一個(gè)或多個(gè)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和/或國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)相比而定位主電極258。例如，基于跨過(guò)由電路保護(hù)裝置100監(jiān)測(cè)的電路內(nèi)的多個(gè)導(dǎo)體的電壓，主電極258可定位成使得各主電極258與等離子槍400的中心軸線等距并使得主電極258彼此等距。此外，主電極258定位成使得各主電極258的第二端404被由等離子槍400發(fā)射的燒蝕性等離子體包封。圖9為燒蝕性等離子槍600的備選實(shí)施例的截面圖。如圖9中所示，等離子槍600 由單一的燒蝕性材料整體地形成。等離子槍600包括由第一部分604和第二部分606限定的腔室602，第二部分606定位在第一部分604之上并與第一部分604整體地形成。此外， 第一部分604具有第一直徑608，并且第二部分606具有第二直徑610。在圖9的示例性實(shí)施例中，第二直徑610大于第一直徑608。此外，如圖9中所示，腔室602包括開(kāi)口 612，開(kāi)口 612部分地延伸跨過(guò)第二部分606以形成噴嘴614。圖10為燒蝕性等離子槍700的另一備選實(shí)施例的截面圖。如圖10中所示，等離子槍700包括基座702，基座702具有形成于其中的杯狀部704。蓋706聯(lián)接到基座702上以限定腔室708。蓋706包括第一部分710和第二部分712。第一部分710聯(lián)接到基座702 的第一側(cè)714上并沿基座702的頂緣716延伸。同樣，第二部分712聯(lián)接到基座702的第二側(cè)718上并沿頂緣716延伸。間隙分別限定在第一部分710的內(nèi)緣720以及第二部分712 的內(nèi)緣722之間，以便形成噴嘴724。圖11為等離子槍500的透視圖，并且圖12為等離子槍500的分解圖。在該示例性實(shí)施例中，等離子槍500包括主體部分534、第一中空支腿536，以及第二中空支腿538。邊沿540設(shè)置為跨過(guò)主體部分534的至少一部分。噴嘴518延伸通過(guò)邊沿540到腔室502 (圖 8中示出)中。此外，主體部分534包括至少一個(gè)安裝開(kāi)孔討2，安裝開(kāi)孔542有助于將等離子槍500固定在等離子槍開(kāi)孔沈6內(nèi)。槍電極開(kāi)孔544延伸穿過(guò)主體部分534，并且其大小形成為使槍電極主體在其中。 具體而言，第一槍電極主體546的第一端5 沿第一方向插入槍電極開(kāi)孔544中，從而使得第一端5 至少部分地延伸到腔室502中。同樣，第二槍電極主體548的第二端5 沿第二方向插入槍電極開(kāi)孔討4中，從而使得第二端5 至少部分地延伸到腔室502中并跨過(guò)腔室502與第一端5 相對(duì)。各槍電極主體546和548均包括延伸穿過(guò)其間的支柱開(kāi)孔550。第一中空支腿536和第二中空支腿538聯(lián)接到主體部分534上，并且均大小形成為將相應(yīng)的線電極容納于其中。例如，第一中空支腿536的大小形成為將第一線電極522 容納于其中，并且第二中空支腿538的大小形成為將第二線電極5M容納于其中。各線電極522和5 均包括頂端552和相對(duì)的底端554，主體556在其間延伸。頂端552限定支柱 558，支柱558的大小形成為用以被插入相應(yīng)槍電極主體546和M8的支柱開(kāi)孔550中。底端5M大體上為半球形的形狀，以用于插入電連接器(圖11和圖12中未示出)。圖13為等離子槍組件800的透視圖，圖14為導(dǎo)體蓋228的等離子槍開(kāi)孔沈6的透視圖，并且圖15為等離子槍組件800的分解圖。值得注意的是，任何等離子槍500、600 和700都可與等離子槍組件800 —起使用。在該示例性實(shí)施例中，等離子槍500至少部分地延伸穿過(guò)等離子槍開(kāi)孔沈6。等離子槍開(kāi)孔266包括第一開(kāi)口 802和第二開(kāi)口 804。等離子槍開(kāi)孔266還包括由間隙分開(kāi)的內(nèi)壁806和外壁808。第一開(kāi)口 802的大小形成為使第一中空支腿536能夠延伸穿過(guò)導(dǎo)體蓋228以便連接到第一等離子槍連接器810上。同樣，第二開(kāi)口 804的大小形成為使第二中空支腿538 能夠延伸穿過(guò)導(dǎo)體蓋228以便連接到第二等離子槍連接器812上。具體而言，線電極的第二端554(圖12中示出)分別被插入第一等離子槍連接器810和第二等離子槍連接器812 中。等離子槍連接器810和812提供線電極522和5 與點(diǎn)火電路(未示出)之間的電連接。此外，等離子槍連接器810和812使等離子槍500能夠從等離子槍組件800移除。等離子槍連接器810和812包括至少一個(gè)安裝開(kāi)孔814，安裝開(kāi)孔814定位在等離子槍主體部分534的安裝開(kāi)孔542下方。等離子槍組件800還包括大小形成為覆蓋等離子槍500的等離子槍蓋816。蓋816 包括頂部818和下部820。頂部818與等離子槍主體部分534的形狀大體上相同。此外， 頂部818具有中心開(kāi)孔822，中心開(kāi)孔822的大小形成為使邊沿540至少部分地延伸穿過(guò)其間。在該示例性實(shí)施例中，下部820與頂部818整體地形成。此外，下部820具有與內(nèi)壁 806和外壁808之間的間隙的寬度大體上相同的厚度。下部820還具有介于內(nèi)壁806的直徑與外壁808的直徑之間的直徑。此外，下部820包括安裝開(kāi)孔824，安裝開(kāi)孔擬4定位成用以覆蓋等離子槍主體部分534的安裝開(kāi)孔M2。銷或類似的緊固機(jī)構(gòu)延伸穿過(guò)安裝開(kāi)孔 814,542和824，并被固定在設(shè)于內(nèi)壁806中的安裝開(kāi)孔826內(nèi)，以便于固定蓋816和等離子槍500。上文詳細(xì)描述了在用于保護(hù)功率分配設(shè)備的裝置中使用的設(shè)備的示例性實(shí)施例。 這些設(shè)備不限于本文所述的特定實(shí)施例，相反，方法的操作和/或系統(tǒng)和/或設(shè)備的構(gòu)件可與本文所述的其它操作和/或構(gòu)件獨(dú)立地和分開(kāi)地使用。此外，所述的操作和/或構(gòu)件還可限定在其它系統(tǒng)、方法和/或設(shè)備中，或結(jié)合其它系統(tǒng)、方法和/或設(shè)備使用，并且不限于僅利用如本文所述的系統(tǒng)、方法和存儲(chǔ)介質(zhì)來(lái)實(shí)施。盡管結(jié)合示例性功率分配環(huán)境描述本發(fā)明，但本發(fā)明的實(shí)施例可與許多其它通用或?qū)Ｓ霉β史峙洵h(huán)境或構(gòu)造一起操作。功率分配環(huán)境并不意圖提出對(duì)本發(fā)明的任何方面的用途或功能的范圍的任何限制。此外，功率分配環(huán)境不應(yīng)當(dāng)被理解為關(guān)于示例性操作環(huán)境中所示的任一構(gòu)件或構(gòu)件的組合具有任何依賴性或要求。除非另外指出，本文所示和所述的本發(fā)明的實(shí)施例中的操作的實(shí)施順序或執(zhí)行順序不是關(guān)鍵的。也就是說(shuō)，可以任何順序執(zhí)行操作，除非另外指出，并且本發(fā)明的實(shí)施例可包括多于或少于本文所公開(kāi)的那些的操作。例如，構(gòu)思在另一操作之前、與其同時(shí)或在其之后實(shí)施或執(zhí)行特定的操作處于本發(fā)明的方面的范圍內(nèi)。當(dāng)介紹本發(fā)明或其實(shí)施例的方面或元件時(shí)，冠詞“一”、“一個(gè)”、“該”和“所述”意圖表示存在一個(gè)或多個(gè)元件。用語(yǔ)“包括”、“包含”和“具有”意圖是包括性的，并且表示可存在除了所列元件之外的另外的元件。該書(shū)面描述用示例來(lái)公開(kāi)包括最佳模式的本發(fā)明，并且還使本領(lǐng)域技術(shù)人員能實(shí)施本發(fā)明，包括制造和使用任何裝置或系統(tǒng)以及執(zhí)行任何包括在內(nèi)的方法。本發(fā)明的可專利范圍由所附權(quán)利要求所限定，并且可包括本領(lǐng)域技術(shù)人員想到的其它示例。如果這種其它示例具有與所附權(quán)利要求的字面語(yǔ)言沒(méi)有不同的結(jié)構(gòu)元件，或者如果它們包括與所附權(quán)利要求的字面語(yǔ)言無(wú)實(shí)質(zhì)差別的等同結(jié)構(gòu)元件，則這種其它示例意圖在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種電路保護(hù)裝置(100)，包括等離子槍(500)，所述等離子槍(500)構(gòu)造成用以沿軸線發(fā)射燒蝕性等離子體(532)；以及多個(gè)電極058)，所述多個(gè)電極058)中的每個(gè)電極058)電聯(lián)接至電路的相應(yīng)導(dǎo)體， 所述多個(gè)電極(258)大體上沿大體上垂直于所述軸線的平面布置，從而使得各所述電極 (258)與所述軸線大體上等距而定位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路保護(hù)裝置(100)，其特征在于，所述多個(gè)電極(258)沿所述平面彼此大體上等距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路保護(hù)裝置(100)，其特征在于，所述電路保護(hù)裝置(100) 還包括多個(gè)電極支架060)，所述多個(gè)電極支架(沈0)中的每個(gè)電極支架(沈0)構(gòu)造成用以支撐所述多個(gè)電極058)的相應(yīng)電極058)，從而使得能相對(duì)于所述軸線沿徑向方向調(diào)整相應(yīng)的所述電極058)的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路保護(hù)裝置(100)，其特征在于，所述等離子槍(500)包括第一部分(506)和第二部分(508)，所述第一部分(506)具有第一體積，所述第二部分 (508)具有大于所述第一體積的第二體積，并且，其中，腔室(504)由所述第一部分(506)和所述第二部分(508)限定，所述腔室(504)包括部分地延伸跨過(guò)所述第二部分(508)的開(kāi)口(520)，從而使得所述開(kāi)口(520)限定噴嘴(518)，并且所述多個(gè)電極Q58)中的每個(gè)電極與所述噴嘴(518)大體上軸向地等距而定位。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路保護(hù)裝置(100)，其特征在于，所述等離子槍(500)包括基座(516)以及聯(lián)接至所述基座(516)的蓋(514)，所述蓋(514)限定噴嘴(518)，并且所述多個(gè)電極058)中的每個(gè)電極與所述噴嘴(518)大體上軸向地等距而定位。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路保護(hù)裝置(100)，其特征在于，所述多個(gè)電極(258)中的每個(gè)電極包括第一端(402)和第二端004)，主體限定于它們之間，并且，其中，所述第二端 (404)為半球形的形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路保護(hù)裝置(100)，其特征在于，所述等離子槍(500)的位置能調(diào)整，從而使得由所述多個(gè)電極058)限定的所述平面不垂直于所述軸線。
8.一種用于電路保護(hù)裝置(100)的電弧引發(fā)系統(tǒng)，所述電弧引發(fā)系統(tǒng)包括控制器(106)，所述控制器(106)構(gòu)造成用以檢測(cè)電路中的電弧事件并在所述電路保護(hù)裝置(100)內(nèi)引發(fā)電??；可操作地聯(lián)接到所述控制器(106)上的等離子槍(500)，所述等離子槍(500)構(gòu)造成用以沿軸線發(fā)射燒蝕性等離子體(532)；以及多個(gè)電極058)，所述多個(gè)電極(258)中的每個(gè)電極(258)電聯(lián)接至所述電路的相應(yīng)導(dǎo)體，所述多個(gè)電極(258)大體上沿大體上垂直于所述軸線的平面布置，從而使得各所述電極(258)彼此大體上等距。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電弧引發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)電極(258)中的每個(gè)電極之間的相應(yīng)距離限定間隙，所述間隙的大小形成為用以從所述等離子槍(500)接收所述燒蝕性等離子體(532)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電弧引發(fā)系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)電極058)中的每個(gè)電極構(gòu)造成用以傳送大體上相等的電流量。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于電路保護(hù)裝置的電極與等離子槍構(gòu)造。具體而言，一種電路保護(hù)裝置(100)包括構(gòu)造成用以沿軸線發(fā)射燒蝕性等離子體(532)的等離子槍(500)，以及多個(gè)電極(258)，其中，各電極(258)電聯(lián)接至電路的相應(yīng)導(dǎo)體，并且大體上沿大體上垂直于該軸線的平面布置，從而使得各電極(258)與軸線大體上等距而定位。
文檔編號(hào)H05H1/34GK102404929SQ20111028416
公開(kāi)日2012年4月4日 申請(qǐng)日期2011年9月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月16日
發(fā)明者A·K·博霍里, D·A·羅巴奇, G·W·羅斯克, R·J·卡吉亞諾, S·A·卡特勒, T·阿索肯 申請(qǐng)人:通用電氣公司