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      加熱墊的制備方法

      文檔序號:8052575閱讀:450來源:國知局
      專利名稱:加熱墊的制備方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種加熱墊的制備方法,尤其涉及一種基于碳納米管的加熱墊的制備方法。
      背景技術(shù)
      從1991年日本科學(xué)家飯島澄男首次發(fā)現(xiàn)碳納米管(Carbon Nanotube, CNT)以來,以碳納米管為代表的納米材料以其獨特的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)引起了人們極大的關(guān)注。近幾年來,隨著碳納米管及納米材料研究的不斷深入,其廣闊應(yīng)用前景不斷顯現(xiàn)出來。由于碳納米管具有良好的電熱性能,故,碳納米管廣泛應(yīng)用于加熱領(lǐng)域?,F(xiàn)有技術(shù)揭示了一種從碳納米管陣列中拉取碳納米管膜作為加熱材料之應(yīng)用,然,由于直接從碳納米管陣列中拉取的單層碳納米管膜較為脆弱,不利于實際應(yīng)用。而簡單地將拉取后的多個單層碳納米管膜疊加增強(qiáng)其強(qiáng)度的方法,由于往往需要將上百層的碳納米管膜進(jìn)行反復(fù)疊力口,存在制備效率較低且方法難控等問題。

      發(fā)明內(nèi)容
      有鑒于此,確有必要提供一種簡單、快速制備加熱墊的方法。一種加熱墊的制備方法,包括:提供一旋轉(zhuǎn)軸,該旋轉(zhuǎn)軸為一柱體,且具有一旋轉(zhuǎn)軸心;提供一柔性基底,在所述柔性基底表面設(shè)置至少兩個電極,將所述柔性基底設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)軸表面,使所述柔性基底設(shè)置有電極的表面遠(yuǎn)離所述旋轉(zhuǎn)軸;提供一碳納米管陣列,從所述碳納米管陣列中拉取一碳納米管膜,并將所述碳納米管膜固定于所述柔性基底的表面;旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)軸,所述碳納米管膜連續(xù)地從所述碳納米管陣列中拉出并纏繞于所述柔性基底的表面,從而在所述柔性基底的表面形成一碳納米管層;以及將所述柔性基底及碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸軸心的直線斷開,從而形成所述加熱墊。一種加熱墊的制備方法,包括:提供一旋轉(zhuǎn)軸,該旋轉(zhuǎn)軸為一柱體,且具有一旋轉(zhuǎn)軸心;提供一柔性基底,將所述柔性基底設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)軸;提供一碳納米管陣列,從所述碳納米管陣列中拉取一碳納米管膜,并將所述碳納米管膜固定于所述柔性基底的表面;旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)軸,將所述碳納米管膜纏繞于所述柔性基底的表面,從而在所述柔性基底的表面形成一碳納米管層;
      將所述柔性基底及碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸的軸線斷開;以及在所述碳納米管層表面平行且間隔設(shè)置至少兩個電極。一種加熱墊的制備方法,包括:提供一旋轉(zhuǎn)軸,該旋轉(zhuǎn)軸為一柱體,且具有一旋轉(zhuǎn)軸心;提供一碳納米管陣列,從所述碳納米管陣列中拉取一碳納米管膜,并將所述碳納米管膜固定于所述旋轉(zhuǎn)軸的表面;旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)軸,將所述碳納米管膜纏繞于所述旋轉(zhuǎn)軸的表面,從而在所述旋轉(zhuǎn)軸的表面形成一碳納米管層;將所述碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸軸心的直線斷開并與所述旋轉(zhuǎn)軸脫離;以及在所述碳納米管層表面平行且間隔設(shè)置至少兩個電極。
      與現(xiàn)有技術(shù)相比較,本發(fā)明的制備方法通過從一碳納米管陣列中拉取獲得一碳納米管膜,并將該碳納米管膜快速纏繞于一旋轉(zhuǎn)軸,從而形成多層碳納米管膜相互堆疊的碳納米管層,然后將所述碳納米管層斷開,通過該方法可以快速高效地制備由多層碳納米管膜堆疊成的加熱墊。此外,在所述加熱墊中,所述柔性基底與碳納米管緊密結(jié)合使該加熱墊具有較好的機(jī)械強(qiáng)度。


      圖1為本發(fā)明第一實施例制備加熱墊的流程圖。圖2為本發(fā)明實施例中從碳納米管陣列中拉取獲得的碳納米管膜的掃描電鏡照片。圖3為本發(fā)明第二實施例制備加熱墊的流程圖。圖4為本發(fā)明第三實施例制備加熱墊的流程圖。主要元件符號說明
      權(quán)利要求
      1.一種加熱墊的制備方法,包括: 提供一旋轉(zhuǎn)軸,該旋轉(zhuǎn)軸為一柱體,且具有一旋轉(zhuǎn)軸心; 提供一柔性基底,在所述柔性基底表面設(shè)置至少兩個電極,將所述柔性基底設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)軸表面,使所述柔性基底設(shè)置有電極的表面遠(yuǎn)離所述旋轉(zhuǎn)軸; 提供一碳納米管陣列,從所述碳納米管陣列中拉取一碳納米管膜,并將所述碳納米管膜固定于所述柔性基底的表面; 旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)軸,所述碳納米管膜連續(xù)地從所述碳納米管陣列中拉出并纏繞于所述柔性基底的表面,從而在所述柔性基底的表面形成一碳納米管層;以及 將所述柔性基底及碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸軸心的直線斷開,從而形成所述加熱墊。
      2.如權(quán)利要求1所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,將所述碳納米管膜固定于所述柔性基底的表面后,該碳納米管膜與所述碳納米管陣列中碳納米管的延伸方向形成一夾角,該夾角在60° 90°之間。
      3.如權(quán)利要求2所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,該夾角在85° 90°之間。
      4.如權(quán)利要求3所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動的線速度為 5m/15m/s 之間。
      5.如權(quán)利要求1所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,將所述柔性基底設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)軸時,使該電極的延伸方向平行于所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向。
      6.如權(quán)利要求1所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,所述將柔性基底及碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸軸心的直線斷開的方法為機(jī)械切割法或激光燒蝕法。
      7.如權(quán)利要求1所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,進(jìn)一步包括沿任意兩個電極之間平行于旋轉(zhuǎn)軸軸心的直線將所述柔性基底及碳納米管層斷開。
      8.如權(quán)利要求1所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在所述旋轉(zhuǎn)軸的一側(cè)平行設(shè)置一滾軸,該滾軸在將所述碳納米管膜纏繞于所述柔性基底表面從而在形成所述碳納米管層的過程中,擠壓所述碳納米管層。
      9.如權(quán)利要求1所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,所述柔性基底的材料選自硅橡膠、聚氯乙烯、聚四氟乙烯和無紡布。
      10.如權(quán)利要求1所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,進(jìn)一步提供一第二柔性基底,并將所述第二柔性基底覆蓋在所述碳納米管層的表面,使該碳納米管層夾持在兩個柔性基底之間。
      11.一種加熱墊的制備方法,包括: 提供一旋轉(zhuǎn)軸,該旋轉(zhuǎn)軸為一柱體,且具有一旋轉(zhuǎn)軸心; 提供一柔性基底,將所述柔性基底設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)軸; 提供一碳納米管陣列,從所述碳納米管陣列中拉取一碳納米管膜,并將所述碳納米管膜固定于所述柔性基底的表面; 旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)軸,將所述碳納米管膜纏繞于所述柔性基底的表面,從而在所述柔性基底的表面形成一碳納米管層; 將所述柔性基底及碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸的軸線斷開;以及 在所述碳納米管層表面平行且間隔設(shè)置至少兩個電極。
      12.—種加熱墊的制備方法,包括: 提供一旋轉(zhuǎn)軸,該旋轉(zhuǎn)軸為一柱體,且具有一旋轉(zhuǎn)軸心; 提供一碳納米管陣列,從所述碳納米管陣列中拉取一碳納米管膜,并將所述碳納米管膜固定于所述旋轉(zhuǎn)軸的表面; 旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)軸,將所述碳納米管膜纏繞于所述旋轉(zhuǎn)軸的表面,從而在所述旋轉(zhuǎn)軸的表面形成一碳納米管層; 將所述碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸軸心的直線斷開并與所述旋轉(zhuǎn)軸脫離;以及 在所述碳納米管層表面平行且間隔設(shè)置至少兩個電極。
      13.如權(quán)利要求12所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,進(jìn)一步將所述碳納米管層鋪設(shè)于一柔性基板。
      14.如權(quán)利要求12所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,在將所述碳納米管膜固定于所述旋轉(zhuǎn)軸的表面之前,在所述旋轉(zhuǎn)軸的外表面預(yù)先形成一包覆層。
      15.如權(quán)利要求14所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,所述包覆層具有多個均勻分布的微孔,該微孔的直 徑可以為100微米 I毫米,相鄰的微孔之間的間距為10微米 100微米,該微孔的深度為I微米 I毫米。
      16.如權(quán)利要求15所述的加熱墊的制備方法,其特征在于,所述包覆層具有多個均勻分布的微孔,所述微孔的直徑和間距的比值大于等于5:1,且所述微孔的間距小于等于100微米。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種加熱墊的制備方法,包括提供一旋轉(zhuǎn)軸,該旋轉(zhuǎn)軸為一柱體,且具有一旋轉(zhuǎn)軸心;提供一柔性基底,在所述柔性基底表面設(shè)置多個電極,將所述柔性基底設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)軸表面,使所述柔性基底設(shè)置有電極的表面遠(yuǎn)離所述旋轉(zhuǎn)軸;提供一碳納米管陣列,從所述碳納米管陣列中拉取一碳納米管膜,并將所述碳納米管膜固定于所述柔性基底的表面;旋轉(zhuǎn)所述旋轉(zhuǎn)軸,所述碳納米管膜連續(xù)地從所述碳納米管陣列中拉出并纏繞于所述柔性基底的表面,從而在所述柔性基底的表面形成一碳納米管層;以及將所述柔性基底及碳納米管層沿平行于旋轉(zhuǎn)軸軸心的直線斷開,從而形成所述加熱墊。
      文檔編號H05B3/20GK103167645SQ201110408579
      公開日2013年6月19日 申請日期2011年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月9日
      發(fā)明者潛力, 王昱權(quán), 馮辰, 劉亮 申請人:北京富納特創(chuàng)新科技有限公司
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