專利名稱：一種還原爐降溫裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及還原爐，尤其是一種還原爐降溫裝置。
技術(shù)背景改良西門子法生產(chǎn)多晶硅的核心是還原系統(tǒng)，還原系統(tǒng)的還原爐是給氫氣和三氯氫硅在高溫條件下還原反應(yīng)提供場所的一種設(shè)備，所以還原爐降溫裝置對于整個系統(tǒng)影響很大，因此眾多生產(chǎn)成家采用的有機載熱體是導(dǎo)熱油，利用導(dǎo)熱油間接冷卻進行熱交換的一種方式，使還原爐靠簡單的熱量傳遞來降溫。但是導(dǎo)熱油在高溫狀態(tài)下都會發(fā)生劣化、氧化及熱油老化和使用壽命等原因會使多晶硅生產(chǎn)成本增加，它在熱量傳遞過程會產(chǎn)生局部過熱的危險，熱物料溫度控制不精確等造成工藝弊端；它的粘度、蒸汽壓、沸程、初餾點、閃點、燃點、流點、殘?zhí)?、運動黏度、酸值、 銅片腐蝕等物理性能決定了導(dǎo)熱油的質(zhì)量、生產(chǎn)安全、環(huán)境污染等。鑒于上述原因，還原爐降溫裝置需要改進。

實用新型內(nèi)容本實用新型目的是為了克服上述技術(shù)問題的不足，提供一種還原爐降溫裝置，確保還原爐降溫方式充分，同時將富余水蒸氣送往多晶硅生產(chǎn)的精餾裝置、空調(diào)采暖裝置、溴化鋰裝置等使用，降低多晶硅生產(chǎn)的投資成本和生產(chǎn)成本，節(jié)約了能源，提高效益，達到了還原系統(tǒng)操作穩(wěn)定、生產(chǎn)安全的目的，無污染，有利于環(huán)境保護。本實用新型為了實現(xiàn)上述的目的，采用如下的技術(shù)方案一種還原爐降溫裝置，是由軟化水進水管道，低溫軟化水下水管道，還原爐，還原爐殼程，高溫軟化水上水管道，軟化水汽包，除沫器，水蒸氣排氣管道，水蒸氣供氣總管道構(gòu)成；軟化水汽包頂部設(shè)置除沫器， 除沫器的上端設(shè)置水蒸氣排氣管道，水蒸氣排氣管道的上端設(shè)置水蒸氣供氣總管道；軟化水汽包一端的下部設(shè)置軟化水進水管道，軟化水汽包另一端的上部設(shè)置高溫軟化水上水管道，高溫軟化水上水管道的另一端設(shè)置在還原爐殼程頂部；軟化水汽包底部設(shè)置低溫軟化水下水管道，低溫軟化水下水管道的另一端設(shè)置在還原爐殼程下部的一側(cè)，還原爐殼程內(nèi)設(shè)置還原爐。本實用新型的工作原理常溫軟化水通過軟化水進水管道進入軟化水汽包，利用自身重力通過低溫軟化水下水管道進入還原爐的還原爐殼程，與還原爐內(nèi)壁充分熱量傳遞，熱量交換后的軟化水溫度升高，根據(jù)軟化水物理特殊性，溫度升高密度降低，密度高的向下運動，密度低的向上運動通過高溫軟化水上水管道進入軟化水汽包，在軟化水汽包內(nèi)密度高的向下運動通過低溫軟化水下水管道還原爐殼程，進行熱量交換形成內(nèi)循環(huán)。當(dāng)內(nèi)循環(huán)的軟化水達到指定溫度后會氣化形成水蒸氣，軟化水氣化后體積增大，使系統(tǒng)內(nèi)壓力增加，當(dāng)軟化水汽包內(nèi)達到指定壓力后如軟化水上部的水蒸氣進入除沫器，除沫器內(nèi)被分離出水后的水蒸氣通過水蒸氣排氣管道進入水蒸氣供氣總管道，水蒸氣供氣總管道把水蒸氣送往多晶硅生產(chǎn)的精餾裝置、空調(diào)采暖裝置、溴化鋰裝置等使用。水蒸氣不斷排出后，軟化水的液面會下降，當(dāng)達到指定液面后常溫軟化水通過軟化水進水管道進入軟化水汽包形成內(nèi)循環(huán)，內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)構(gòu)成還原爐環(huán)保實用型降溫裝置。本實用新型的有益效果是結(jié)構(gòu)簡單，改造方便，投資小、回收快，減排降耗，減少排放的污染、增加效益；節(jié)約了時間，節(jié)約了能源，降低生產(chǎn)成本，提高了產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)系統(tǒng)的安全性，同時保護了環(huán)境。
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明

圖1是本實用新型的總裝結(jié)構(gòu)示意圖；圖1中軟化水進水管道1，低溫軟化水下水管道2，還原爐3，還原爐殼程4，高溫軟化水上水管道5，軟化水汽包6，除沫器7，水蒸氣排氣管道8，水蒸氣供氣總管道9。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖與具體實施方式
對本實用新型作進一步說明如圖所示，軟化水汽包6頂部設(shè)置除沫器7，除沫器7的上端設(shè)置水蒸氣排氣管道 8，水蒸氣排氣管道8的上端設(shè)置水蒸氣供氣總管道9 ；軟化水汽包6—端的下部設(shè)置軟化水進水管道1，軟化水汽包6另一端的上部設(shè)置高溫軟化水上水管道5，高溫軟化水上水管道5的另一端設(shè)置在還原爐殼程4頂部；軟化水汽包6底部設(shè)置低溫軟化水下水管道2，低溫軟化水下水管道2的另一端設(shè)置在還原爐殼程4下部的一側(cè)，還原爐殼程4內(nèi)設(shè)置還原爐3。
權(quán)利要求1. 一種還原爐降溫裝置，是由軟化水進水管道(1)，低溫軟化水下水管道0)，還原爐 (3)，還原爐殼程(4)，高溫軟化水上水管道( ，軟化水汽包(6)，除沫器(7)，水蒸氣排氣管道(8)，水蒸氣供氣總管道(9)構(gòu)成，其特征在于軟化水汽包(6)頂部設(shè)置除沫器(7)，除沫器(7)的上端設(shè)置水蒸氣排氣管道(8)，水蒸氣排氣管道(8)的上端設(shè)置水蒸氣供氣總管道(9)；軟化水汽包(6) —端的下部設(shè)置軟化水進水管道(1)，軟化水汽包(6)另一端的上部設(shè)置高溫軟化水上水管道(5)，高溫軟化水上水管道( 的另一端設(shè)置在還原爐殼程(4) 頂部；軟化水汽包(6)底部設(shè)置低溫軟化水下水管道O)，低溫軟化水下水管道O)的另一端設(shè)置在還原爐殼程(4)下部的一側(cè)，還原爐殼程內(nèi)設(shè)置還原爐(3)。
專利摘要一種還原爐降溫裝置，確保還原爐降溫方式充分，同時將富余水蒸氣送往多晶硅生產(chǎn)的精餾裝置、空調(diào)采暖裝置、溴化鋰裝置等使用，降低多晶硅生產(chǎn)的投資成本和生產(chǎn)成本，節(jié)約了能源，提高效益，達到了還原系統(tǒng)操作穩(wěn)定、生產(chǎn)安全的目的，無污染，有利于環(huán)境保護。它由軟化水進水管道，低溫軟化水下水管道，還原爐，還原爐殼程，高溫軟化水上水管道，軟化水汽包，除沫器，水蒸氣排氣管道，水蒸氣供氣總管道構(gòu)成；結(jié)構(gòu)簡單，改造方便，投資小、回收快，節(jié)約了時間，減排降耗。
文檔編號C30B28/14GK201942792SQ201120002760
公開日2011年8月24日 申請日期2011年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月7日
發(fā)明者于振江, 張揚, 張智利, 易成剛, 楊龍軍, 馬麟 申請人:洛陽世紀新源硅業(yè)科技有限公司