專利名稱：箱體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及對高溫電子元器件箱體結(jié)構(gòu)的改進(jìn)。
背景技術(shù)：
在國防工業(yè)中，容納高溫電子元器件的箱體采用無氧銅制造，總共100多個零件， 釬焊而成，其內(nèi)腔為真空室，四周邊為冷卻水道，其中水槽密封性要求較高，耐壓2MPa，內(nèi)腔真空漏率<10-9Pam3/S。本產(chǎn)品在加工時，先分別加工各零件，采用不同溫度的焊料，釬焊 +電子束焊+釬焊。將多邊形平面板先釬焊，再用電子束焊拼焊成多邊形，目的是將豎焊縫轉(zhuǎn)換成水平焊縫，保證其密封性與焊縫強(qiáng)度，最后再用釬焊將法蘭焊上。主要技術(shù)難點(diǎn)焊縫多，尤其豎焊縫較多，難以保證其密性性與焊縫強(qiáng)度。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型針對以上問題，提供了一種能夠提高冷卻塊與真空室表面結(jié)合面積， 進(jìn)而提高兩者結(jié)合強(qiáng)度的箱體。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是包括底板、焊接固定在底板頂面的真空室和焊接在真空室頂口緣的頂部法蘭，在所述真空室的外壁上還焊接有冷卻塊，所述冷卻塊朝向真空室的表面上開設(shè)有回轉(zhuǎn)水槽，在水槽的兩端分別設(shè)有通向冷卻塊外側(cè)表面的進(jìn)口和出口。所述真空室的橫截面形狀為長八角形，在其八個外表面上分別焊接有冷卻塊。所述水槽的橫截面為內(nèi)大外小的Ω形。本實(shí)用新型的箱體呈八面形，相對于矩形箱體其散熱面積增加了 ；可以設(shè)置更多的冷卻塊。此外，冷卻塊的水槽橫截面上為內(nèi)大外小的Ω形這一方面能降低高壓冷卻介質(zhì)對真空室外壁產(chǎn)生沖擊力導(dǎo)致冷卻塊焊縫承受反作用力；另一方面也增加了冷卻塊與箱體外壁焊接時的焊接面積(釬焊)。本實(shí)用新型的箱體冷卻部件的焊接強(qiáng)度相對于現(xiàn)有技術(shù)更高，使得產(chǎn)品冷卻介質(zhì)的密封性更高。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是圖1中A-A剖視圖，圖3是本實(shí)用新型的立體示意圖，圖4是本實(shí)用新型中冷卻塊的結(jié)構(gòu)示意圖，圖5是圖4的俯視圖，圖6是圖4的左視圖，圖7是圖4的后視圖，圖8是圖7中B-B剖視圖；圖中1是底板，2是頂部法蘭，3是真空室，4是冷卻塊，40是水槽，41是進(jìn)口，42是出口。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型如圖1-8所示，包括底板1、焊接固定在底板1頂面的真空室3和焊接在真空室3頂口緣的頂部法蘭2，在所述真空室3的外壁上還焊接有冷卻塊4，所述冷卻塊 4朝向真空室3的表面上開設(shè)有回轉(zhuǎn)水槽40，在水槽40的兩端分別設(shè)有通向冷卻塊4外側(cè)表面的進(jìn)口 41和出口 42。所述真空室3的橫截面形狀為長八角形，在其八個外表面上分別焊接有冷卻塊4。所述水槽40的橫截面為內(nèi)大外小的Ω形。這一方面能降低高壓冷卻介質(zhì)對真空室外壁產(chǎn)生沖擊力導(dǎo)致冷卻塊焊縫承受反作用力；另一方面也增加了冷卻塊與箱體外壁焊接時的焊接面積(釬焊)。
權(quán)利要求1.箱體，包括底板、焊接固定在底板頂面的真空室和焊接在真空室頂口緣的頂部法蘭， 其特征在于，在所述真空室的外壁上還焊接有冷卻塊，所述冷卻塊朝向真空室的表面上開設(shè)有回轉(zhuǎn)水槽，在水槽的兩端分別設(shè)有通向冷卻塊外側(cè)表面的進(jìn)口和出口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的箱體，其特征在于，所述真空室的橫截面形狀為長八角形，在其八個外表面上分別焊接有冷卻塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的箱體，其特征在于，所述水槽的橫截面為內(nèi)大外小的Ω形。
專利摘要箱體。涉及對高溫電子元器件箱體結(jié)構(gòu)的改進(jìn)。提供了一種能夠提高冷卻塊與真空室表面結(jié)合面積，進(jìn)而提高兩者結(jié)合強(qiáng)度的箱體。包括底板、焊接固定在底板頂面的真空室和焊接在真空室頂口緣的頂部法蘭，在真空室的外壁上還焊接有冷卻塊，冷卻塊朝向真空室的表面上開設(shè)有回轉(zhuǎn)水槽，在水槽的兩端分別設(shè)有通向冷卻塊外側(cè)表面的進(jìn)口和出口。箱體呈八面形，可以設(shè)置更多的冷卻塊。此外，冷卻塊的水槽橫截面上為內(nèi)大外小的Ω形這一方面能降低高壓冷卻介質(zhì)對真空室外壁產(chǎn)生沖擊力導(dǎo)致冷卻塊焊縫承受反作用力；另一方面也增加了冷卻塊與箱體外壁焊接時的焊接面積(釬焊)。箱體的冷卻部件的焊接強(qiáng)度相對于現(xiàn)有技術(shù)更高，使得產(chǎn)品冷卻介質(zhì)的密封性更高。
文檔編號H05K5/00GK202262210SQ20112039334
公開日2012年5月30日 申請日期2011年10月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月14日
發(fā)明者萬恒龍, 劉偉, 季輝, 曾天俊, 楊濤 申請人:揚(yáng)州恒星精密機(jī)械有限公司