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      一種摻鐠氟化釔鋰晶體生長(zhǎng)方法

      文檔序號(hào):8154859閱讀:1091來(lái)源:國(guó)知局
      專(zhuān)利名稱(chēng):一種摻鐠氟化釔鋰晶體生長(zhǎng)方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及單晶生長(zhǎng)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種摻鐠氟化釔鋰晶體生長(zhǎng)方法。
      背景技術(shù)
      Pr:YLF為四方晶系白鎢礦結(jié)構(gòu),YLF在強(qiáng)紫外光輻照下不會(huì)發(fā)生光損傷,摻入鐠離子,可實(shí)現(xiàn)室溫下激光躍遷,發(fā)射激光波長(zhǎng)為607nm和640nm,目前國(guó)內(nèi)采用坩堝下降法制取,通過(guò)電阻加熱,熔化在坩堝內(nèi)的混合原料,通過(guò)下種,縮頸,等徑等操作,生長(zhǎng)出一定方向的晶體,但是用坩堝下降法制取的Pr:YLF容易產(chǎn)生開(kāi)裂,晶體生長(zhǎng)完整性差、尺寸小,難以實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明是為了克服背景技術(shù)所存在的不足之處,提出一種生長(zhǎng)晶體完整性好,無(wú)氣泡無(wú)包絡(luò)物,晶體尺寸大,不易開(kāi)裂,成品率高。本發(fā)明提出的一種摻鐠氟化釔鋰晶體生長(zhǎng)方法,包括以下步驟將PrF3和LiF、YF3混合粉體和種晶放入鉬坩堝;將鉬坩堝放入單晶爐中,將單晶爐內(nèi)通入氮?dú)猓徊捎瞄_(kāi)放式提拉法生長(zhǎng)摻鐯氟化釔鋰單晶。所述的PrF3 和 LiF、YF3 的純度均> 99. 99%。所述的PrF3 和 LiF、YF3 摩爾比為 O. 02 I 0.98。所述的鉬坩堝放入單晶爐后在300°C中處理2小時(shí)。所述的鉬坩堝厚度為O. 5-0. 8mm。所述的種晶為A方向YLF單晶。所述的采用開(kāi)放式提拉法生長(zhǎng)摻鐯氟化釔鋰時(shí),爐溫控制在600-100(TC,生長(zhǎng)溫度梯度在60-90°C /cm,上升速度O. 5mm/h。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,生長(zhǎng)過(guò)程中揮發(fā)物少,生長(zhǎng)晶體完整性好,無(wú)氣泡無(wú)包絡(luò)物,成品率高,晶體尺寸大,不易開(kāi)裂,工藝設(shè)備簡(jiǎn)單,能耗低,有利于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。


      圖I為本發(fā)明的工藝流程示意圖。
      具體實(shí)施例方式參照?qǐng)D1,為本發(fā)明的工藝流程示意圖。實(shí)施例I :本實(shí)施例按如下步驟進(jìn)行I、將純度大于99. 99%,摩爾比為O. 02 : I : O. 98的PrF3和LiF、YF3粉體混合后與A方向YLF單晶放入到厚度為O. 5mm的鉬坩堝中。
      2、將鉬坩堝放入單晶爐中,升溫至300°C持續(xù)2小時(shí),然后將單晶爐內(nèi)通入氮?dú)猓倮^續(xù)升溫至原料完全熔化。3、當(dāng)原料完全熔化后,將爐溫控制在600°C,然后用YLF單晶以lOcm/h的速度下種、生長(zhǎng)溫度梯度為60°C /cm、上升速度O. 5mm/h的開(kāi)放式提拉法生長(zhǎng)摻鐯氟化釔鋰,生長(zhǎng)周期10天得到Pr = YLF晶體。經(jīng)測(cè)得晶體密度3. 99g/cm3,熔點(diǎn)980°C。莫氏硬度4_5,熱導(dǎo)率 O. 06ff/cm · K,折射率 nO = I. 433。實(shí)施例2 :本實(shí)施例按如下步驟進(jìn)行
      I、將純度大于99. 99%,摩爾比為O. 02 : I : O. 98的PrF3和LiF、YF3粉體混合后與A方向YLF單晶放入到厚度為O. 8mm的鉬坩堝中。2、將鉬坩堝放入單晶爐中,升溫至300°C持續(xù)2小時(shí),然后將單晶爐內(nèi)通入氮?dú)猓倮^續(xù)升溫至原料完全熔化。3、當(dāng)原料完全熔化后,將爐溫控制在1000°C,然后用YLF單晶以10cm/h的速度下種、生長(zhǎng)溫度梯度為90°C /cm、上升速度O. 5mm/h的開(kāi)放式提拉法生長(zhǎng)摻鐯氟化釔鋰,生長(zhǎng)周期10天得到Pr = YLF晶體。經(jīng)測(cè)得晶體密度3. 99g/cm3,熔點(diǎn)980°C。莫氏硬度4_5,熱導(dǎo)率 O. 06ff/cm · K,折射率 nO = I. 433。
      權(quán)利要求
      1.一種摻鐠氟化釔鋰晶體生長(zhǎng)方法,包括以下步驟將PrF3和LiF、YF3混合粉體和種晶放入鉬坩堝;將鉬坩堝放入單晶爐中,將單晶爐內(nèi)通入氮?dú)猓徊捎瞄_(kāi)放式提拉法生長(zhǎng)摻鐯氟化釔鋰單晶。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述的PrF3和LiF、YF3的純度均>99. 99%。
      3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述的PrF3和LiF、YF3摩爾比為0.02 I 0.98ο
      4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述的鉬坩堝放入單晶爐后先在300°C中處理2小時(shí)。
      5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述的鉬坩堝厚度為O.5-0. 8mm。
      6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述的種晶為A方向YLF單晶。
      7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,所述的采用開(kāi)放式提拉法生長(zhǎng)摻鐯氟化釔鋰時(shí),爐溫控制在600-1000°C,生長(zhǎng)溫度梯度在60-90°C /cm,上升速度O. 5mm/h。
      全文摘要
      一種摻鐠氟化釔鋰晶體生長(zhǎng)方法,它涉及單晶生長(zhǎng)技術(shù)領(lǐng)域。包括步驟將PrF3和LiF、YF3混合粉體和種晶放入鉑坩堝;將鉑坩堝放入單晶爐中,將單晶爐內(nèi)通入氮?dú)?;采用開(kāi)放式提拉法生長(zhǎng)摻鐠氟化釔鋰單晶。本發(fā)明在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中揮發(fā)物少,生長(zhǎng)晶體完整性好,無(wú)氣泡無(wú)包絡(luò)物,成品率高,晶體尺寸大,不易開(kāi)裂,工藝設(shè)備簡(jiǎn)單,能耗低,有利于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。
      文檔編號(hào)C30B15/00GK102925973SQ20121044898
      公開(kāi)日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2012年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月31日
      發(fā)明者王冬, 胡衛(wèi)東 申請(qǐng)人:合肥嘉東科技有限公司
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