專利名稱：氣體濃度控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體工藝氣體濃度控制領(lǐng)域，特別涉及氣度濃度控制裝置、系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
硅片是一種重要的半導(dǎo)體材料，它的加工工藝，特別是外延工藝，隨著硅片直徑增大，集成電路的結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，器件的性能要求越來越高，娃外延片在娃材料中的比重越來越大，同時對其參數(shù)的要求也進(jìn)一步提高。其中外延層厚度是一個關(guān)鍵參數(shù)，因而必須精確控制。例如，控制外延層厚度以保證埋層的外擴(kuò)散和自摻雜不會消耗外延層，另外，一些雙極型器件的參數(shù)，如擊穿電壓、結(jié)電容、晶體管增益和交流特性，都取決于外延層厚度。根據(jù)Grove外延膜生長模型，外延膜的生長速率正比于氣體中反應(yīng)物的摩爾分?jǐn)?shù)，因而精確控制控制源氣體濃度就至關(guān)重要。目前的外延工藝多數(shù)采用粗略控制，或者是采用液體氣相控制器(LVC)作為氣體濃度控制器件。但是，這些控制方法的穩(wěn)定性，均勻性和可重復(fù)性·差，其控制效果會隨著工藝條件的不同而產(chǎn)生波動，從而降低外延片的成品率。

實(shí)用新型內(nèi)容(一)要解決的技術(shù)問題本實(shí)用新型的目的是設(shè)計一種控制精度高、使用范圍廣泛的氣體濃度控制裝置、系統(tǒng)及其控制方法，以克服現(xiàn)有技術(shù)的不足。(二)技術(shù)方案一種氣體濃度控制裝置，所述裝置包括進(jìn)口氣路單元，用于控制、過濾、調(diào)節(jié)以及顯示進(jìn)口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶；源瓶，用于存放源氣體；出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元;流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。其中，所述進(jìn)口氣路單元中，依次連接有單向閥，手動閥，過濾器，調(diào)壓閥，壓力表及其顯示單元，氣動閥。其中，所述出口氣路單元中，依次連接有壓力表及其顯示單元，手動閥。其中，所述氣體濃度檢測單元為氣體濃度傳感器。其中，所述流量控制單元為質(zhì)量流量控制器。(三)有益效果本實(shí)用新型的氣體濃度控制裝置擴(kuò)展性強(qiáng)，控制精度高，可靠性、可重復(fù)性和穩(wěn)定性好。

圖I為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的氣路原理示意圖；圖I中(1)單向閥；(2)手動閥；(3)過濾器；(4)調(diào)壓閥；(5)壓力表顯示單元；
(6)壓力表；(7)氣動閥；(8)源瓶；(90氣體濃度傳感器；(10)質(zhì)量流量控制器。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。如圖I所示，為本實(shí)用新型提供的裝置的氣路原理示意圖。該裝置包括進(jìn)口氣路控制單元包括單向閥(1)，手動閥(2)，過濾器(3)，調(diào)壓閥(4)，壓力表
(6)以及氣動閥門(7)，用于控制、過濾、調(diào)節(jié)以及顯示進(jìn)口氣體壓力，并將處理好的氣體通入源瓶中；出口氣路控制單元包括壓力表(6)及其顯示單元(5)和手動閥(2)，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶(8)出口混合氣體通入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元用于檢測攜帶源氣體的濃度，并與流量控制單元相連；流量控制單元用于控制氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。以上實(shí)施方式僅用于說明本實(shí)用新型，而并非對本實(shí)用新型的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本實(shí)用新型的范疇，本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求1.一種氣體濃度控制裝置，其特征在于，所述裝置包括 進(jìn)口氣路單元，用于控制、過濾、調(diào)節(jié)以及顯示進(jìn)口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶； 源瓶，用于存放源氣體； 出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元； 氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元； 流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。
2.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于，所述進(jìn)口氣路單元中，依次連接有單向閥，手動閥，過濾器，調(diào)壓閥,壓力表及其顯示單元,氣動閥。
3.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于，所述出口氣路單元中，依次連接有壓力表及其顯示單元,手動閥。
4.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于，所述氣體濃度檢測單元為氣體濃度傳感器。
5.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于，所述流量控制單元為質(zhì)量流量控制器。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種氣體濃度控制裝置，所述裝置包括進(jìn)口氣路單元，用于控制、過濾、調(diào)節(jié)以及顯示進(jìn)口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶；源瓶，用于存放源氣體；出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元；流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。本實(shí)用新型的氣體濃度控制裝置擴(kuò)展性強(qiáng)，控制精度高，可靠性、可重復(fù)性和穩(wěn)定性好。
文檔編號C30B23/02GK202705565SQ201220320628
公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月3日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月3日
發(fā)明者崔娟娟, 程朝陽, 劉俊豪, 馬超 申請人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司