一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，包括進料腔、反應(yīng)腔、電極組件、高頻電源、出料腔和負壓裝置，反應(yīng)腔一側(cè)設(shè)置有進料口和氣體入口，反應(yīng)腔另一側(cè)設(shè)置有出料口，反應(yīng)腔進料口端高于反應(yīng)腔出料口端并與水平面傾斜放置，進料腔與進料口連接，出料腔與出料口連接，反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置有攪拌機構(gòu)，電極組件設(shè)置于反應(yīng)腔外表面，高頻電源與電極組件電連接，負壓裝置與出料腔連接。本發(fā)明進料腔中的顆粒材料從進料口進入反應(yīng)腔，關(guān)閉進料口，負壓裝置將反應(yīng)腔和出料腔抽真空，高頻電源激發(fā)電極組件生成電場，反應(yīng)氣體從氣體入口進入反應(yīng)腔并經(jīng)過電場電離對顆粒材料表面等離子處理，攪拌機構(gòu)對顆粒材料進行攪拌，使得處理更加均勻，提高處理效果。
【專利說明】一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于等離子體處理裝置領(lǐng)域，更具體的說是涉及一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]等離子體是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。
[0003]目前，等離子體裝置一般的是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，他們發(fā)生碰撞而形成離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的材料表面引起化學(xué)反應(yīng)，從而使材料表面的結(jié)構(gòu)、成分和基團發(fā)生變化，得到滿足實際要求的表面。等離子體反應(yīng)速度快、處理效率高，而且改性僅發(fā)生在材料表面，對材料內(nèi)部本體材料的性能沒有影響，是理想的表面改性手段。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，顆粒材料的等離子體處理過程中，由于顆粒材料的堆積特性，容易造成材料堆積，導(dǎo)致材料處理不均勻，處理效果不理想。
[0005]因此，亟需一種顆粒材料等離子體處理裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置。
[0007]實現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案是:一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，包括進料腔、反應(yīng)腔、電極組件、高頻電源、出料腔和負壓裝置，所述反應(yīng)腔一側(cè)設(shè)置有進料口和用于反應(yīng)氣體通入的氣體入口，所述反應(yīng)腔另一側(cè)設(shè)置有出料口，反應(yīng)腔進料口端高于反應(yīng)腔出料口端并與水平面傾斜角度A放置，所述進料腔與所述進料口連接，所述出料腔與所述出料口連接，所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置有攪拌機構(gòu)，所述電極組件設(shè)置于所述反應(yīng)腔外表面，所述高頻電源與所述電極組件電連接，所述負壓裝置與所述出料腔連接。
[0008]進一步的，所述角度A為5°?60。。
[0009]進一步的，所述電極組件為一對對稱設(shè)置的環(huán)形電極。
[0010]進一步的，所述攪拌機構(gòu)包括攪拌軸和設(shè)置于所述攪拌軸上的攪拌葉片。
[0011]進一步的，所述進料腔包括進料腔本體和與所述進料腔本體連接的螺桿送料機構(gòu)，所述螺桿送料機構(gòu)出口與所述進料口連接，所述進料腔本體還與所述負壓裝置連接。
[0012]進一步的，所述螺桿送料機構(gòu)包括外殼、設(shè)置于所述外殼內(nèi)的進料軸和設(shè)置于所述進料軸上的進料葉片，所述進料軸沿進料方向設(shè)置。
[0013]進一步的，所述進料葉片沿進料方向螺旋狀設(shè)置于所述進料軸上，所述進料葉片頂部與所述進料腔本體內(nèi)壁相切設(shè)置。
[0014]本發(fā)明具有積極的效果:本發(fā)明進料腔中的顆粒材料從進料口進入反應(yīng)腔中，關(guān)閉進料口，負壓裝置將反應(yīng)腔和出料腔抽真空，高頻電源激發(fā)電極組件生成電場，反應(yīng)氣體從氣體入口進入反應(yīng)腔并經(jīng)過電場電離，電離后的反應(yīng)氣體對顆粒材料表面等離子處理，同時，攪拌機構(gòu)對顆粒材料進行攪拌，使得處理更加均勻，提高處理效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實施例并結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進一步詳細的說明，其中:
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]其中:1、出料腔，2、出料口，3、負壓裝置，4、反應(yīng)腔，5、電極組件，6、進料口，7、進料腔本體，8、氣體入口，9、攪拌機構(gòu)，IO、螺桿送料機構(gòu)。
【具體實施方式】
[0017]實施例1
如圖1所示，作為第一優(yōu)選實施例，本實施例提供一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，包括進料腔、反應(yīng)腔4、電極組件5、高頻電源(圖中未示出)、出料腔I和負壓裝置3，反應(yīng)腔4右側(cè)設(shè)置有進料口 6和用于反應(yīng)氣體通入的氣體入口 8，反應(yīng)腔4左側(cè)設(shè)置有出料口2，反應(yīng)腔4進料口端高于反應(yīng)腔4出料口端并與水平面傾斜角度5°?60°放置，本實施例優(yōu)選10°放置；進料腔與進料口連接，出料腔I與出料口 2連接，反應(yīng)腔4內(nèi)設(shè)置有攪拌機構(gòu)9，電極組件5為一對對稱設(shè)置的環(huán)形電極，電極組件5設(shè)置于反應(yīng)腔4的外表面，高頻電源與電極組件5電連接，負壓裝置3與出料腔I連接。
[0018]下面對本實施例的工作原理作進一步說明:進料腔中的顆粒材料從進料口 6進入反應(yīng)腔4中，關(guān)閉進料口 6，負壓裝置3將反應(yīng)腔4和出料腔I抽真空，高頻電源激發(fā)電極組件5生成電場，反應(yīng)氣體從氣體入口 8進入反應(yīng)腔4并經(jīng)過電場電離，電離后的反應(yīng)氣體對顆粒材料表面等離子處理，同時，攪拌機構(gòu)9對顆粒材料進行攪拌，使得處理更加均勻，提高處理效果。
[0019]實施例2
作為第二優(yōu)選實施例，其余與實施例1相同，不同之處在于，本實施例提供的進料腔包括進料腔本體7和與進料腔本體7連接的螺桿送料機構(gòu)10，螺桿送料機構(gòu)10出口與進料口6連接，進料腔本體7還與負壓裝置3連接；攪拌機構(gòu)9包括攪拌軸和設(shè)置于攪拌軸上的攪拌葉片。
[0020]本實施例提供的螺桿送料機構(gòu)10包括外殼、設(shè)置于外殼內(nèi)的進料軸和設(shè)置于進料軸上的進料葉片，進料軸沿進料方向設(shè)置，螺桿送料機構(gòu)10的出口與進料口 2連接，進料葉片沿進料方向螺旋狀設(shè)置于進料軸上，并且進料葉片頂部與進料腔本體內(nèi)壁相切設(shè)置。
[0021]本實施例中進料腔本體7中裝滿顆粒材料，負壓裝置3將進料腔本體7、反應(yīng)腔4和出料腔I中抽真空，螺桿送料機構(gòu)10緩慢的向進料腔4中送料，實現(xiàn)均勻處理的效果。
[0022]以上所述的具體實施例，對本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進行了進一步詳細說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，其特征在于，包括進料腔、反應(yīng)腔、電極組件、高頻電源、出料腔和負壓裝置，所述反應(yīng)腔一側(cè)設(shè)置有進料口和用于反應(yīng)氣體通入的氣體入口，所述反應(yīng)腔另一側(cè)設(shè)置有出料口，反應(yīng)腔進料口端高于反應(yīng)腔出料口端并與水平面傾斜角度A放置，所述進料腔與所述進料口連接，所述出料腔與所述出料口連接，所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置有攪拌機構(gòu)，所述電極組件設(shè)置于所述反應(yīng)腔外表面，所述高頻電源與所述電極組件電連接，所述負壓裝置與所述出料腔連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，其特征在于，所述角度A為5。?60°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，其特征在于，所述電極組件為一對對稱設(shè)置的環(huán)形電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，其特征在于，所述攪拌機構(gòu)包括攪拌軸和設(shè)置于所述攪拌軸上的攪拌葉片。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，其特征在于，所述進料腔包括進料腔本體和與所述進料腔本體連接的螺桿送料機構(gòu)，所述螺桿送料機構(gòu)出口與所述進料口連接，所述進料腔本體還與負壓裝置連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，其特征在于，所述螺桿送料機構(gòu)包括外殼、設(shè)置于所述外殼內(nèi)的進料軸和設(shè)置于所述進料軸上的進料葉片，所述進料軸沿進料方向設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顆粒材料旋轉(zhuǎn)等離子體處理裝置，其特征在于，所述進料葉片沿進料方向螺旋狀設(shè)置于所述進料軸上，所述進料葉片頂部與所述進料腔本體內(nèi)壁相切設(shè)置。
【文檔編號】H05H1/46GK103687269SQ201310667056
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年12月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月11日
【發(fā)明者】沈文凱, 王紅衛(wèi) 申請人:蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司