一種射流等離子體水冷噴槍的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種射流等離子體水冷噴槍，包括高頻電源、陽極套管以及陰極，所述陰極設于所述陽極套管的中間，所述陽極套管和陰極分別連接到高頻電源的正負電極，所述陽極套管中設有一層外夾層水冷通道層。該等離子體噴槍在兩個電極之間通入氣體，這些氣體在穿過電場之間便產(chǎn)生了高溫等離子體，由于在陽極套管間設有水冷夾層，高溫的等離子氣體會被冷卻，成為等離子體流。本實用新型處理溫度低、并且不需要負壓條件，使其在普通的大氣環(huán)境下也能工作，更好地處理材料，使得材料表面改性處理效果較好。
【專利說明】一種射流等離子體水冷噴槍
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于等離子體處理裝置，具體涉及一種射流等離子體水冷噴槍。
【背景技術】
[0002]材料表面改性處理技術是當前普遍使用的材料制備技術之一，它是在一定的外界條件下，材料外部物質(zhì)和材料表面發(fā)生物理或化學反應，從而使材料表面狀態(tài)發(fā)生變化或在材料表面產(chǎn)生新的元素和新的基團，最終滿足實際應用的需要。
[0003]但是，現(xiàn)代工業(yè)的迅猛發(fā)展對材料耐磨擦、磨損和抗腐蝕等性能提出了更高的要求，與此同時，對環(huán)保的要求也越來越高，從而有力地推動被稱為綠色生產(chǎn)工藝的材料等離子表面改性技術的不斷發(fā)展。在真空下，給反應氣體環(huán)境施加高頻電場，氣體在高頻電場的激勵下電離產(chǎn)生等離子體。
[0004]然而，高溫等離子體由于高溫而不適合處理敏感類物料，因此亟需一種產(chǎn)生較低溫的等離子體的裝置。
實用新型內(nèi)容
[0005]為了解決現(xiàn)有技術中存在的上述問題，提供一種射流等離子體水冷噴槍。
[0006]本實用新型所采用的技術方案是:一種射流等離子體噴槍，包括高頻電源、陽極套管以及陰極，上述陰極設于上述陽極套管的中間，上述陽極套管和陰極分別連接到電源的正負電極，上述陽極套管中設有一層外夾層水冷通道層。
[0007]優(yōu)選的，上述噴槍噴頭端直徑細于噴槍槍體直徑。
[0008]優(yōu)選的，上述陽極套管形成的噴槍噴頭端還內(nèi)設水冷層，所述水冷層與陽極套管中設有外夾層水冷通道層相通。
[0009]優(yōu)選的，上述陰極的末端設有防止所述陰極末端和所述陽極套管放電的絕緣層。
[0010]優(yōu)選的，上述陰極到陽極套管內(nèi)腔壁兩端距離相等。
[0011]優(yōu)選的，上述高頻電源的頻率范圍為IOKhz — lOOKhz。
[0012]采用本技術方案的有益效果是:一種射流等離子體噴槍，包括高頻電源、陽極套管以及陰極，所述陰極設于所述陽極套管的中間，所述陽極套管和陰極分別連接到電源的正負電極，所述陽極套管中設有一層外夾層水冷通道層。該等離子體噴槍在兩個電極之間通入氣體，這些氣體在穿過電場之間便產(chǎn)生了高溫等離子體，由于在陽極套管間設有水冷夾層，高溫的等離子氣體會被冷卻，成為等離子體流，本實用新型處理溫度低、并且不需要負壓條件，使其在普通的大氣環(huán)境下也能工作，更好地處理材料，使得材料表面改性處理效果較好。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實施例并結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進一步詳細的說明，其中:[0014]圖1是本實用新型實施例1的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖中，1.陰極2.陽極套管3.水冷通道層4.氣體5.等離子體流6.水冷層?！揪唧w實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖詳細說明本實用新型的具體實施例。
[0017]實施例1
[0018]如圖1所示，一種射流等離子體水冷噴槍，包括高頻電源、陽極套管以及陰極，陰極I設于陽極套管2的中間，所述陽極套管2和陰極I分別連接到電源的正負電極，上陽極套管2上還設有一層外夾層水冷層通道3層。陰極管I的噴口端呈圓錐形，錐尖處設成圓弧向外的半圓狀，放電均勻，可以避免尖端放電，陽極套管2的噴頭直徑小于噴槍的槍體直徑。陰極的末端設有防止陰極末端和陽極套管放電的絕緣層(圖中未標出)，該等離子體噴槍在兩個電極之間通入氣體，這些氣體在穿過電場之間便放電產(chǎn)成了等離子體氣流，由于在陽極套管間設有水冷夾層通道，高溫的等離子氣體會被冷卻，成為等離子體流，可以處理敏感材料。
[0019]采用高頻電源，高頻電源的頻率范圍在IOKhz — lOOKhz，高頻電源通電后，陽極套管2和陰極I便被接通，中間的氣體4放電產(chǎn)生離子體，等離子體為高溫等離子體，陽極套管2上設有一層外夾層水冷通道層3，水冷從水冷通道3流入水冷層6，高溫等離子體經(jīng)過冷卻處理產(chǎn)生等離子體流5，等離子流5再經(jīng)過噴槍口噴出處理被處理物料。本裝置處理溫度低、并且不需要負壓條件，使其在普通的大氣環(huán)境下也能工作，更好地處理材料，使得材料表面改性處理效果較好。
[0020]本實用新型的有益效果是:一種射流等離子體噴槍，包括高頻電源、陽極套管以及陰極，所述陰極設于所述陽極套管的中間，所述陽極套管和陰極分別連接到電源的正負電極，所述陽極套管中設有一層外夾層水冷通道層。該等離子體噴槍在兩個電極之間通入氣體，這些氣體在穿過電場之間便產(chǎn)生了高溫等離子體，由于在陽極套管間設有水冷夾層，高溫的等離子氣體會被冷卻，成為等離子體流，本實用新型處理溫度低、并且不需要負壓條件，使其在普通的大氣環(huán)境下也能工作，更好地處理材料，使得材料表面改性處理效果較好。
[0021]以上所述的僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.一種射流等離子體噴槍，包括高頻電源、陽極套管以及陰極，所述陰極設于所述陽極套管的中間，所述陽極套管和陰極分別連接到電源的正負電極，其特征在于，所述陽極套管中設有一層外夾層水冷通道層。
2.根據(jù)權利要求1所述的射流等離子體噴槍，其特征在于，所述噴槍噴頭端直徑細于噴槍槍體直徑。
3.根據(jù)權利要求1所述的射流等離子體噴槍，其特征在于，所述陽極套管形成的噴槍噴頭端還內(nèi)設水冷層，所述水冷層與陽極套管中設有外夾層水冷通道層相通。
4.根據(jù)權利要求1所述的射流等離子體噴槍，其特征在于，所述陰極的末端設有防止所述陰極末端和所述陽極套管放電的絕緣層。
5.根據(jù)權利要求1所述的射流等離子體噴槍，其特征在于，所述陰極到陽極套管內(nèi)腔壁兩端距離相等。
6.權利要求1所述的射流等離子體噴槍，其特征在于，所述高頻電源的頻率范圍為IOKhz — IOOKhz。
【文檔編號】H05H1/28GK203590582SQ201320753785
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2013年11月26日 優(yōu)先權日:2013年11月26日
【發(fā)明者】沈文凱, 王紅衛(wèi) 申請人:蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司